JPS6139937U - 拡散炉型気相成長装置 - Google Patents

拡散炉型気相成長装置

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JPS6139937U
JPS6139937U JP12524784U JP12524784U JPS6139937U JP S6139937 U JPS6139937 U JP S6139937U JP 12524784 U JP12524784 U JP 12524784U JP 12524784 U JP12524784 U JP 12524784U JP S6139937 U JPS6139937 U JP S6139937U
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JP
Japan
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vapor phase
phase growth
diffusion furnace
furnace type
type vapor
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JP12524784U
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幸男 両角
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、一従来の拡散炉型成長装置の概略図。 第２図は本発明の第１の実施例の断面図、第３ａ〜Ｃは
、本発明の保護管の実施例の図、−第４図は本発明第２
の実施例の断面図。 第５図は、本発明の保護管の他の例の図を示す。 １・・・・・・ヒ−タ＋、２・・・・・・反応管、３・
・・・・・ボート、４・・・・・・半導体基板、５・・
・・・・排気装置、９・・曲ガラス状付着物、１０・・
・・・・保護管、１５・・曲内管、２０・・・・・・石
英パイプ。

Claims (3)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）減圧下でガスを導入させて薄膜を成長させる反応
    装置に於いて、減圧領域を形成する反応管の内部排気側
    に、移動可能な保護管を具備した事を特徴とする拡散炉
    型気相成長装置。
  2. （２）実用新案登録請求の範囲第１項に於いて、反応管
    の内面と保護管の外面間隔が１２ｍ／ｍ以下である事を
    特徴とする拡散炉型気相成長装置。
  3. （３）実用新案登録請求の範囲第１項に於いて、保′護
    管が排ガストラップを兼ね、且つ反応加熱領域内に具備
    されている事を特徴とする拡散炉型気相成長装置。
JP12524784U 1984-08-17 1984-08-17 拡散炉型気相成長装置 Pending JPS6139937U (ja)

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JP12524784U JPS6139937U (ja) 1984-08-17 1984-08-17 拡散炉型気相成長装置

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JPS6139937U true JPS6139937U (ja) 1986-03-13

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH022617A (ja) * 1988-06-16 1990-01-08 Tel Sagami Ltd 熱処理装置
JPH02271527A (ja) * 1989-04-12 1990-11-06 Fujitsu Ltd 化学気相成長装置及び化学気相成長方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH022617A (ja) * 1988-06-16 1990-01-08 Tel Sagami Ltd 熱処理装置
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