JPS60119743U - 化学的気相付着装置 - Google Patents
化学的気相付着装置Info
- Publication number
- JPS60119743U JPS60119743U JP813684U JP813684U JPS60119743U JP S60119743 U JPS60119743 U JP S60119743U JP 813684 U JP813684 U JP 813684U JP 813684 U JP813684 U JP 813684U JP S60119743 U JPS60119743 U JP S60119743U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- chemical vapor
- reaction tube
- semiconductor substrate
- enclosure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は本考案の第1の実施例に係わるCVD装置を示
す断面図、第2図は本考案の第2の実施例に係わるCV
D装置を示す断面図である。 1・・・反応管、2・・・ヒータ、4・・・内壁保護管
、6・・・半導体基板、8・・・ガス導入管、9・・・
インナーチューブ。
す断面図、第2図は本考案の第2の実施例に係わるCV
D装置を示す断面図である。 1・・・反応管、2・・・ヒータ、4・・・内壁保護管
、6・・・半導体基板、8・・・ガス導入管、9・・・
インナーチューブ。
Claims (4)
- (1)半導体基板上にガスを供給して前記半導体基板上
に化学的気相付着層を形成させるための熱処理空間を得
るための反応管と、 前記半導体基板を加熱するために前記反応管の外側に配
置されたヒータと、 前記半導体基板を囲むように配置され且つ前記ガスの流
れを許すように形成された包囲体とから成り、前記包囲
体が前記化学的気相付着層の熱膨張係数に対して0.8
〜1.2の比率の熱膨張係数を有し且つ前記化学的気相
付着層と異なる材料で形成されていることを特徴とする
化学的気相付着装置。 - (2)前記包囲体は、前記反応管の少なくとも主要部の
内壁をガス流から隔てるように前記反応管の中に配置さ
れ且つ前記反応管に対して着脱自在に装着されている内
壁保護管である実用新案登録請求の範囲第1項記載の化
学的気相付着装置。 - (3) 前記包囲体は、前記半導体基板を収容する容
器である実用新案登録請求の範囲第1項記載の化学的気
相付着装置。 - (4) 前記包囲体は、前記反応管の少なくとも主要
部の内壁をガス流から隔てるように前記反応管の中に配
置され且つ前記反応管に対して着脱自在に装着されてい
る内壁保護管と、前記半導体基板を収容して前記内壁保
護管の内部に挿入する容器とから成るものである実用新
案登録請求の範囲第1項記載の化学的気相付着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP813684U JPS60119743U (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | 化学的気相付着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP813684U JPS60119743U (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | 化学的気相付着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60119743U true JPS60119743U (ja) | 1985-08-13 |
JPH0447955Y2 JPH0447955Y2 (ja) | 1992-11-12 |
Family
ID=30487142
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP813684U Granted JPS60119743U (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | 化学的気相付着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60119743U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0256433U (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-24 | ||
JPH02138419U (ja) * | 1989-04-21 | 1990-11-19 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5130477A (ja) * | 1974-09-09 | 1976-03-15 | Kokusai Electric Co Ltd | Kisoseichosochi |
-
1984
- 1984-01-23 JP JP813684U patent/JPS60119743U/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5130477A (ja) * | 1974-09-09 | 1976-03-15 | Kokusai Electric Co Ltd | Kisoseichosochi |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0256433U (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-24 | ||
JPH02138419U (ja) * | 1989-04-21 | 1990-11-19 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0447955Y2 (ja) | 1992-11-12 |
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