JPS60119743U - 化学的気相付着装置 - Google Patents

化学的気相付着装置

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JPS60119743U
JPS60119743U JP813684U JP813684U JPS60119743U JP S60119743 U JPS60119743 U JP S60119743U JP 813684 U JP813684 U JP 813684U JP 813684 U JP813684 U JP 813684U JP S60119743 U JPS60119743 U JP S60119743U
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JP
Japan
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vapor deposition
chemical vapor
reaction tube
semiconductor substrate
enclosure
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JP813684U
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JPH0447955Y2 (ja
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俊一 佐藤
荻野 方宏
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サンケン電気株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の第1の実施例に係わるCVD装置を示
す断面図、第2図は本考案の第2の実施例に係わるCV
D装置を示す断面図である。 1・・・反応管、2・・・ヒータ、4・・・内壁保護管
、6・・・半導体基板、8・・・ガス導入管、9・・・
インナーチューブ。

Claims (4)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. (1)半導体基板上にガスを供給して前記半導体基板上
    に化学的気相付着層を形成させるための熱処理空間を得
    るための反応管と、 前記半導体基板を加熱するために前記反応管の外側に配
    置されたヒータと、 前記半導体基板を囲むように配置され且つ前記ガスの流
    れを許すように形成された包囲体とから成り、前記包囲
    体が前記化学的気相付着層の熱膨張係数に対して0.8
    〜1.2の比率の熱膨張係数を有し且つ前記化学的気相
    付着層と異なる材料で形成されていることを特徴とする
    化学的気相付着装置。
  2. (2)前記包囲体は、前記反応管の少なくとも主要部の
    内壁をガス流から隔てるように前記反応管の中に配置さ
    れ且つ前記反応管に対して着脱自在に装着されている内
    壁保護管である実用新案登録請求の範囲第1項記載の化
    学的気相付着装置。
  3. (3)  前記包囲体は、前記半導体基板を収容する容
    器である実用新案登録請求の範囲第1項記載の化学的気
    相付着装置。
  4. (4)  前記包囲体は、前記反応管の少なくとも主要
    部の内壁をガス流から隔てるように前記反応管の中に配
    置され且つ前記反応管に対して着脱自在に装着されてい
    る内壁保護管と、前記半導体基板を収容して前記内壁保
    護管の内部に挿入する容器とから成るものである実用新
    案登録請求の範囲第1項記載の化学的気相付着装置。
JP813684U 1984-01-23 1984-01-23 化学的気相付着装置 Granted JPS60119743U (ja)

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JPS60119743U true JPS60119743U (ja) 1985-08-13
JPH0447955Y2 JPH0447955Y2 (ja) 1992-11-12

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0256433U (ja) * 1988-10-18 1990-04-24
JPH02138419U (ja) * 1989-04-21 1990-11-19

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5130477A (ja) * 1974-09-09 1976-03-15 Kokusai Electric Co Ltd Kisoseichosochi

Patent Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5130477A (ja) * 1974-09-09 1976-03-15 Kokusai Electric Co Ltd Kisoseichosochi

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JPH02138419U (ja) * 1989-04-21 1990-11-19

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JPH0447955Y2 (ja) 1992-11-12

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