JPS6225687B2 - - Google Patents
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Description
本発明は、一液型エポキシ樹脂組成物に関し、
更に詳しくは室温付近で優れた貯蔵安定性を有
し、かつ100〜150℃の温度で加熱することにより
速やかに硬化可能な一液型エポキシ樹脂組成物に
関する。 従来、エポキシ樹脂は電気特性、耐湿性および
接着性に優れ、しかもポリエステル樹脂などと比
較して硬化時の収縮が小さいという特性を有する
ため電気部品、半導体素子、集積回路の絶縁封止
用等として広く使用されている。 エポキシ樹脂の一般的な硬化剤としては、従来
ポリアミン類、有機二塩基酸無水物およびフエノ
ール樹脂が使用されているが、これらの硬化剤は
エポキシ樹脂と混合した場合の可使時間が数分な
いし数日と短いため、エポキシ樹脂と硬化剤とを
別々に保管しておき、使用直前に混合する多液型
であり、そのため予備分散―秤量―混合―脱気の
作業工程が必要とされていた。 このような作業の作業性を向上させるため用い
られる一液型エポキシ樹脂組成物用の潜在性硬化
剤としては、三フツ化ほう素のアミン錯体または
ジシアンジアミドがあげられる。しかしながら、
三フツ化ほう素のアミン錯体は、数ケ月の可使時
間を有し、しかも120〜150℃で速やかに硬化可能
であるが、硬化時にアミンガスを発生しやすく、
このため特に半導体素子を含む電子部品の封止剤
としては素子を汚染する点から好ましくない。 また、ジシアンジアミドは硬化剤として単独で
使用する場合は170℃以上という高い硬化温度が
必要である。また、ジシアンジアミドの硬化促進
剤としてはイミダゾール化合物(特開昭55―
165916号公報)、p―(クロロフエニル)―1,
1―N―ジメチル尿素(特開昭50―25700号公
報)が知られているが、厚膜で硬化させる場合は
硬化発熱が高く、これらの硬化促進剤を分解せし
め、ガスを発生して半導体素子を汚染するため好
ましくない。一方、薄膜で硬化させる場合は硬化
性に劣るという欠点を有しており、半導体素子の
封止には適さない。 本発明の目的はこれらの従来技術の欠点を除去
し、室温付近では優れた潜在性(具体的には例え
ば4ケ月以上の可使時間)を有し、かつ100〜150
℃の温度で速やかに硬化可能な一液型エポキシ樹
脂組成物を提供することにある。 本発明は、エポキシ樹脂100モルに、3〜15モ
ルの有機二塩基酸ジヒドラジドおよび1〜6モル
の一般式 (式中nは1〜14の整数、R1,R2およびR3は
水素原子、アルキル基またはフエニル基を示す)
で表わされるイミダゾール化合物を含有してなる
一液型エポキシ樹脂組成物に関する。 本発明に使用するエポキシ樹脂としては、例え
ばビスフエノールA、ビスフエノールF、フエノ
ールノボラツク樹脂、クレゾールノボラツク樹脂
等の多価フエノール類とエピクロルヒドリンとか
ら誘導されるエポキシ樹脂、多塩基酸とエピクロ
ルヒドリンとから誘導されるジグリジルエステル
およびその誘導体、ジシクロペンタジエンオキサ
イド、3,4―エポキシ―6―メチルシクロヘキ
シルメチル―3,4―エポキシ―6―メチルシク
ロヘキサンカルボキシレートなどが挙げられ、特
に制限はないが、分子内にエポキシ基を1個より
多く含むエポキシ樹脂が好ましい。 本発明に使用される有機二塩基酸ジヒドラジド
は公知の方法によつて製造される化合物であり、
例えばシユウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン
酸、セバシン酸、ドデカン2酸、ヘキサデカン2
酸、イソフタル酸から誘導されるジヒドラジドが
挙げられる。これらは単独で、または2種以上を
組合せて使用することができる。有機二塩基酸ジ
ヒドラジドの配合量は、前記エポキシ樹脂100モ
ルに対して3〜15モル、好ましくは5〜12モルで
ある。有機二塩基酸ジヒドラジドの配合量が3モ
ル未満の場合は、硬化性が著しく劣り、しかも硬
化物のガラス転移温度が低く、耐熱性や電気絶縁
性に乏しい。またこの配合量が15モルを越える場
合は、可使時間が短くなる。 本発明になるエポキシ樹脂組成物には、硬化促
進剤として前記の一般式で表わされるイミダゾー
ル化合物が配合使用される。 上記の一般式で表わされるイミダゾール化合物
としては、例えば2,4―ジアミノ―6{2′―メ
チルイミダゾリル―(1)′}エチル―s―トリアジ
ンとイソシアヌル酸との付加体、2,4―ジアミ
ノ―6{2′―メチル―イミダゾリル―(1)′}ウン
デシル―s―トリアジンとイソシアヌル酸との付
加体、2,4―ジアミノ―6{2′―フエニル―イ
ミダゾリル―(1)′}エチル―s―トリアジンとイ
ソシアヌル酸の付加体等が挙げられる。イミダゾ
ール化合物の配合量は、前記エポキシ樹脂100モ
ルに対して1〜6モルとされ、硬化性、可使時間
および硬化物のガラス転移温度のバランスから2
〜4モルが好ましい。イミダゾール化合物の配合
量が1モル未満の場合は、硬化性に劣り、ゲル化
するまで極めて長時間を要するばかりでなく、硬
化物のガラス転移温度が低い。またこの配合量が
6モルを越える場合は、可使時間が短くなり、好
ましくない。 本発明になる一液型エポキシ樹脂組成物は、前
記エポキシ樹脂、有機二塩基酸ジヒドラジドおよ
びイミダゾール化合物をそれぞれ前記配合量で混
合して得られる。 本発明になるエポキシ樹脂組成物には所望によ
り充てん剤、難燃剤、着色剤、、カツプリング剤
等を含んでもよい。 本発明になる一液型エポキシ樹脂組成物は、従
来の多液型と異なり、秤量―混合の作業の必要が
なく、作業性に優れている。またこのエポキシ樹
脂組成物は室温付近で長期間の可使時間を有し、
かつ100〜150℃で速やかに硬化する。得られる硬
化物は高いガラス転移温度を有するため、作動時
に高い温度を発生する半導体素子を含む、例えば
高圧ダイオード、ゲート・ターン・オブサイリス
タ、HIC、パワーモジユール等の電子部品の絶縁
封止材料に適する。しかも室温付近の温度で液状
であり取扱いやすく、材料の歩留が向上する。従
来、前記電子部品の絶縁封止には低圧トランスフ
アー成形法が採用されてきたが、本発明の樹脂組
成物は、低圧トランスフアー成形材料と異なり、
室温付近で液状のため、硬化に際し、特に高精度
の成形機、金型等の特殊な装置を使用せず、容易
に注型可能であり、従つて生産性だけでなく、電
子部品の信頼性をも向上させることができる。 以下、本発明を実施例および比較例により説明
する。 実施例 1 エポキシ当量190のエピービス型エポキシ樹脂
(油化シエル社製エピコート828)100モル、セバ
シン酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン社製)7モ
ルおよび2,4―ジアミノ6{2′―メチル―イミ
ダゾリル―(1)′}エチル―s―トリアジン(R1:
メチル基,R2R3:水素,n:2)とイソシアヌ
ル酸との付加体(四国化成社製2MA―OK)3モ
ルをラボスターラーで撹拌しのち、小型3本ロー
ルで十分に混練し、次いで5Torrの減圧下に脱気
して試料を調整した。 実施例 2 エポキシ当量190のエピービス型エポキシ樹脂
(油化シエル社製エピコート828)100モル、アジ
ピン酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン社製)3モ
ル、ドデカン2酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン
社製)5モルおよび2,4―ジアミノ―6{2′―
メチル―イミダゾリル―(1)′}エチル―s―トリ
アジンとイソシアヌル酸との付加体(四国化成社
製)3モルを用い、その他は実施例1と同様にし
て試料を調製した。 実施例 3 エポキシ当量170〜180のエピービス型エポキシ
樹脂(油化シエル社製エピコート807)20モル、
エポキシ当量170〜180のフエノールノボラツク型
エポキシ樹脂(ダウ・ケミカル社製DEN438)80
モル、アジピン酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン
社製)10モルおよび2,4―ジアミノ―6{2′―
メチル―イミダゾリル―(1)′}ウンデシル―s―
トリアジン(R1:メチル基、R2,R3:水素、
n:12)とイソシアヌル酸との付加体2モルを用
い、その他は実施例1と同様にして試料を調製し
た。 比較例 1 エポキシ当量190のエピービス型エポキシ樹脂
(油化シエル社製エピコート828)100モル、アジ
ピン酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン社製)25モ
ルおよび2,4―ジアミノ―6{2′―メチル―イ
ミダゾリル―(1)′}エチル―s―トリアジンとイ
ソシアヌル酸との付加体(四国化成社製2MA―
OK)2モルを用い、その他は実施例1と同様に
して試料を調製した。 比較例 2 エポキシ当量190のエピービス型エポキシ樹脂
(油化シエル社製エピコート828)100モル、アジ
ピン酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン社製)10モ
ルおよび2,4―ジアミノ―6{2′―メチル―イ
ミダゾリル―(1)′}エチル―s―トリアジンとイ
ソシアヌル酸との付加体(四国化成社製2MA―
OK)10モルを用い、その他は実施例1と同様に
して試料を調製した。 比較例 3 エポキシ当量190のエピービス型エポキシ樹脂
(油化シエル社製エピコート828)100モル、ジシ
アンジアミド(和光純薬社製)10モルおよび2,
4―ジアミノ―6{2′―メチル―イミダゾリル―
(1)′}エチル―s―トリアジンとイソシアヌル酸
との付加体(四国化成社製2MA―OK)2モルを
用い、その他は実施例1と同様にして試料を調製
した。 実施例1〜3および比較例1〜3の試料を用い
て、下記の方法でゲル化時間、ガラス転移温度お
よび可使時間を測定した結果を第1表にまとめて
示す。 (1) ゲル化時間の測定 所定の温度に保温したホツトプレート上に前記
混練試料を1g採取し、ミクロスパチユラで撹拌
しながら樹脂の流動性がなくなるまでの時間を測
定し、ゲル化時間とした。 (2) ガラス転移温度の測定 前記混練試料を、0.3〜0.7mmの膜厚で、120℃
で2時間、次いで160℃で2時間硬化させて得ら
れた試料について、パーキン・エルマー社
(Perkin Elmer社)製熱物理試験器TMS―1で
線膨張率を測定し、その変曲点をガラス転移温度
とした。 (3) 可使時間の測定 前記混練試料200gを、密閉容器に入れ、所定
温度に放置し、1日毎に25℃における粘度を測定
し、粘度が初期粘度の1.5倍に達した時間を可使
時間とした。
更に詳しくは室温付近で優れた貯蔵安定性を有
し、かつ100〜150℃の温度で加熱することにより
速やかに硬化可能な一液型エポキシ樹脂組成物に
関する。 従来、エポキシ樹脂は電気特性、耐湿性および
接着性に優れ、しかもポリエステル樹脂などと比
較して硬化時の収縮が小さいという特性を有する
ため電気部品、半導体素子、集積回路の絶縁封止
用等として広く使用されている。 エポキシ樹脂の一般的な硬化剤としては、従来
ポリアミン類、有機二塩基酸無水物およびフエノ
ール樹脂が使用されているが、これらの硬化剤は
エポキシ樹脂と混合した場合の可使時間が数分な
いし数日と短いため、エポキシ樹脂と硬化剤とを
別々に保管しておき、使用直前に混合する多液型
であり、そのため予備分散―秤量―混合―脱気の
作業工程が必要とされていた。 このような作業の作業性を向上させるため用い
られる一液型エポキシ樹脂組成物用の潜在性硬化
剤としては、三フツ化ほう素のアミン錯体または
ジシアンジアミドがあげられる。しかしながら、
三フツ化ほう素のアミン錯体は、数ケ月の可使時
間を有し、しかも120〜150℃で速やかに硬化可能
であるが、硬化時にアミンガスを発生しやすく、
このため特に半導体素子を含む電子部品の封止剤
としては素子を汚染する点から好ましくない。 また、ジシアンジアミドは硬化剤として単独で
使用する場合は170℃以上という高い硬化温度が
必要である。また、ジシアンジアミドの硬化促進
剤としてはイミダゾール化合物(特開昭55―
165916号公報)、p―(クロロフエニル)―1,
1―N―ジメチル尿素(特開昭50―25700号公
報)が知られているが、厚膜で硬化させる場合は
硬化発熱が高く、これらの硬化促進剤を分解せし
め、ガスを発生して半導体素子を汚染するため好
ましくない。一方、薄膜で硬化させる場合は硬化
性に劣るという欠点を有しており、半導体素子の
封止には適さない。 本発明の目的はこれらの従来技術の欠点を除去
し、室温付近では優れた潜在性(具体的には例え
ば4ケ月以上の可使時間)を有し、かつ100〜150
℃の温度で速やかに硬化可能な一液型エポキシ樹
脂組成物を提供することにある。 本発明は、エポキシ樹脂100モルに、3〜15モ
ルの有機二塩基酸ジヒドラジドおよび1〜6モル
の一般式 (式中nは1〜14の整数、R1,R2およびR3は
水素原子、アルキル基またはフエニル基を示す)
で表わされるイミダゾール化合物を含有してなる
一液型エポキシ樹脂組成物に関する。 本発明に使用するエポキシ樹脂としては、例え
ばビスフエノールA、ビスフエノールF、フエノ
ールノボラツク樹脂、クレゾールノボラツク樹脂
等の多価フエノール類とエピクロルヒドリンとか
ら誘導されるエポキシ樹脂、多塩基酸とエピクロ
ルヒドリンとから誘導されるジグリジルエステル
およびその誘導体、ジシクロペンタジエンオキサ
イド、3,4―エポキシ―6―メチルシクロヘキ
シルメチル―3,4―エポキシ―6―メチルシク
ロヘキサンカルボキシレートなどが挙げられ、特
に制限はないが、分子内にエポキシ基を1個より
多く含むエポキシ樹脂が好ましい。 本発明に使用される有機二塩基酸ジヒドラジド
は公知の方法によつて製造される化合物であり、
例えばシユウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン
酸、セバシン酸、ドデカン2酸、ヘキサデカン2
酸、イソフタル酸から誘導されるジヒドラジドが
挙げられる。これらは単独で、または2種以上を
組合せて使用することができる。有機二塩基酸ジ
ヒドラジドの配合量は、前記エポキシ樹脂100モ
ルに対して3〜15モル、好ましくは5〜12モルで
ある。有機二塩基酸ジヒドラジドの配合量が3モ
ル未満の場合は、硬化性が著しく劣り、しかも硬
化物のガラス転移温度が低く、耐熱性や電気絶縁
性に乏しい。またこの配合量が15モルを越える場
合は、可使時間が短くなる。 本発明になるエポキシ樹脂組成物には、硬化促
進剤として前記の一般式で表わされるイミダゾー
ル化合物が配合使用される。 上記の一般式で表わされるイミダゾール化合物
としては、例えば2,4―ジアミノ―6{2′―メ
チルイミダゾリル―(1)′}エチル―s―トリアジ
ンとイソシアヌル酸との付加体、2,4―ジアミ
ノ―6{2′―メチル―イミダゾリル―(1)′}ウン
デシル―s―トリアジンとイソシアヌル酸との付
加体、2,4―ジアミノ―6{2′―フエニル―イ
ミダゾリル―(1)′}エチル―s―トリアジンとイ
ソシアヌル酸の付加体等が挙げられる。イミダゾ
ール化合物の配合量は、前記エポキシ樹脂100モ
ルに対して1〜6モルとされ、硬化性、可使時間
および硬化物のガラス転移温度のバランスから2
〜4モルが好ましい。イミダゾール化合物の配合
量が1モル未満の場合は、硬化性に劣り、ゲル化
するまで極めて長時間を要するばかりでなく、硬
化物のガラス転移温度が低い。またこの配合量が
6モルを越える場合は、可使時間が短くなり、好
ましくない。 本発明になる一液型エポキシ樹脂組成物は、前
記エポキシ樹脂、有機二塩基酸ジヒドラジドおよ
びイミダゾール化合物をそれぞれ前記配合量で混
合して得られる。 本発明になるエポキシ樹脂組成物には所望によ
り充てん剤、難燃剤、着色剤、、カツプリング剤
等を含んでもよい。 本発明になる一液型エポキシ樹脂組成物は、従
来の多液型と異なり、秤量―混合の作業の必要が
なく、作業性に優れている。またこのエポキシ樹
脂組成物は室温付近で長期間の可使時間を有し、
かつ100〜150℃で速やかに硬化する。得られる硬
化物は高いガラス転移温度を有するため、作動時
に高い温度を発生する半導体素子を含む、例えば
高圧ダイオード、ゲート・ターン・オブサイリス
タ、HIC、パワーモジユール等の電子部品の絶縁
封止材料に適する。しかも室温付近の温度で液状
であり取扱いやすく、材料の歩留が向上する。従
来、前記電子部品の絶縁封止には低圧トランスフ
アー成形法が採用されてきたが、本発明の樹脂組
成物は、低圧トランスフアー成形材料と異なり、
室温付近で液状のため、硬化に際し、特に高精度
の成形機、金型等の特殊な装置を使用せず、容易
に注型可能であり、従つて生産性だけでなく、電
子部品の信頼性をも向上させることができる。 以下、本発明を実施例および比較例により説明
する。 実施例 1 エポキシ当量190のエピービス型エポキシ樹脂
(油化シエル社製エピコート828)100モル、セバ
シン酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン社製)7モ
ルおよび2,4―ジアミノ6{2′―メチル―イミ
ダゾリル―(1)′}エチル―s―トリアジン(R1:
メチル基,R2R3:水素,n:2)とイソシアヌ
ル酸との付加体(四国化成社製2MA―OK)3モ
ルをラボスターラーで撹拌しのち、小型3本ロー
ルで十分に混練し、次いで5Torrの減圧下に脱気
して試料を調整した。 実施例 2 エポキシ当量190のエピービス型エポキシ樹脂
(油化シエル社製エピコート828)100モル、アジ
ピン酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン社製)3モ
ル、ドデカン2酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン
社製)5モルおよび2,4―ジアミノ―6{2′―
メチル―イミダゾリル―(1)′}エチル―s―トリ
アジンとイソシアヌル酸との付加体(四国化成社
製)3モルを用い、その他は実施例1と同様にし
て試料を調製した。 実施例 3 エポキシ当量170〜180のエピービス型エポキシ
樹脂(油化シエル社製エピコート807)20モル、
エポキシ当量170〜180のフエノールノボラツク型
エポキシ樹脂(ダウ・ケミカル社製DEN438)80
モル、アジピン酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン
社製)10モルおよび2,4―ジアミノ―6{2′―
メチル―イミダゾリル―(1)′}ウンデシル―s―
トリアジン(R1:メチル基、R2,R3:水素、
n:12)とイソシアヌル酸との付加体2モルを用
い、その他は実施例1と同様にして試料を調製し
た。 比較例 1 エポキシ当量190のエピービス型エポキシ樹脂
(油化シエル社製エピコート828)100モル、アジ
ピン酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン社製)25モ
ルおよび2,4―ジアミノ―6{2′―メチル―イ
ミダゾリル―(1)′}エチル―s―トリアジンとイ
ソシアヌル酸との付加体(四国化成社製2MA―
OK)2モルを用い、その他は実施例1と同様に
して試料を調製した。 比較例 2 エポキシ当量190のエピービス型エポキシ樹脂
(油化シエル社製エピコート828)100モル、アジ
ピン酸ジヒドラジド(日本ヒドラジン社製)10モ
ルおよび2,4―ジアミノ―6{2′―メチル―イ
ミダゾリル―(1)′}エチル―s―トリアジンとイ
ソシアヌル酸との付加体(四国化成社製2MA―
OK)10モルを用い、その他は実施例1と同様に
して試料を調製した。 比較例 3 エポキシ当量190のエピービス型エポキシ樹脂
(油化シエル社製エピコート828)100モル、ジシ
アンジアミド(和光純薬社製)10モルおよび2,
4―ジアミノ―6{2′―メチル―イミダゾリル―
(1)′}エチル―s―トリアジンとイソシアヌル酸
との付加体(四国化成社製2MA―OK)2モルを
用い、その他は実施例1と同様にして試料を調製
した。 実施例1〜3および比較例1〜3の試料を用い
て、下記の方法でゲル化時間、ガラス転移温度お
よび可使時間を測定した結果を第1表にまとめて
示す。 (1) ゲル化時間の測定 所定の温度に保温したホツトプレート上に前記
混練試料を1g採取し、ミクロスパチユラで撹拌
しながら樹脂の流動性がなくなるまでの時間を測
定し、ゲル化時間とした。 (2) ガラス転移温度の測定 前記混練試料を、0.3〜0.7mmの膜厚で、120℃
で2時間、次いで160℃で2時間硬化させて得ら
れた試料について、パーキン・エルマー社
(Perkin Elmer社)製熱物理試験器TMS―1で
線膨張率を測定し、その変曲点をガラス転移温度
とした。 (3) 可使時間の測定 前記混練試料200gを、密閉容器に入れ、所定
温度に放置し、1日毎に25℃における粘度を測定
し、粘度が初期粘度の1.5倍に達した時間を可使
時間とした。
【表】
第1表の結果から、本発明になる一液型エポキ
シ樹脂組成物は、室温付近で長期間の可使時間を
有し、かつ100〜150℃で速やかに硬化し、しかも
硬化物のガラス移転温度が高いことが示される。
シ樹脂組成物は、室温付近で長期間の可使時間を
有し、かつ100〜150℃で速やかに硬化し、しかも
硬化物のガラス移転温度が高いことが示される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エポキシ樹脂100モルに、3〜15モルの有機
二塩基酸ジヒドラジドおよび1〜6モルの一般式 (式中nは1〜14の整数、R1,R2およびR3は
水素原子、アルキル基またはフエニル基を示
す。)で表わされるイミダゾール化合物を含有し
てなる一液型エポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12961783A JPS6020927A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 一液型エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12961783A JPS6020927A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 一液型エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6020927A JPS6020927A (ja) | 1985-02-02 |
JPS6225687B2 true JPS6225687B2 (ja) | 1987-06-04 |
Family
ID=15013893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12961783A Granted JPS6020927A (ja) | 1983-07-15 | 1983-07-15 | 一液型エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6020927A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0632824B2 (ja) * | 1985-02-27 | 1994-05-02 | 三菱樹脂株式会社 | 微生物保持体 |
JPS62195016A (ja) * | 1986-02-21 | 1987-08-27 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 一液型エポキシ樹脂組成物 |
JPH0791506B2 (ja) * | 1990-10-09 | 1995-10-04 | 松下電器産業株式会社 | 電子部品用塗料組成物 |
-
1983
- 1983-07-15 JP JP12961783A patent/JPS6020927A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6020927A (ja) | 1985-02-02 |
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