JPS6136318A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物Info
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- JPS6136318A JPS6136318A JP15997684A JP15997684A JPS6136318A JP S6136318 A JPS6136318 A JP S6136318A JP 15997684 A JP15997684 A JP 15997684A JP 15997684 A JP15997684 A JP 15997684A JP S6136318 A JPS6136318 A JP S6136318A
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- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(発明の利用分野)
本発明はエポキシ樹脂組成物に関し、特にダイオード、
IC、トランジスタなどの半導体装置(素子)の絶縁封
止に適した一液型エボキシ樹脂組成物に関する。
IC、トランジスタなどの半導体装置(素子)の絶縁封
止に適した一液型エボキシ樹脂組成物に関する。
(発明の背景)
エポキシ樹脂はその優れた電気絶縁性、耐湿性、また硬
化時の低収縮性という特性を有するため、電気、電子部
品の絶縁封止用として広く使用されている。従来、エポ
キシ樹脂の硬化剤としては、ポリアミン類、有機2塩基
酸無水物、フェノール(1)樹脂、イミダゾール類、三
弗化はう素のアミン錯体等が使用されているが、これら
の多くはエポキシ樹脂と混合した場合の可使時間が短い
ため、エポキシ樹脂と硬化剤を別々に保管しておき、使
用直前に混合して使用するのが一般的であり、作業性に
劣るという欠点を有している。しかも一度混合した組成
物は前述のように保管がきかず、全量を使いきる必要が
ある。このため−液型で、しかも貯蔵安定性に優れ、加
熱時には短時間で硬化可能なエポキシ樹脂の出現が嘱望
されている。
化時の低収縮性という特性を有するため、電気、電子部
品の絶縁封止用として広く使用されている。従来、エポ
キシ樹脂の硬化剤としては、ポリアミン類、有機2塩基
酸無水物、フェノール(1)樹脂、イミダゾール類、三
弗化はう素のアミン錯体等が使用されているが、これら
の多くはエポキシ樹脂と混合した場合の可使時間が短い
ため、エポキシ樹脂と硬化剤を別々に保管しておき、使
用直前に混合して使用するのが一般的であり、作業性に
劣るという欠点を有している。しかも一度混合した組成
物は前述のように保管がきかず、全量を使いきる必要が
ある。このため−液型で、しかも貯蔵安定性に優れ、加
熱時には短時間で硬化可能なエポキシ樹脂の出現が嘱望
されている。
また前記の硬化剤の中で三弗化はう素のアミン錯体は優
れた潜在性を有しているが、硬化時にアミンガスを発生
するため、半導体装置(素子)を含む電子部品の絶縁封
止用としては汚染の点から好ましくない。
れた潜在性を有しているが、硬化時にアミンガスを発生
するため、半導体装置(素子)を含む電子部品の絶縁封
止用としては汚染の点から好ましくない。
さらにジシアンジアミドは従来知られている潜在性硬化
剤であるが、単独で使用する場合170℃以上の温度が
必要であるという欠点を有している。このジシアンジア
ミドの硬化促進剤としては、イミダゾール化合物(特開
昭55−165916号公報)、クロルフェニル−1,
1−N−ジメチル尿素(特開昭50−25700号公報
)等が知られているが、いずれも硬化時の発熱が高く、
前記硬化促進剤を分解せしめガスを発生するため好まし
くない。
剤であるが、単独で使用する場合170℃以上の温度が
必要であるという欠点を有している。このジシアンジア
ミドの硬化促進剤としては、イミダゾール化合物(特開
昭55−165916号公報)、クロルフェニル−1,
1−N−ジメチル尿素(特開昭50−25700号公報
)等が知られているが、いずれも硬化時の発熱が高く、
前記硬化促進剤を分解せしめガスを発生するため好まし
くない。
(発明の目的)
本発明の目的は前記従来技術の欠点を除去し、室温付近
で優れた貯蔵安定性、具体的には3力月以上の可使時間
を有し、かっ1oo〜l 50 ”cの温度で速やかに
硬化可能な、半導体装置(素子)等の絶縁封止に適する
一液型エボキシ樹脂組成物を提供することにある。
で優れた貯蔵安定性、具体的には3力月以上の可使時間
を有し、かっ1oo〜l 50 ”cの温度で速やかに
硬化可能な、半導体装置(素子)等の絶縁封止に適する
一液型エボキシ樹脂組成物を提供することにある。
(発明の概要)
本発明は、
(A)1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン
のジグリシジルエーテル、 (B)有機2塩基酸ジヒドラジドおよび(C)一般式(
1) (式中nは1〜14の整数、R1は水素、アルキル基ま
たはフェノール基、R2およびR1は水素、アルキル基
またはヒドロキシメチル基を示す)で表わされるイミダ
ゾール化合物を含有してなるエポキシ樹脂組成物に関す
る。
のジグリシジルエーテル、 (B)有機2塩基酸ジヒドラジドおよび(C)一般式(
1) (式中nは1〜14の整数、R1は水素、アルキル基ま
たはフェノール基、R2およびR1は水素、アルキル基
またはヒドロキシメチル基を示す)で表わされるイミダ
ゾール化合物を含有してなるエポキシ樹脂組成物に関す
る。
本発明に用いられる1、t−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)エタンのジグリシジルエーテルは、1、I−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)エタンとエピハロヒドリン
とを反応させることにより得られ、従来広く用いらてい
る2、2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンの
ジグリシジルエーテル、すなわちビスフェノールA型の
エポキシ樹脂と比べて貯蔵安定性がほぼ同等で、かつ粘
度がML<低く、またビス(4−ヒドロキシフェニル)
メタンのジグリシジルエーテル、すなわちビスフェノー
ルF型エポキシ樹脂と比べて貯蔵安定性が著しく優れ、
かつ低粘度のエポキシ樹脂である。商品としては、三井
石油化学エポキシ社製のエボミンクR−710がある。
ニル)エタンのジグリシジルエーテルは、1、I−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)エタンとエピハロヒドリン
とを反応させることにより得られ、従来広く用いらてい
る2、2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンの
ジグリシジルエーテル、すなわちビスフェノールA型の
エポキシ樹脂と比べて貯蔵安定性がほぼ同等で、かつ粘
度がML<低く、またビス(4−ヒドロキシフェニル)
メタンのジグリシジルエーテル、すなわちビスフェノー
ルF型エポキシ樹脂と比べて貯蔵安定性が著しく優れ、
かつ低粘度のエポキシ樹脂である。商品としては、三井
石油化学エポキシ社製のエボミンクR−710がある。
本発明においては、このエポキシ樹脂と共に、ビスフェ
ノールA型のエポキシ樹脂、ビスフェノールF型のエポ
キシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等を併
用してもよい。
ノールA型のエポキシ樹脂、ビスフェノールF型のエポ
キシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等を併
用してもよい。
本発明に用いられる有機2塩基酸ジヒドラジドとしては
、例えばシェラ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、
ドデカンニ酸、イソフタル酸等のジヒドラジドが挙げら
れる。
、例えばシェラ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、
ドデカンニ酸、イソフタル酸等のジヒドラジドが挙げら
れる。
有機2塩基酸ジヒドラジドの配合量は、硬化性、硬化物
のガラス転移温度、耐熱性および貯蔵安定性の点から、
l、1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタンのジグ
リシジルエーテル1モルに対して、好ましくは0.03
〜0.20モル、特に好ましくは0.05〜O,tSモ
ルである。
のガラス転移温度、耐熱性および貯蔵安定性の点から、
l、1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタンのジグ
リシジルエーテル1モルに対して、好ましくは0.03
〜0.20モル、特に好ましくは0.05〜O,tSモ
ルである。
本発明に用いられる前記一般式(1)で表わされるイミ
ダゾール化合物としては、例えば2.4−ジアミノ−6
−(2−メチルイミダゾリル−(1))−エチル−8−
トリアジンイソシアヌレート、2.4−ジアミノ−6−
(2−フェニルイミダゾリル−(1))−エチル−3−
トリアジンイソシアヌレート、2.4−ジアミノ−6−
(2−エチルイミダゾリル−(1))−エチル−3−ト
リアジンイソシアヌレートが挙げられる。
ダゾール化合物としては、例えば2.4−ジアミノ−6
−(2−メチルイミダゾリル−(1))−エチル−8−
トリアジンイソシアヌレート、2.4−ジアミノ−6−
(2−フェニルイミダゾリル−(1))−エチル−3−
トリアジンイソシアヌレート、2.4−ジアミノ−6−
(2−エチルイミダゾリル−(1))−エチル−3−ト
リアジンイソシアヌレートが挙げられる。
イミダゾール化合物の配合量は、硬化性(硬化時間)、
硬化物のガラス転移温度(耐熱性)、貯蔵安定性などの
点から、前記のエポキシ樹脂1モルに対して、好ましく
は0.01〜0.07モル、特に好ましくは0.02〜
0.05モルである。
硬化物のガラス転移温度(耐熱性)、貯蔵安定性などの
点から、前記のエポキシ樹脂1モルに対して、好ましく
は0.01〜0.07モル、特に好ましくは0.02〜
0.05モルである。
本発明の組成物には必要に応じて充填剤、難燃性、着色
剤、カンプリング剤等を配合してもよい。
剤、カンプリング剤等を配合してもよい。
充填剤としては、例えば結晶性シリカ、熔融シリカ、水
和アルミナ、アルミナ、炭酸カルシウム、水酸化マグネ
シウム、酸化マグネシウム、ケイ酸ジルコニウムが使用
される。
和アルミナ、アルミナ、炭酸カルシウム、水酸化マグネ
シウム、酸化マグネシウム、ケイ酸ジルコニウムが使用
される。
難燃剤としては、例えばエポキシ樹脂の臭化物、ヘキサ
ブロモベンゼン、テトラブロモビスフェノールA1ジブ
ロモジフエニルエーテル、ジクロロジフェニルエーテル
が使用される。
ブロモベンゼン、テトラブロモビスフェノールA1ジブ
ロモジフエニルエーテル、ジクロロジフェニルエーテル
が使用される。
着色剤としては、例えば、カーボンブラック、酸化チタ
ン、ベンガラ、有機顔料、無機顔料、染料が使用される
。
ン、ベンガラ、有機顔料、無機顔料、染料が使用される
。
カップリング剤としては、例えばγ−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル) T
−アミノプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルト
リイソステアロイルチタネート、テトライソプロピルビ
ス(ジオクチルホスファイト)チタネートが使用される
。
ビルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル) T
−アミノプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルト
リイソステアロイルチタネート、テトライソプロピルビ
ス(ジオクチルホスファイト)チタネートが使用される
。
(発明の効果)
本発明のエポキシ樹脂組成物は、従来の多液混合型のエ
ポキシ樹脂組成物と比較し、秤量および混合の必要がな
く、作業性に優れている。また室温付近での貯蔵安定性
に優れ、硬化物のガラス転移温度が高く、かつ100〜
150℃の温度で短時間で硬化することができる。さら
に本発明によれば、特定のエポキシ樹脂成分を用いるこ
とにより、貯蔵安定性、硬化性、硬化物の特性を損なう
ことなく、該組成物の粘度を大幅に低減することができ
る。
ポキシ樹脂組成物と比較し、秤量および混合の必要がな
く、作業性に優れている。また室温付近での貯蔵安定性
に優れ、硬化物のガラス転移温度が高く、かつ100〜
150℃の温度で短時間で硬化することができる。さら
に本発明によれば、特定のエポキシ樹脂成分を用いるこ
とにより、貯蔵安定性、硬化性、硬化物の特性を損なう
ことなく、該組成物の粘度を大幅に低減することができ
る。
本発明のエポキシ樹脂は、ダイオード、IC。
トランジスタ等の半導体装置(素子)の絶縁封止に好適
であり、封止された半導体装置(素子)も良好な特性を
有しており、半導体装置(素子)の信頼性の向上に大き
く寄与するものである。
であり、封止された半導体装置(素子)も良好な特性を
有しており、半導体装置(素子)の信頼性の向上に大き
く寄与するものである。
(発明の実施例)
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
エポキシ当量173の1.1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)エタンのジグリシジルエーテル(三井石油化学
エポキシ社製エボミックR−710)1.0モル、アジ
ピン酸ジヒドラジド0.1モルおよび2.4−ジアミノ
−6−(2−メチルイミダゾリル−(1))−エチル−
3−)リアジンイソシアヌレート0.03モルよりなる
混合物100gに対して、溶融シリカRD−8(龍森製
)200gを配合して、真空播潰器で5 T o r
rの減圧下に混合脱気し、本発明のエポキシ樹脂組成物
を得た。
ェニル)エタンのジグリシジルエーテル(三井石油化学
エポキシ社製エボミックR−710)1.0モル、アジ
ピン酸ジヒドラジド0.1モルおよび2.4−ジアミノ
−6−(2−メチルイミダゾリル−(1))−エチル−
3−)リアジンイソシアヌレート0.03モルよりなる
混合物100gに対して、溶融シリカRD−8(龍森製
)200gを配合して、真空播潰器で5 T o r
rの減圧下に混合脱気し、本発明のエポキシ樹脂組成物
を得た。
実施例2
1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタンのジグ
リシジルエーテル(エボミックR−710)1.0モル
、イソフタル酸ジヒドラジド0.15モルおよび2,4
−ジアミノ−6−(2−メチルイミダゾリル−(1))
−エチル−3−)リアジンイソシアヌレート0.04モ
ルよりなる混合物100gに対して、溶融シリカRD−
8200gを配合し、以下実施例1と同様に処理して、
本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。
リシジルエーテル(エボミックR−710)1.0モル
、イソフタル酸ジヒドラジド0.15モルおよび2,4
−ジアミノ−6−(2−メチルイミダゾリル−(1))
−エチル−3−)リアジンイソシアヌレート0.04モ
ルよりなる混合物100gに対して、溶融シリカRD−
8200gを配合し、以下実施例1と同様に処理して、
本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。
実施例3
1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタンのジグ
リシジルエーテル(エボミンクR−710)1.0モル
、アジピン酸ジヒドラジド0.05モルおよび2.4−
ジアミノ−6−(2−メチルイミダゾリル−(1))−
エチル−8−トリアジンイソシアヌレート0.02モル
よりなる混合物100gに対して、溶融シリカF−74
(電気化学工業■製)200gを配合し、以下実施例1
と同様に処理して、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た
。
リシジルエーテル(エボミンクR−710)1.0モル
、アジピン酸ジヒドラジド0.05モルおよび2.4−
ジアミノ−6−(2−メチルイミダゾリル−(1))−
エチル−8−トリアジンイソシアヌレート0.02モル
よりなる混合物100gに対して、溶融シリカF−74
(電気化学工業■製)200gを配合し、以下実施例1
と同様に処理して、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た
。
実施例4
1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタンのジグ
リシジルエーテル(エボミソクR−710)0.5モル
、エポキシ当量190のビスフェノールA型エポキシ樹
脂(三井石油化学エポキシ社5IR−140>0.5モ
ル、コハク酸ジヒドラジド0.1モルおよび2,4−ジ
アミノ−6−(2−メチルイミダゾリル−(1))−エ
チル−8−トリアジンイソシアヌレート0.04モルよ
りなる混合物100gに対して、溶融シリカF−741
80gを配合し、以下実施例1と同様に処理して、本発
明のエポキシ樹脂組成物を得た。
リシジルエーテル(エボミソクR−710)0.5モル
、エポキシ当量190のビスフェノールA型エポキシ樹
脂(三井石油化学エポキシ社5IR−140>0.5モ
ル、コハク酸ジヒドラジド0.1モルおよび2,4−ジ
アミノ−6−(2−メチルイミダゾリル−(1))−エ
チル−8−トリアジンイソシアヌレート0.04モルよ
りなる混合物100gに対して、溶融シリカF−741
80gを配合し、以下実施例1と同様に処理して、本発
明のエポキシ樹脂組成物を得た。
比較例1
1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタンのジグ
リシジルエーテル(エボミックR−710)1.0モル
、アジピン酸ジヒドラジド0.02モルおよび2,4−
ジアミノ−6−(2−メチルイミダゾリル−(1))−
エチル−8−トリアジンイソシアヌレート0.01モル
よりなる混合物100gに対して、熔融シリカRD−8
200gを配合し、以下実施例1と同様に処理して、本
発明の樹脂組成物を得た。
リシジルエーテル(エボミックR−710)1.0モル
、アジピン酸ジヒドラジド0.02モルおよび2,4−
ジアミノ−6−(2−メチルイミダゾリル−(1))−
エチル−8−トリアジンイソシアヌレート0.01モル
よりなる混合物100gに対して、熔融シリカRD−8
200gを配合し、以下実施例1と同様に処理して、本
発明の樹脂組成物を得た。
比較例2
エポキシ当量190のビスフェノールA型エポキシ樹脂
(R−140) 1.0モル、アジピン酸ジヒドラジド
0.1モルおよび2.4−ジアミノ−6−(2−メチル
イミダゾリル−(1))−エチル−8−トリアジンイソ
シアヌレート0.03モルよりなる混合物100gに対
して、熔融シリカRD−8200gを配合し、以下実施
例1と同様に処理して、樹脂組成物を得た。
(R−140) 1.0モル、アジピン酸ジヒドラジド
0.1モルおよび2.4−ジアミノ−6−(2−メチル
イミダゾリル−(1))−エチル−8−トリアジンイソ
シアヌレート0.03モルよりなる混合物100gに対
して、熔融シリカRD−8200gを配合し、以下実施
例1と同様に処理して、樹脂組成物を得た。
比較例3
エポキシ当量165のビスフェノールF型エポキシ樹脂
(東部化成製YDF 170) 1.0モル、アジピン
酸ジヒドラジド0.1モルおよび2.4−ジアミノ−6
−(2−メチルイミダゾリル−(1))−エチル−3−
)リアジンイソシアヌレート0.03モルよりなる混合
物100gに対して、熔融シリカRD−8200gを配
合し、以下実施例1と同様に処理して、樹脂組成物を得
た。
(東部化成製YDF 170) 1.0モル、アジピン
酸ジヒドラジド0.1モルおよび2.4−ジアミノ−6
−(2−メチルイミダゾリル−(1))−エチル−3−
)リアジンイソシアヌレート0.03モルよりなる混合
物100gに対して、熔融シリカRD−8200gを配
合し、以下実施例1と同様に処理して、樹脂組成物を得
た。
比較例4
エポキシ当量173の1.1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)エタンのジグリシジルエーテル(エポミックR
−710)1.0モル、アジピン酸ジヒドラジド0.2
5モルおよび2.4−ジアミノ−6−+2−メチルイミ
ダゾリル−(1))−エチル−8−トリアジンイソシア
ヌレート0.08モルよりなる混合物100gに対して
、溶融シリカRD−8200gを配合し、以下実施例1
と同様に処理して、樹脂組成物を得た。
ェニル)エタンのジグリシジルエーテル(エポミックR
−710)1.0モル、アジピン酸ジヒドラジド0.2
5モルおよび2.4−ジアミノ−6−+2−メチルイミ
ダゾリル−(1))−エチル−8−トリアジンイソシア
ヌレート0.08モルよりなる混合物100gに対して
、溶融シリカRD−8200gを配合し、以下実施例1
と同様に処理して、樹脂組成物を得た。
比較例5
エポキシ当量173の1.1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)エタンのジグリシジルエーテル(エボミソクR
−710)1.0モル、ジシアンジアミド0.1モルお
よび2.4−ジアミノ−6−(2−メチルイミダゾリル
−(1))−エチル−8−トリアジンイソシアヌレート
0.04モルよりなる混合物100gに対して、溶融シ
リカRI)−8200gを配合し、以下実施例1と同様
に処理して、樹脂組成物を得た。
ェニル)エタンのジグリシジルエーテル(エボミソクR
−710)1.0モル、ジシアンジアミド0.1モルお
よび2.4−ジアミノ−6−(2−メチルイミダゾリル
−(1))−エチル−8−トリアジンイソシアヌレート
0.04モルよりなる混合物100gに対して、溶融シ
リカRI)−8200gを配合し、以下実施例1と同様
に処理して、樹脂組成物を得た。
実施例および比較例で得られた樹脂組成物について、下
記のようにして特性を評価し、その結果を第1表に示す
。
記のようにして特性を評価し、その結果を第1表に示す
。
1、ゲル化時間(分)の測定
所定の温度に保温したホットプレート上に、樹脂組成物
1gを乗せ、攪拌しながら樹脂の流動性がなくなるまで
の時間を測定し、ゲル化時間とし2、ガラス転移温度(
’C)の測定 樹脂組成物を金属シャーレに0.3〜0.7fiの膜厚
で塗布し、120°Cで2時間、次いで150℃で4時
間硬化して硬化物を得た。この硬化物をパーキン・エル
マー(Perkin Elmer)製熱物理試験器T
MI−1型を用いて線膨張率を測定し、その変曲点をガ
ラス転移温度とした。
1gを乗せ、攪拌しながら樹脂の流動性がなくなるまで
の時間を測定し、ゲル化時間とし2、ガラス転移温度(
’C)の測定 樹脂組成物を金属シャーレに0.3〜0.7fiの膜厚
で塗布し、120°Cで2時間、次いで150℃で4時
間硬化して硬化物を得た。この硬化物をパーキン・エル
マー(Perkin Elmer)製熱物理試験器T
MI−1型を用いて線膨張率を測定し、その変曲点をガ
ラス転移温度とした。
3、可使時間(日)の測定
樹脂組成物200gを密閉容器に入れ、所定温度に放置
し、所定時間ごとに粘度を測定した。粘度が初期値の1
.5倍に達する時間を可使時間とした。
し、所定時間ごとに粘度を測定した。粘度が初期値の1
.5倍に達する時間を可使時間とした。
4、半導体装置(素子)の評価方法
樹脂組成物を用いて、MO3型ICを封止後、120℃
で2時間、次いで150℃で5時間硬化し、半導体装置
(素子)を製作した。この素子を121℃、2気圧の水
蒸気中に所定時間放置してIcの断線率を評価した。
で2時間、次いで150℃で5時間硬化し、半導体装置
(素子)を製作した。この素子を121℃、2気圧の水
蒸気中に所定時間放置してIcの断線率を評価した。
以下余白
第1表
以下余白
第1表(続き)
第1表の結果から、本発明になるエポキシ樹脂組成物は
、室温付近で優れた貯蔵安定性性を有し、またその硬化
物のガラス転移温度が高(、また120〜150℃の温
度で速やかに硬化可能であることが分る。
、室温付近で優れた貯蔵安定性性を有し、またその硬化
物のガラス転移温度が高(、また120〜150℃の温
度で速やかに硬化可能であることが分る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 (A)1、1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン
のジグリシジルエーテル、 (B)有機2塩基酸ジヒドラジドおよび (C)一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中nは1〜14の整数、R_1は水素、アルキル基
またはフェノール基、R_2およびR_3は水素、アル
キル基またはヒドロキシメチル基を示す)で表わされる
イミダゾール化合物を含有してなるエポキシ樹脂組成物
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15997684A JPS6136318A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15997684A JPS6136318A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6136318A true JPS6136318A (ja) | 1986-02-21 |
| JPS6316412B2 JPS6316412B2 (ja) | 1988-04-08 |
Family
ID=15705283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15997684A Granted JPS6136318A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6136318A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04146980A (ja) * | 1990-10-09 | 1992-05-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品用塗料組成物 |
| JP2017520111A (ja) * | 2014-06-18 | 2017-07-20 | ヘレウス ドイチェラント ゲーエムベーハー ウント カンパニー カーゲー | 少なくとも1つの半導体部品を覆う封止化合物を含む半導体モジュール |
| JP2023029875A (ja) * | 2017-11-14 | 2023-03-07 | 株式会社弘輝 | 補強用樹脂組成物及び電子部品装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013045994A (ja) * | 2011-08-26 | 2013-03-04 | Dexerials Corp | 太陽電池用導電性接着剤及びこれを用いた接続方法、太陽電池モジュール、太陽電池モジュールの製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55165916A (en) * | 1979-06-11 | 1980-12-24 | Shikoku Chem Corp | Epoxy resin composition |
| JPS5639314A (en) * | 1979-09-03 | 1981-04-15 | Topura Kk | Self screw thread forming type fixing screw |
| JPS5949224A (ja) * | 1982-09-14 | 1984-03-21 | Hitachi Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP15997684A patent/JPS6136318A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55165916A (en) * | 1979-06-11 | 1980-12-24 | Shikoku Chem Corp | Epoxy resin composition |
| JPS5639314A (en) * | 1979-09-03 | 1981-04-15 | Topura Kk | Self screw thread forming type fixing screw |
| JPS5949224A (ja) * | 1982-09-14 | 1984-03-21 | Hitachi Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04146980A (ja) * | 1990-10-09 | 1992-05-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品用塗料組成物 |
| JP2017520111A (ja) * | 2014-06-18 | 2017-07-20 | ヘレウス ドイチェラント ゲーエムベーハー ウント カンパニー カーゲー | 少なくとも1つの半導体部品を覆う封止化合物を含む半導体モジュール |
| US10593608B2 (en) | 2014-06-18 | 2020-03-17 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Semiconductor module comprising an encapsulating compound that covers at least one semiconductor component |
| JP2023029875A (ja) * | 2017-11-14 | 2023-03-07 | 株式会社弘輝 | 補強用樹脂組成物及び電子部品装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6316412B2 (ja) | 1988-04-08 |
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