JPS62172146U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS62172146U JPS62172146U JP5999986U JP5999986U JPS62172146U JP S62172146 U JPS62172146 U JP S62172146U JP 5999986 U JP5999986 U JP 5999986U JP 5999986 U JP5999986 U JP 5999986U JP S62172146 U JPS62172146 U JP S62172146U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma cvd
- cvd apparatus
- electrode
- cover
- covers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 1
Description
第1図は本考案の一実施例の断面図、第2図は
従来例の断面図である。 11……上側平板電極、13……上側電極カバ
ー、21……下側平板電極、34……下側電極カ
バー。
従来例の断面図である。 11……上側平板電極、13……上側電極カバ
ー、21……下側平板電極、34……下側電極カ
バー。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 平行平板型プラズマCVD装置において、
少くとも一側の電極の外線を覆いかつ両電極間の
空間をつつみ込む絶縁体製の一対のカバーを有す
ることを特徴とするプラズマCVD装置。 (2) 一側のカバーが一側の電極に取付けられて
いることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第
1項記載のプラズマCVD装置。 (3) 他側のカバーが排気の為のダクト部と排気
管を有していることを特徴とする実用新案登録請
求の範囲第1項のプラズマCVD装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5999986U JPS62172146U (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5999986U JPS62172146U (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62172146U true JPS62172146U (ja) | 1987-10-31 |
Family
ID=30892019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5999986U Pending JPS62172146U (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62172146U (ja) |
-
1986
- 1986-04-21 JP JP5999986U patent/JPS62172146U/ja active Pending