JPS5983034U - Ｃｖｄ装置 - Google Patents
Ｃｖｄ装置Info
- Publication number
- JPS5983034U JPS5983034U JP17870282U JP17870282U JPS5983034U JP S5983034 U JPS5983034 U JP S5983034U JP 17870282 U JP17870282 U JP 17870282U JP 17870282 U JP17870282 U JP 17870282U JP S5983034 U JPS5983034 U JP S5983034U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction tube
- temperature
- cvd equipment
- wall surface
- detected
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図、第２図は夫々本考案ＣＶＤ装置の側部断面図及
び前面図である。 １・・・・・・反応管、２． ２・・・・・・ウェハ、
５，５・・・・・・加熱手段、６，６・・・・・・温度
検出手段、７，７・・・・・・冷却手段。
び前面図である。 １・・・・・・反応管、２． ２・・・・・・ウェハ、
５，５・・・・・・加熱手段、６，６・・・・・・温度
検出手段、７，７・・・・・・冷却手段。
Claims (1)
- 反応管内に反応ガスを供給してこの反応管内に設定され
たウェハ上に被膜を成長させるＣＶＤ装置において、上
記反応管内のウェハへ熱を供給する加熱手段と、上記反
応管の壁面温度を検出する温度検出手段と、この温度検
出手段にて検出された壁面温度が所定の温度を越えた時
にその反応管壁面を冷却する冷却手段と、から成るＣＶ
Ｄ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17870282U JPS5983034U (ja) | 1982-11-25 | 1982-11-25 | Ｃｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17870282U JPS5983034U (ja) | 1982-11-25 | 1982-11-25 | Ｃｖｄ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5983034U true JPS5983034U (ja) | 1984-06-05 |
Family
ID=30387911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17870282U Pending JPS5983034U (ja) | 1982-11-25 | 1982-11-25 | Ｃｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5983034U (ja) |
-
1982
- 1982-11-25 JP JP17870282U patent/JPS5983034U/ja active Pending
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