JPS6136691B2 - - Google Patents
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- JPS6136691B2 JPS6136691B2 JP54117986A JP11798679A JPS6136691B2 JP S6136691 B2 JPS6136691 B2 JP S6136691B2 JP 54117986 A JP54117986 A JP 54117986A JP 11798679 A JP11798679 A JP 11798679A JP S6136691 B2 JPS6136691 B2 JP S6136691B2
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- 239000002223 garnet Substances 0.000 claims description 11
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- AJCDFVKYMIUXCR-UHFFFAOYSA-N oxobarium;oxo(oxoferriooxy)iron Chemical compound [Ba]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O AJCDFVKYMIUXCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017110 Fe—Cr—Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/18—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being compounds
- H01F10/20—Ferrites
- H01F10/24—Garnets
-
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-
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
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- Y10T428/265—1 mil or less
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Power Engineering (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
本発明は、磁気バブルメモリ素子において、磁
気バブルを保持する膜として好適な、磁気バブル
用ガーネツト膜に関する。 直径がほぼ2.5μm以下の、いわゆる微小バブ
ル用の磁性ガーネツト膜は、一般に、バブル消滅
磁界Hoの温度変化が大きいことが知られてい
る。 たとえば、直径約2μmのバブルを保持するこ
とのできる(YSmLu)3(FeGa)5O12膜の場合、
30℃におけるHoの温度変化率は、−0.30%〜−
0.35%/℃である。 一方、バイアス磁界の印加に一般に用いられて
いる、バリウムフエライトのバイアス磁界の温度
変化率は、−0.20%/℃であり、両者の間には、
相当大きな差が存在する。バブル用磁性膜のHo
の温度変化率が、上記バイアス磁界の温度変化率
と大きく異なると、バブルが安定に動作し得る温
度範囲が、極めて挟くなつてしまうので、磁気バ
ブルメモリ素子としては、極めて好ましくないこ
とは、明らかである。 本発明の目的は、従来の磁気バブル用ガーネツ
ト膜の有する上記問題を解決し、広い温度変化範
囲において、安定に動作し得るような磁気バブル
メモリ素子の形成を可能とすることである。 上記目的を達成するため、本発明は、Gdによ
つてHoの温度変化率を小さくし、Geによつてキ
ユーリー温度を高くして使用可能な温度範囲を広
げるものである。 以下、本発明を詳細に説明する。 上記のように、(YSmLu)3(FeGa)5O12のHoの
温度変化率およびバリウムフエライトによつて印
加されるバイアス磁界の温度変化率は、それぞれ
−0.31〜−0.35%/℃および−0.20%/℃であ
る。 したがつて、(YSmLu)3(FeGa)5O12のHoの温
度変化率をバイアス磁界の温度変化率に近くする
ことができれば、現在よりも広い温度範囲におい
て安定に動作することのできる磁気バブルメモリ
素子が形成される。 Hoの温度変化率を上記値よりも一層小さくし
てゼロに近づけ、同時にフエライトなどの材料を
選択して、バイアス磁界の温度変化率を、それに
対応して小さくすれば、温度変化に対して、さら
に安定な磁気バブルメモリ素子が形成されること
は明らかである。 本発明は、バブル消滅磁界Hoの温度係数が、
飽和磁束密度の温度係数の温度変化に依存するこ
とに着目し、希土類元素の一部を所定量のGd量
によつて置換して飽和磁束密度の温度係数を調節
しそれによつて、消滅磁界Hoの温度変化率を−
0.05%〜+0.05%/℃としたものである。 それと同時に、本発明は、Feの一部を所定量
のGeによつて置換することによつて、キユーリ
ー温度を高くし、安定に動作し得る温度範囲を拡
大したものである。 Hoの温度変化係数は、できるだけ小さい方が
好ましいことはいうまでもないが、−0.05%/℃
〜+0.05%/℃の範囲内であれば、実用上十分満
足できる。Hoの温度変化係数が上記範囲外にな
ると温度係数ゼロのバイアス磁界を用いた場合の
動作マージンが著しく低下するなど、好ましくな
いことが生ずるので、上記範囲内にあることが必
要である。 Hoの温度変化係数が上記範囲内にあれば、温
度変化率がゼロのバイアス磁界を用いることがで
きる。その結果、バブル素子とバイアス磁界の間
に、大きな温度差が存在しても、安定に動作する
ことができ、また、素子内に局所的な温度差が存
在しても、安定に動作することができる。 バイアス磁界印加用の磁石として、たとえば
Fe−Cr−Co系の圧延磁石を用いれば、バイアス
磁界の温度変化率はほとんどゼロとなるから、こ
のような磁石と本発明を結びつけることによつ
て、微小バブルを保持することが可能で、かつ、
広い温度範囲において使用可能な、磁気バブルメ
モリ素子が形成できる。 本発明において、GdおよびGeの含有量は、極
めて重要であり、好ましい効果を奏するために
は、所定の範囲内にあることが必要である。 すなわち、第1表は、一般式(YSmLuCa)5-x
Gdx(Fe5-yGey)O12で表わされるガーネツト膜
において、Gd含有量xとGe含有量yの値を、
種々に変えた場合の特性を示す。 第1表において、特性の良否は〇および×で表
わしたが、直径2.5μm以下の微小磁気バブルが
安定に存在することができ、しかもHoの温度変
化係数が−0.05〜+0.05%/℃内にあるものを
〇、これらの条件を満足しないものを×で表わし
た。
気バブルを保持する膜として好適な、磁気バブル
用ガーネツト膜に関する。 直径がほぼ2.5μm以下の、いわゆる微小バブ
ル用の磁性ガーネツト膜は、一般に、バブル消滅
磁界Hoの温度変化が大きいことが知られてい
る。 たとえば、直径約2μmのバブルを保持するこ
とのできる(YSmLu)3(FeGa)5O12膜の場合、
30℃におけるHoの温度変化率は、−0.30%〜−
0.35%/℃である。 一方、バイアス磁界の印加に一般に用いられて
いる、バリウムフエライトのバイアス磁界の温度
変化率は、−0.20%/℃であり、両者の間には、
相当大きな差が存在する。バブル用磁性膜のHo
の温度変化率が、上記バイアス磁界の温度変化率
と大きく異なると、バブルが安定に動作し得る温
度範囲が、極めて挟くなつてしまうので、磁気バ
ブルメモリ素子としては、極めて好ましくないこ
とは、明らかである。 本発明の目的は、従来の磁気バブル用ガーネツ
ト膜の有する上記問題を解決し、広い温度変化範
囲において、安定に動作し得るような磁気バブル
メモリ素子の形成を可能とすることである。 上記目的を達成するため、本発明は、Gdによ
つてHoの温度変化率を小さくし、Geによつてキ
ユーリー温度を高くして使用可能な温度範囲を広
げるものである。 以下、本発明を詳細に説明する。 上記のように、(YSmLu)3(FeGa)5O12のHoの
温度変化率およびバリウムフエライトによつて印
加されるバイアス磁界の温度変化率は、それぞれ
−0.31〜−0.35%/℃および−0.20%/℃であ
る。 したがつて、(YSmLu)3(FeGa)5O12のHoの温
度変化率をバイアス磁界の温度変化率に近くする
ことができれば、現在よりも広い温度範囲におい
て安定に動作することのできる磁気バブルメモリ
素子が形成される。 Hoの温度変化率を上記値よりも一層小さくし
てゼロに近づけ、同時にフエライトなどの材料を
選択して、バイアス磁界の温度変化率を、それに
対応して小さくすれば、温度変化に対して、さら
に安定な磁気バブルメモリ素子が形成されること
は明らかである。 本発明は、バブル消滅磁界Hoの温度係数が、
飽和磁束密度の温度係数の温度変化に依存するこ
とに着目し、希土類元素の一部を所定量のGd量
によつて置換して飽和磁束密度の温度係数を調節
しそれによつて、消滅磁界Hoの温度変化率を−
0.05%〜+0.05%/℃としたものである。 それと同時に、本発明は、Feの一部を所定量
のGeによつて置換することによつて、キユーリ
ー温度を高くし、安定に動作し得る温度範囲を拡
大したものである。 Hoの温度変化係数は、できるだけ小さい方が
好ましいことはいうまでもないが、−0.05%/℃
〜+0.05%/℃の範囲内であれば、実用上十分満
足できる。Hoの温度変化係数が上記範囲外にな
ると温度係数ゼロのバイアス磁界を用いた場合の
動作マージンが著しく低下するなど、好ましくな
いことが生ずるので、上記範囲内にあることが必
要である。 Hoの温度変化係数が上記範囲内にあれば、温
度変化率がゼロのバイアス磁界を用いることがで
きる。その結果、バブル素子とバイアス磁界の間
に、大きな温度差が存在しても、安定に動作する
ことができ、また、素子内に局所的な温度差が存
在しても、安定に動作することができる。 バイアス磁界印加用の磁石として、たとえば
Fe−Cr−Co系の圧延磁石を用いれば、バイアス
磁界の温度変化率はほとんどゼロとなるから、こ
のような磁石と本発明を結びつけることによつ
て、微小バブルを保持することが可能で、かつ、
広い温度範囲において使用可能な、磁気バブルメ
モリ素子が形成できる。 本発明において、GdおよびGeの含有量は、極
めて重要であり、好ましい効果を奏するために
は、所定の範囲内にあることが必要である。 すなわち、第1表は、一般式(YSmLuCa)5-x
Gdx(Fe5-yGey)O12で表わされるガーネツト膜
において、Gd含有量xとGe含有量yの値を、
種々に変えた場合の特性を示す。 第1表において、特性の良否は〇および×で表
わしたが、直径2.5μm以下の微小磁気バブルが
安定に存在することができ、しかもHoの温度変
化係数が−0.05〜+0.05%/℃内にあるものを
〇、これらの条件を満足しないものを×で表わし
た。
【表】
【表】
【表】
また、第1表の結果を、xおよびyをパラメー
タにして、第1図に示した。第1図において、記
号〇,Xは第1表と同じく特性の良否を示し、ま
た、各〇,×に付した数字は試料番号であつて、
それぞれ第1表の試料番号に対応する。 第1図から明らかなように、Gd量xとGe量y
が、線分a,b,cおよびdによつて囲まれた領
域A内にあると、直径2.5μm以下の磁気バブル
が安定に存在することができ、しかも、Hoの温
度変化係数が−0.05〜+0.05%/℃の範囲内に入
る。しかし、x,yが領域A外にあると、このよ
うな条件は満足されず、好ましい特性は得られな
い。 すなわち、第1図において、x,yが線分aよ
り右方の領域中にあると、バブル径が2.5μm以
上になり、線分bより上方の領域中にあると、
Hoの温度変化係数が0.05%/℃以上になつて、
温度変化係数がほぼゼロのバイアス磁石には不適
合となる。また、x,yが線分cより左方の領域
内にあると、バブル径が小さくなりすぎて、バブ
ルの検出や転送が困難になり、線分dより下の領
域中では、Hoの温度変化係数が負の領域での絶
対値が大きくなり、温度係数がほぼゼロのバイア
ス磁石には不適合となる。 以上説明したように、本発明によれば、直径
2.5μm以下の磁気バブルが安定に存在すること
ができ、かつ、Hoの温度係数も非常に小さいの
で、微小バブル用ガーネツト膜として非常に好適
である。 また、本発明者は、先に一般式(YSmLu)3-x
Gdx(Fe5-yGay)O12で表わされる磁気バブル用
ガーネツト膜を提案した(特願昭53−133713)。
このガーネツト膜も、Hoの温度係数が小さいと
いう特徴がある。 本発明は、同一バブル径におけるキユーリー温
度が215℃で、上記ガーネツト膜よりも30℃以上
高く、温度係数がほぼゼロであるバイアス磁石を
有効に利用できる温度範囲が、ほぼ40℃広い。こ
れは磁気バブルメモリ素子用ガーネツト膜とし
て、大きな利点の一つである。
タにして、第1図に示した。第1図において、記
号〇,Xは第1表と同じく特性の良否を示し、ま
た、各〇,×に付した数字は試料番号であつて、
それぞれ第1表の試料番号に対応する。 第1図から明らかなように、Gd量xとGe量y
が、線分a,b,cおよびdによつて囲まれた領
域A内にあると、直径2.5μm以下の磁気バブル
が安定に存在することができ、しかも、Hoの温
度変化係数が−0.05〜+0.05%/℃の範囲内に入
る。しかし、x,yが領域A外にあると、このよ
うな条件は満足されず、好ましい特性は得られな
い。 すなわち、第1図において、x,yが線分aよ
り右方の領域中にあると、バブル径が2.5μm以
上になり、線分bより上方の領域中にあると、
Hoの温度変化係数が0.05%/℃以上になつて、
温度変化係数がほぼゼロのバイアス磁石には不適
合となる。また、x,yが線分cより左方の領域
内にあると、バブル径が小さくなりすぎて、バブ
ルの検出や転送が困難になり、線分dより下の領
域中では、Hoの温度変化係数が負の領域での絶
対値が大きくなり、温度係数がほぼゼロのバイア
ス磁石には不適合となる。 以上説明したように、本発明によれば、直径
2.5μm以下の磁気バブルが安定に存在すること
ができ、かつ、Hoの温度係数も非常に小さいの
で、微小バブル用ガーネツト膜として非常に好適
である。 また、本発明者は、先に一般式(YSmLu)3-x
Gdx(Fe5-yGay)O12で表わされる磁気バブル用
ガーネツト膜を提案した(特願昭53−133713)。
このガーネツト膜も、Hoの温度係数が小さいと
いう特徴がある。 本発明は、同一バブル径におけるキユーリー温
度が215℃で、上記ガーネツト膜よりも30℃以上
高く、温度係数がほぼゼロであるバイアス磁石を
有効に利用できる温度範囲が、ほぼ40℃広い。こ
れは磁気バブルメモリ素子用ガーネツト膜とし
て、大きな利点の一つである。
第1図は磁気バブル用ガーネツト膜において、
GdおよびGeの好ましい含有量を示す図である。
GdおよびGeの好ましい含有量を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (YSmLuCa)3-xGdx(Fe5-yGey)O12で表わさ
れる組成を有し、上記Gdによつてバブル消滅磁
界の温度変化係数を小さくかつ、上記Geによつ
てキユーリー温度を高くするように上記xおよび
yの値を、第1図において点1(0.78,0.60)と
点4(0.90,0.20)を結ぶ線分a、点1(0.78,
0.60)と点2(0.15,0.90)を結ぶ線分b、点2
(0.15,0.90)と点3(0.25,0.55)を結ぶ線分c
および点3(0.25,0.55)と点4(0.90,0.20)
を結ぶ線分dによつて囲まれた領域A内に設定
し、バブル消滅磁界の温度変化係数を−0.05〜+
0.05%/℃の範囲に設定したことを特徴とする磁
気バブバ用ガーネツト膜。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11798679A JPS5642311A (en) | 1979-09-17 | 1979-09-17 | Garnet film for magnetic bubble |
US06/187,136 US4338372A (en) | 1979-09-17 | 1980-09-15 | Garnet film for magnetic bubble device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11798679A JPS5642311A (en) | 1979-09-17 | 1979-09-17 | Garnet film for magnetic bubble |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5642311A JPS5642311A (en) | 1981-04-20 |
JPS6136691B2 true JPS6136691B2 (ja) | 1986-08-20 |
Family
ID=14725183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11798679A Granted JPS5642311A (en) | 1979-09-17 | 1979-09-17 | Garnet film for magnetic bubble |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4338372A (ja) |
JP (1) | JPS5642311A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5933963B2 (ja) * | 1980-06-27 | 1984-08-20 | 株式会社日立製作所 | 磁気バブル用磁性ガ−ネット膜 |
JPS57128911A (en) * | 1981-02-04 | 1982-08-10 | Fujitsu Ltd | Magnetic film for magnetic bubble memory |
JPS58153309A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-12 | Hitachi Ltd | イオン打込み素子用ガ−ネツト膜 |
JPS5992048A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回転体のバランシング装置 |
JPS5992049A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回転体のバランシング装置の製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3665427A (en) * | 1970-04-20 | 1972-05-23 | Bell Telephone Labor Inc | Magnetic devices utilizing garnet compositions |
FR2177632B1 (ja) * | 1972-03-31 | 1978-03-03 | Thomson Csf | |
DE2434251C2 (de) * | 1974-07-17 | 1982-08-26 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Einkristall auf der Basis von Gallium- Granat |
US4151602A (en) * | 1975-04-02 | 1979-04-24 | U.S. Philips Corporation | Magnetic bubble multilayer arrangement |
NL7607959A (nl) * | 1976-07-19 | 1978-01-23 | Philips Nv | Magnetisch beldomein materiaal. |
JPS6011450B2 (ja) * | 1976-10-08 | 1985-03-26 | 株式会社日立製作所 | 泡磁区素子用ガ−ネツト単結晶膜 |
NL7700419A (nl) * | 1977-01-17 | 1978-07-19 | Philips Nv | Magnetisch beldomein materiaal. |
US4165410A (en) * | 1977-06-03 | 1979-08-21 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Magnetic bubble devices with controlled temperature characteristics |
JPS6057210B2 (ja) * | 1978-10-13 | 1985-12-13 | 株式会社日立製作所 | 磁気バブルメモリ素子用ガ−ネット膜 |
JPS5555503A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-23 | Hitachi Ltd | Garnet film for magnetic bubble element |
JPS5562714A (en) * | 1978-11-01 | 1980-05-12 | Hitachi Ltd | Garnet film for magnetic bubble |
-
1979
- 1979-09-17 JP JP11798679A patent/JPS5642311A/ja active Granted
-
1980
- 1980-09-15 US US06/187,136 patent/US4338372A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5642311A (en) | 1981-04-20 |
US4338372A (en) | 1982-07-06 |
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