JPS58176959U - Cvd装置 - Google Patents

Cvd装置

Info

Publication number
JPS58176959U
JPS58176959U JP7444282U JP7444282U JPS58176959U JP S58176959 U JPS58176959 U JP S58176959U JP 7444282 U JP7444282 U JP 7444282U JP 7444282 U JP7444282 U JP 7444282U JP S58176959 U JPS58176959 U JP S58176959U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction tube
reaction
cvd equipment
cvd apparatus
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7444282U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6211961Y2 (ja
Inventor
埜口 和行
Original Assignee
三洋電機株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 三洋電機株式会社 filed Critical 三洋電機株式会社
Priority to JP7444282U priority Critical patent/JPS58176959U/ja
Publication of JPS58176959U publication Critical patent/JPS58176959U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS6211961Y2 publication Critical patent/JPS6211961Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は夫々本考案CVD装置の要部を表わす
側部断面図、及び前面図、第3図はウェハ表面及び反応
管壁面の温度特性図である。 1・・・反応管、2・・・ウェハ、5・・・ヒータ、6
・・・ファン。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 反応管と熱輻射によって該反応管内のウエノ\に熱を加
    える加熱手段と、前記反応管内に金属反応ガスを供給す
    る反応ガス供給手段と、から成り、反応管内に配置され
    たウェハ表面に金属膜を成長させるCVD装置において
    、前記反応管壁を冷却する冷却機構を備えたことを特徴
    とするCVD装置。
JP7444282U 1982-05-20 1982-05-20 Cvd装置 Granted JPS58176959U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7444282U JPS58176959U (ja) 1982-05-20 1982-05-20 Cvd装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7444282U JPS58176959U (ja) 1982-05-20 1982-05-20 Cvd装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58176959U true JPS58176959U (ja) 1983-11-26
JPS6211961Y2 JPS6211961Y2 (ja) 1987-03-24

Family

ID=30083872

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7444282U Granted JPS58176959U (ja) 1982-05-20 1982-05-20 Cvd装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58176959U (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4928463U (ja) * 1972-06-15 1974-03-11
JPS5630058A (en) * 1979-08-17 1981-03-26 Kawasaki Steel Corp Preventing method for leakage of molten steel through porus brick

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4928463U (ja) * 1972-06-15 1974-03-11
JPS5630058A (en) * 1979-08-17 1981-03-26 Kawasaki Steel Corp Preventing method for leakage of molten steel through porus brick

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6211961Y2 (ja) 1987-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS58176959U (ja) Cvd装置
JPS5861448U (ja) 熱処理装置
JPS52132439A (en) Exothermic device
JPH01110429U (ja)
JPS5834950U (ja) 真空熱処理装置における冷却装置
JPS5855296U (ja) 真空熱処理炉
JPS5983034U (ja) Cvd装置
JPS5991694U (ja) 赤外線加熱処理装置
JPS60148575U (ja) 冷却装置
JPS5974730U (ja) 試料測定装置
JPS63153595U (ja)
JPH0460548U (ja)
JPS60179856U (ja) 昇温速度測定装置
JPS5965734U (ja) 化学気相成長装置
JPS617764U (ja) 輻射式温風暖房機
JPS58177043U (ja) 加熱保温容器
JPS59172756U (ja) 単室型真空熱処理炉
JPS59186744U (ja) 給湯暖房機
JPS6011059U (ja) 熱伝導度検出器
JPS60185647U (ja) 真空熱処理炉
JPS60104092U (ja) 燻煙装置
JPS59168136U (ja) 高温試料光学検出装置
JPS60148548U (ja) 吸収冷温水機における温水発生器
JPS6025848U (ja) 風呂の加熱装置
JPS59192323U (ja) 射出装置の材料供給部温度制御装置