JPH03128668U - - Google Patents
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- JPH03128668U JPH03128668U JP3740690U JP3740690U JPH03128668U JP H03128668 U JPH03128668 U JP H03128668U JP 3740690 U JP3740690 U JP 3740690U JP 3740690 U JP3740690 U JP 3740690U JP H03128668 U JPH03128668 U JP H03128668U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- susceptor
- inert gas
- featured
- introducing
- electrodes
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
第１図、第２図、第３図は本考案によるサセプ
タの断面図、第４図、第５図は従来のサセプタの
断面図である。 １…電極、４…ヒーター、１０…カバー、１２
…不活性ガス導入パイプ、１３…排気パイプ。
タの断面図、第４図、第５図は従来のサセプタの
断面図である。 １…電極、４…ヒーター、１０…カバー、１２
…不活性ガス導入パイプ、１３…排気パイプ。
Claims (1)
- スパツタ装置等の半導体薄膜製造装置において
、それぞれ接合された電極、セラミツク絶縁チユ
ーブ、フランジと、大気側に設置された加熱機構
及び、これら構成物の内部に不活性ガスを導入す
る機構を有することを特徴としたサセプタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3740690U JPH03128668U (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3740690U JPH03128668U (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03128668U true JPH03128668U (ja) | 1991-12-25 |
Family
ID=31544483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3740690U Pending JPH03128668U (ja) | 1990-04-06 | 1990-04-06 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03128668U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100440425C (zh) * | 2005-06-23 | 2008-12-03 | 东京毅力科创株式会社 | 载置台装置的安装结构、处理装置和馈电线间放电防止方法 |
| JP2012256916A (ja) * | 2000-07-07 | 2012-12-27 | Applied Materials Inc | 複数領域のヒータを大気から隔離する方法 |
-
1990
- 1990-04-06 JP JP3740690U patent/JPH03128668U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012256916A (ja) * | 2000-07-07 | 2012-12-27 | Applied Materials Inc | 複数領域のヒータを大気から隔離する方法 |
| CN100440425C (zh) * | 2005-06-23 | 2008-12-03 | 东京毅力科创株式会社 | 载置台装置的安装结构、处理装置和馈电线间放电防止方法 |
| JP4736564B2 (ja) * | 2005-06-23 | 2011-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台装置の取付構造及び処理装置 |
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