JPS6346837U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6346837U JPS6346837U JP14085586U JP14085586U JPS6346837U JP S6346837 U JPS6346837 U JP S6346837U JP 14085586 U JP14085586 U JP 14085586U JP 14085586 U JP14085586 U JP 14085586U JP S6346837 U JPS6346837 U JP S6346837U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- susceptors
- induction coil
- electromagnetic induction
- reaction tube
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 claims 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Description
第1図a,bは本考案にかかる横型CVD装置
の概要図(同図aは断面図、同図bはカーボン熱
遮蔽管の斜視図)、第2図a,bは本考案にかか
る縦型CVD装置の概要図(同図aは断面図、同
図bはカーボン熱遮蔽管の斜視図)、第3図は従
来のCVD装置の概要図である。 図において、1は反応管、2はサセプタ、3は
ウエハー、4はコイル、5はガス流入口、6は排
気口、10,20はカーボン熱遮蔽管、11,2
1はスリツト、15はガス流入管、16は排気管
、を示している。
の概要図(同図aは断面図、同図bはカーボン熱
遮蔽管の斜視図)、第2図a,bは本考案にかか
る縦型CVD装置の概要図(同図aは断面図、同
図bはカーボン熱遮蔽管の斜視図)、第3図は従
来のCVD装置の概要図である。 図において、1は反応管、2はサセプタ、3は
ウエハー、4はコイル、5はガス流入口、6は排
気口、10,20はカーボン熱遮蔽管、11,2
1はスリツト、15はガス流入管、16は排気管
、を示している。
Claims (1)
- 複数のサセプタにそれぞれウエハーが保持され
、反応管外の電磁誘導コイルによつて前記サセプ
タを加熱してウエハー面に被膜を成長させるCV
D装置において、前記反応管とサセプタとの間に
、前記電磁誘導コイルを阻止するためのスリツト
を設けたカーボン熱遮蔽管を介在せしめたことを
特徴とするCVD装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14085586U JPS6346837U (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14085586U JPS6346837U (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6346837U true JPS6346837U (ja) | 1988-03-30 |
Family
ID=31048095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14085586U Pending JPS6346837U (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6346837U (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0271787U (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-31 | ||
JP2003100643A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-04 | Daiichi Kiden:Kk | 高温cvd装置 |
JP4759572B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2011-08-31 | アイクストロン、アーゲー | Rf−加熱されるプロセス室を備えたcvd反応装置 |
-
1986
- 1986-09-12 JP JP14085586U patent/JPS6346837U/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0271787U (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-31 | ||
JP2003100643A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-04 | Daiichi Kiden:Kk | 高温cvd装置 |
JP4759572B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2011-08-31 | アイクストロン、アーゲー | Rf−加熱されるプロセス室を備えたcvd反応装置 |
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