JPS60121643U - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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JPS60121643U
JPS60121643U JP999084U JP999084U JPS60121643U JP S60121643 U JPS60121643 U JP S60121643U JP 999084 U JP999084 U JP 999084U JP 999084 U JP999084 U JP 999084U JP S60121643 U JPS60121643 U JP S60121643U
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JP
Japan
Prior art keywords
heat treatment
treatment equipment
bottom part
heater chamber
utility
Prior art date
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Pending
Application number
JP999084U
Other languages
English (en)
Inventor
隆雄 三浦
桜井　潤治
幹雄 藤井
修一 大橋
Original Assignee
富士通株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 富士通株式会社 filed Critical 富士通株式会社
Priority to JP999084U priority Critical patent/JPS60121643U/ja
Publication of JPS60121643U publication Critical patent/JPS60121643U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来装置の模式的概略構成図、第２図は本考案
の一実施例の模式的概略構成図である。 図において、−１は反応管、２はヒータチャンバー、３
・２１は排気ユ、ニット、４は反応管保持用金具、５は
蓋、６は基板支持台、７は半導体基、板、８は分離板、
９はクリーンエリア、１０はメ　−・ンテエリア、２２
はダストトレーを示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 縦型熱処理炉のヒータチャンバー底面部に、該底面部を
    囲むダストトレーが設けられたことを特徴とする熱処理
    装置。
JP999084U 1984-01-26 1984-01-26 熱処理装置 Pending JPS60121643U (ja)

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JP999084U JPS60121643U (ja) 1984-01-26 1984-01-26 熱処理装置

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JP999084U JPS60121643U (ja) 1984-01-26 1984-01-26 熱処理装置

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JPS60121643U true JPS60121643U (ja) 1985-08-16

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