JPS6127690B2 - - Google Patents
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- JPS6127690B2 JPS6127690B2 JP4375381A JP4375381A JPS6127690B2 JP S6127690 B2 JPS6127690 B2 JP S6127690B2 JP 4375381 A JP4375381 A JP 4375381A JP 4375381 A JP4375381 A JP 4375381A JP S6127690 B2 JPS6127690 B2 JP S6127690B2
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- scale
- light
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光電式変位検出装置に係り、特に、
直線変位測定器に用いるに好適な、光源と、該光
源より光が照射され、相互作用により影像を形成
可能な目盛縞がそれぞれ形成された第1スケール
及び第2スケールと、該第1スケール及び第2ス
ケールにより形成された影像が投射され、該影像
と相互作用を営む目盛縞が形成された第3スケー
ルと、該第3スケールからの出射光を受光する受
光素子とを有し、第1、第3スケールと第2スケ
ール間の相対移動に伴なう受光量の変化から相対
変位量を検出する光電式変位検出装置の改良に関
する。
直線変位測定器に用いるに好適な、光源と、該光
源より光が照射され、相互作用により影像を形成
可能な目盛縞がそれぞれ形成された第1スケール
及び第2スケールと、該第1スケール及び第2ス
ケールにより形成された影像が投射され、該影像
と相互作用を営む目盛縞が形成された第3スケー
ルと、該第3スケールからの出射光を受光する受
光素子とを有し、第1、第3スケールと第2スケ
ール間の相対移動に伴なう受光量の変化から相対
変位量を検出する光電式変位検出装置の改良に関
する。
一般に、物体の長さ等を測定する直線変位測定
器において、その本体に対する測定子の移動量、
コラムに対するスライダーの移動量等のように、
相対移動するものの移動量を測定する場合、一方
にメインスケール、他方にインデツクススケール
を含む検出器を固定し、メインスケールと検出器
の相対変位量を光電的に読み取るものが知られて
いる。
器において、その本体に対する測定子の移動量、
コラムに対するスライダーの移動量等のように、
相対移動するものの移動量を測定する場合、一方
にメインスケール、他方にインデツクススケール
を含む検出器を固定し、メインスケールと検出器
の相対変位量を光電的に読み取るものが知られて
いる。
このような直線変位測定器においては、通常、
第1図に示すような光電式変位検出装置が用いら
れている。図において、10はランプ等の光源、
12は、該光源10より照射された光を平行光線
化するためのコリメータレンズ、14及び16は
測定対象の変位に応じて、例えばインデツクスス
ケール14に対してメインスケール16を図の矢
印A方向に往復動することにより、互いに相対移
動される、交互に配置された同一幅の光透過部と
光遮断部から成る目盛縞14a,16aがガラス
製の平板上に形成されて成るインデツクススケー
ル及びメインスケール、18は、メインスケール
16からの出射光を集光する集光レンズ、20
は、該集光レンズ18によつて集光された光を受
光する受光素子であり、光源10、コリメータレ
ンズ12、インデツクススケール14、集光レン
ンズ18、受光素子20は、例えば、略密閉構造
のケース内に収容されて、測定対象に固定され、
一方、メインスケール16は、ベースに固定され
ている。前記目盛縞14a,16aは、例えば、
スケールの基体となるガラス製の平板上に金属を
蒸着した後、光透過部をエツチングで除去するこ
とにより、スケールの表面上に形成されている。
第1図に示すような光電式変位検出装置が用いら
れている。図において、10はランプ等の光源、
12は、該光源10より照射された光を平行光線
化するためのコリメータレンズ、14及び16は
測定対象の変位に応じて、例えばインデツクスス
ケール14に対してメインスケール16を図の矢
印A方向に往復動することにより、互いに相対移
動される、交互に配置された同一幅の光透過部と
光遮断部から成る目盛縞14a,16aがガラス
製の平板上に形成されて成るインデツクススケー
ル及びメインスケール、18は、メインスケール
16からの出射光を集光する集光レンズ、20
は、該集光レンズ18によつて集光された光を受
光する受光素子であり、光源10、コリメータレ
ンズ12、インデツクススケール14、集光レン
ンズ18、受光素子20は、例えば、略密閉構造
のケース内に収容されて、測定対象に固定され、
一方、メインスケール16は、ベースに固定され
ている。前記目盛縞14a,16aは、例えば、
スケールの基体となるガラス製の平板上に金属を
蒸着した後、光透過部をエツチングで除去するこ
とにより、スケールの表面上に形成されている。
このような光電式変位検出装置を備えた直線変
位測定器によれば、測定対象とベースの相対変位
に応じて、インデツクススケール14等に対して
メインスケール16が変位すると、受光素子20
における受光量が周期的に変化するため、この受
光量の変化から、測定対象とベースの相対移動量
を検出できるものであり、測定対象の変位をデジ
タル的に測定できるという特徴を有する。
位測定器によれば、測定対象とベースの相対変位
に応じて、インデツクススケール14等に対して
メインスケール16が変位すると、受光素子20
における受光量が周期的に変化するため、この受
光量の変化から、測定対象とベースの相対移動量
を検出できるものであり、測定対象の変位をデジ
タル的に測定できるという特徴を有する。
ところで、このような光電式変位検出装置にお
いて、その分解能を高めるためには、目盛縞14
a,16aの光透過部と光遮断部の幅を狭くし、
読み取り精度を向上するためには、目盛縞14a
と16aの対向間隔(第1図B)を小さくする必
要があり、目盛縞の光透過部と光遮断部の幅と目
盛縞の対向間隔Bは略比例する。従つて、所望分
解能を得るべく光透過部と光遮断部の幅を所望値
に選定した時には、これに対応する目盛縞の対向
間隔Bが自動的に定まつてしまう。又、目盛縞間
の対向間隔Bの基準間隔に対する変動許容値も対
向間隔Bに略比例する。例えば、目盛縞の光透過
部と光遮断部の幅がそれぞれ20μmである場合、
目盛縞の対向間隔Bを30±10μmの範囲内に維持
する必要があり、又、目盛縞の光透過部と光遮断
部の幅がそれぞれ10μmである場合には、目盛縞
の対向間隔Bを20±5μmの範囲内に維持する必
要がある。即ち、目盛縞の対向間隔Bをいかに正
確に維持できるかが前記のような光電式変位検出
装置の重要な技術的課題であつた。
いて、その分解能を高めるためには、目盛縞14
a,16aの光透過部と光遮断部の幅を狭くし、
読み取り精度を向上するためには、目盛縞14a
と16aの対向間隔(第1図B)を小さくする必
要があり、目盛縞の光透過部と光遮断部の幅と目
盛縞の対向間隔Bは略比例する。従つて、所望分
解能を得るべく光透過部と光遮断部の幅を所望値
に選定した時には、これに対応する目盛縞の対向
間隔Bが自動的に定まつてしまう。又、目盛縞間
の対向間隔Bの基準間隔に対する変動許容値も対
向間隔Bに略比例する。例えば、目盛縞の光透過
部と光遮断部の幅がそれぞれ20μmである場合、
目盛縞の対向間隔Bを30±10μmの範囲内に維持
する必要があり、又、目盛縞の光透過部と光遮断
部の幅がそれぞれ10μmである場合には、目盛縞
の対向間隔Bを20±5μmの範囲内に維持する必
要がある。即ち、目盛縞の対向間隔Bをいかに正
確に維持できるかが前記のような光電式変位検出
装置の重要な技術的課題であつた。
従つて従来は、目盛縞14a,16aを、イン
デツクススケール14、メインスケール16のそ
れぞれスケール対向面側に形成し、インデツクス
スケール14とメインスケール16の対向面の間
隔を、摺動駒或いはコーテイング等により確保し
ていた。しかしながら、このような従来の方法で
は、基準間隔(例えば30μm)を設定することは
比較的容易であるが、スケールの熱的変形、機械
的歪み等の影響から、スケール間の対向間隔Bの
変動を微細なる変動許容値(例えば±10μm)に
維持することが極めて困難であつた。
デツクススケール14、メインスケール16のそ
れぞれスケール対向面側に形成し、インデツクス
スケール14とメインスケール16の対向面の間
隔を、摺動駒或いはコーテイング等により確保し
ていた。しかしながら、このような従来の方法で
は、基準間隔(例えば30μm)を設定することは
比較的容易であるが、スケールの熱的変形、機械
的歪み等の影響から、スケール間の対向間隔Bの
変動を微細なる変動許容値(例えば±10μm)に
維持することが極めて困難であつた。
前記従来の、インデツクススケール及びメイン
スケールの2個のスケールを用いた2スケール型
の光電式変位検出装置における前記のような欠点
を解消し、スケール間の対向間隔の変動許容値を
大きくするものとして、第2図に示す如く、光源
10より光が照射され、相互作用により影像を形
成可能な目盛縞22a,24aがそれぞれ形成さ
れた第1スケール22及び第2スケール24と、
該第1スケール22及び第2スケール24により
形成された影像が投射され、該影像と相互作用を
営む目盛縞26aが形成された第3スケール26
とを用いて、第1、第3スケール22,26と、
第2スケール24間の相対移動に伴なう受光素子
20の受光量の変位から相対変位量を検出する3
スケール型の光電式変位検出装置も提案されてい
る。このような、スケールを3個用いた光電式変
位検出装置によれば、例えば第1スケール22及
び第3スケール26における目盛縞22a,26
aの光透過部と光遮断部の幅をそれぞれ20μm、
第2スケール24における目盛縞24aの光透過
部と光遮断部の幅をそれぞれ10μmとし、第1ス
ケール22の目盛縞22aと第2スケール24の
目盛縞24aの間隔Cと第2スケール24の目盛
縞24aと第3スケール26の目盛縞26aの間
隔Dを等しく設定した場合、各間隔C,Dの基準
間隔を5〜7mm、その変動許容値を1mm程度迄大
きくできるものである。しかしながら、このスケ
ールが3個用いられている光電式変位検出装置に
おいては、各目盛縞間の間隔の変動許容値だけで
なく、その基準間隔も大となるので、第1スケー
ル22及び第3スケール26の目盛縞22a,2
6aを、従来のスケールが2個用いられている2
スケール型の光電式変位検出装置のように、各ス
ケールの第2スケール24と対向する内側面に形
成したのでは、通常厚さ1mm程度の第1スケール
22及び第3スケール26の厚みとも相俟つて、
スケール部分が大型化してしまい、特に小型の直
線変位測定器には容易に組込むことができないと
いう問題点を有した。
スケールの2個のスケールを用いた2スケール型
の光電式変位検出装置における前記のような欠点
を解消し、スケール間の対向間隔の変動許容値を
大きくするものとして、第2図に示す如く、光源
10より光が照射され、相互作用により影像を形
成可能な目盛縞22a,24aがそれぞれ形成さ
れた第1スケール22及び第2スケール24と、
該第1スケール22及び第2スケール24により
形成された影像が投射され、該影像と相互作用を
営む目盛縞26aが形成された第3スケール26
とを用いて、第1、第3スケール22,26と、
第2スケール24間の相対移動に伴なう受光素子
20の受光量の変位から相対変位量を検出する3
スケール型の光電式変位検出装置も提案されてい
る。このような、スケールを3個用いた光電式変
位検出装置によれば、例えば第1スケール22及
び第3スケール26における目盛縞22a,26
aの光透過部と光遮断部の幅をそれぞれ20μm、
第2スケール24における目盛縞24aの光透過
部と光遮断部の幅をそれぞれ10μmとし、第1ス
ケール22の目盛縞22aと第2スケール24の
目盛縞24aの間隔Cと第2スケール24の目盛
縞24aと第3スケール26の目盛縞26aの間
隔Dを等しく設定した場合、各間隔C,Dの基準
間隔を5〜7mm、その変動許容値を1mm程度迄大
きくできるものである。しかしながら、このスケ
ールが3個用いられている光電式変位検出装置に
おいては、各目盛縞間の間隔の変動許容値だけで
なく、その基準間隔も大となるので、第1スケー
ル22及び第3スケール26の目盛縞22a,2
6aを、従来のスケールが2個用いられている2
スケール型の光電式変位検出装置のように、各ス
ケールの第2スケール24と対向する内側面に形
成したのでは、通常厚さ1mm程度の第1スケール
22及び第3スケール26の厚みとも相俟つて、
スケール部分が大型化してしまい、特に小型の直
線変位測定器には容易に組込むことができないと
いう問題点を有した。
本発明は、従来の欠点を解消するべく成された
もので、スケール間の間隔の変動許容値が大き
く、しかも、小型の変位測定器に対する組み込み
も容易な光電式変位検出装置を提供することを目
的とする。
もので、スケール間の間隔の変動許容値が大き
く、しかも、小型の変位測定器に対する組み込み
も容易な光電式変位検出装置を提供することを目
的とする。
本発明は、光源と該光源より光が照射され、相
互作用により影像を形成可能な目盛縞がそれぞれ
形成された第1スケール及び第2スケールと、該
第1スケール及び第2スケールにより形成された
影像が投射され、該影像と相互作用を営む目盛縞
が形成された第3スケールと、該第3スケールか
らの出射光を受光する受光素子とを有し、第1、
第3スケールと第2スケール間の相対移動に伴な
う受光量の変化から相対変位量を検出する光電式
変位検出装置において、前記第1乃至第3スケー
ルをいずれも光透過性物質製とし、前記第3スケ
ールと第1スケールを共用化すると共に、前記光
源及び受光素子を、共に第1スケールと第2スケ
ールの第1スケール側に配置し、前記第1スケー
ルの目盛縞を該第1スケールの光源及び受光素子
側面に、前記第2スケールの目盛縞を該第2スケ
ールの第1スケールと対向しない第1スケール非
対向面に形成するようにして、前記目的を達成し
たものである。
互作用により影像を形成可能な目盛縞がそれぞれ
形成された第1スケール及び第2スケールと、該
第1スケール及び第2スケールにより形成された
影像が投射され、該影像と相互作用を営む目盛縞
が形成された第3スケールと、該第3スケールか
らの出射光を受光する受光素子とを有し、第1、
第3スケールと第2スケール間の相対移動に伴な
う受光量の変化から相対変位量を検出する光電式
変位検出装置において、前記第1乃至第3スケー
ルをいずれも光透過性物質製とし、前記第3スケ
ールと第1スケールを共用化すると共に、前記光
源及び受光素子を、共に第1スケールと第2スケ
ールの第1スケール側に配置し、前記第1スケー
ルの目盛縞を該第1スケールの光源及び受光素子
側面に、前記第2スケールの目盛縞を該第2スケ
ールの第1スケールと対向しない第1スケール非
対向面に形成するようにして、前記目的を達成し
たものである。
又、前記光源、第1、第3スケール及び受光素
子を共に固定し、第2スケールを移動可能とした
ものである。
子を共に固定し、第2スケールを移動可能とした
ものである。
更に、前記スケールの目盛縞を光透過性保護部
材により被覆したものである。
材により被覆したものである。
以下図面を参照して、本発明の実施例を詳細に
説明する。
説明する。
本発明の比較例は、第3図に示す如く、光源1
0、コリメータレンズ12、光透過部と光遮断部
の幅がそれぞれ20μmである目盛縞22aが形成
される第1スケール22、光透過部と光遮断部の
幅がそれぞれ10μmである目盛縞24aが形成さ
れる第2スケール、光透過部と光遮断部の幅がそ
れぞれ20μmである目盛縞26aが形成される第
3スケール26、集光レンズ18、受光素子20
を有する3スケール型の透過型光電式変位検出装
置において、他のいずれのスケールとも対向しな
いスケール非対向面22b,26bを有する第1
スケール22、第3スケール26の目盛縞22
a,26bを、該第1スケール22及び第3スケ
ール26の前記スケール非対向面22b,26
b、即ち第1スケール22の受光素子10側面及
び、第3スケール26の受光素子20側面に形成
したものである。他の点については前記従来例と
同様であるので説明は省略する。
0、コリメータレンズ12、光透過部と光遮断部
の幅がそれぞれ20μmである目盛縞22aが形成
される第1スケール22、光透過部と光遮断部の
幅がそれぞれ10μmである目盛縞24aが形成さ
れる第2スケール、光透過部と光遮断部の幅がそ
れぞれ20μmである目盛縞26aが形成される第
3スケール26、集光レンズ18、受光素子20
を有する3スケール型の透過型光電式変位検出装
置において、他のいずれのスケールとも対向しな
いスケール非対向面22b,26bを有する第1
スケール22、第3スケール26の目盛縞22
a,26bを、該第1スケール22及び第3スケ
ール26の前記スケール非対向面22b,26
b、即ち第1スケール22の受光素子10側面及
び、第3スケール26の受光素子20側面に形成
したものである。他の点については前記従来例と
同様であるので説明は省略する。
本比較例においては、第1スケール22及び第
3スケール26のガラスの厚み(通常それぞれ1
mm程度)が目盛縞22a,26aの間隔C,D内
に吸収されており、無駄な大型化が防止される。
これに対して、第2図に示したような従来の3ス
ケール型の透過型光電式変位検出装置において
は、第1スケール22及び第3スケール26の厚
みが、それぞれ第1スケール22の目盛縞22a
の外側、第3スケール26の目盛縞26aの外側
に位置することとなり、第1スケール22、第3
スケール26のガラスの厚み分だけ余計なスペー
スを必要としていた。又、各スケール間の間隔
C,Dの変動許容値については、3スケール型の
長所として、本実施例においても、1mm程度に拡
大されているので、該変動許容値の維持が極めて
容易である。
3スケール26のガラスの厚み(通常それぞれ1
mm程度)が目盛縞22a,26aの間隔C,D内
に吸収されており、無駄な大型化が防止される。
これに対して、第2図に示したような従来の3ス
ケール型の透過型光電式変位検出装置において
は、第1スケール22及び第3スケール26の厚
みが、それぞれ第1スケール22の目盛縞22a
の外側、第3スケール26の目盛縞26aの外側
に位置することとなり、第1スケール22、第3
スケール26のガラスの厚み分だけ余計なスペー
スを必要としていた。又、各スケール間の間隔
C,Dの変動許容値については、3スケール型の
長所として、本実施例においても、1mm程度に拡
大されているので、該変動許容値の維持が極めて
容易である。
尚、各第1乃至第3スケール22〜26の目盛
縞22a,24a,26aが形成されている面を
それぞれ反射防止膜を兼ねた光透過性保護部材2
8により被覆することができる。この場合には、
各スケールの目盛縞が形成されている面の清掃が
容易となり、スケール表面に付着する塵埃等によ
る光遮蔽或いは摺動障害等の弊害を防止すること
ができる。
縞22a,24a,26aが形成されている面を
それぞれ反射防止膜を兼ねた光透過性保護部材2
8により被覆することができる。この場合には、
各スケールの目盛縞が形成されている面の清掃が
容易となり、スケール表面に付着する塵埃等によ
る光遮蔽或いは摺動障害等の弊害を防止すること
ができる。
本発明の実施例を第4図に示す。本実施例は、
本発明を、光源10、反射鏡11、コリメータレ
ンズ12、第3スケールと共用化された、光透過
部と光遮断部の幅がそれぞれ20μmである目盛縞
30aが形成される第1スケール30、光透過部
と光反射部の幅がそれぞれ10μmである目盛縞3
2aが形成される、反射型の第2スケール32、
集光レンズ18、反射鏡19、受光素子20を有
する反射型の光電式変位検出装置に適用したもの
で、第3スケールと共用化された第1スケール3
0だけでなく、反射型の第2スケール32もガラ
ス等の光透過性物質製とすると共に、前記第1ス
ケール30の目盛縞30aを該第1スケールの光
源及び受光素子側面30bに、前記第2スケール
32の目盛縞32aを該第2スケール32の第1
スケール30と対向しない第1スケール非対向面
32bに形成したものである。本実施例において
も、前記比隔例と同様に、第1スケール30及び
第2スケール32の目盛縞30a,32aが形成
されている面が、反射防止膜を兼ねた光透過性保
護部材28によつて被覆されている。
本発明を、光源10、反射鏡11、コリメータレ
ンズ12、第3スケールと共用化された、光透過
部と光遮断部の幅がそれぞれ20μmである目盛縞
30aが形成される第1スケール30、光透過部
と光反射部の幅がそれぞれ10μmである目盛縞3
2aが形成される、反射型の第2スケール32、
集光レンズ18、反射鏡19、受光素子20を有
する反射型の光電式変位検出装置に適用したもの
で、第3スケールと共用化された第1スケール3
0だけでなく、反射型の第2スケール32もガラ
ス等の光透過性物質製とすると共に、前記第1ス
ケール30の目盛縞30aを該第1スケールの光
源及び受光素子側面30bに、前記第2スケール
32の目盛縞32aを該第2スケール32の第1
スケール30と対向しない第1スケール非対向面
32bに形成したものである。本実施例において
も、前記比隔例と同様に、第1スケール30及び
第2スケール32の目盛縞30a,32aが形成
されている面が、反射防止膜を兼ねた光透過性保
護部材28によつて被覆されている。
本実施例においては、第3スケールが第1スケ
ール30と共用化されて省略されてると共に、第
1スケール30の目盛縞30aと第2スケール3
2の目盛縞32bの間隔E内に、第1スケール3
0の厚み(通常1mm程度)及び第2スケール32
の厚み(通常2〜5mm程度)が吸収されるので、
第1図に示したような従来の2スケール型の透過
型光電式変位検出装置の場合におけるインデツク
ススケール14の光源10側面14bとメインス
ケール16の受光素子20側面16bの間隔F
(第1図)とほぼ変わらない厚さの中に第1スケ
ール30及び第2スケール32を収容できる。従
つて、従来の2スケール型の透過型光電式変位検
出装置に比べても殆んど装置を大型化することな
く、目盛縞30bと32b間の間隔Eの変動許容
値のみを約1mm程度と大幅に拡大できるものであ
る。
ール30と共用化されて省略されてると共に、第
1スケール30の目盛縞30aと第2スケール3
2の目盛縞32bの間隔E内に、第1スケール3
0の厚み(通常1mm程度)及び第2スケール32
の厚み(通常2〜5mm程度)が吸収されるので、
第1図に示したような従来の2スケール型の透過
型光電式変位検出装置の場合におけるインデツク
ススケール14の光源10側面14bとメインス
ケール16の受光素子20側面16bの間隔F
(第1図)とほぼ変わらない厚さの中に第1スケ
ール30及び第2スケール32を収容できる。従
つて、従来の2スケール型の透過型光電式変位検
出装置に比べても殆んど装置を大型化することな
く、目盛縞30bと32b間の間隔Eの変動許容
値のみを約1mm程度と大幅に拡大できるものであ
る。
更に、本実施例においても、前記比較例と同様
に、第1スケール30及び第2スケール32の目
盛縞30a,32aが光透過性保護部材28によ
り保護されているので、各スケールの目盛縞が形
成されている面の清掃が容易となり、スケール表
面に付着する塵埃等による弊害を容易に防止でき
る。
に、第1スケール30及び第2スケール32の目
盛縞30a,32aが光透過性保護部材28によ
り保護されているので、各スケールの目盛縞が形
成されている面の清掃が容易となり、スケール表
面に付着する塵埃等による弊害を容易に防止でき
る。
尚前記比較例及び実施例においては、いずれ
も、第1、第3スケールの目盛縞の光透過部と光
遮断部の幅が20μmとされ、第2スケールの目盛
縞の光透過部と光遮断部の幅が10μmとされてい
たが、各スケールの目盛縞の光透過部の幅の絶対
値及びその相対的な関係(2:1:2)はこれに
限定されるものでなく、第1スケール及び第2ス
ケールに形成された目盛縞により影像が形成さ
れ、又、該影像と第3スケールに形成された目盛
縞が相互作用を営むことができるものであれば、
他の絶対値或いは相対関係であつても構わない。
も、第1、第3スケールの目盛縞の光透過部と光
遮断部の幅が20μmとされ、第2スケールの目盛
縞の光透過部と光遮断部の幅が10μmとされてい
たが、各スケールの目盛縞の光透過部の幅の絶対
値及びその相対的な関係(2:1:2)はこれに
限定されるものでなく、第1スケール及び第2ス
ケールに形成された目盛縞により影像が形成さ
れ、又、該影像と第3スケールに形成された目盛
縞が相互作用を営むことができるものであれば、
他の絶対値或いは相対関係であつても構わない。
尚前記比較例及び実施例においては、いずれ
も、第1乃至第3スケールがガラス製とされてい
たが、第1乃至第3スケールの材質はこれに限定
されず、例えばアクリルル樹脂等の他の光透過性
物質製とすることも可能である。
も、第1乃至第3スケールがガラス製とされてい
たが、第1乃至第3スケールの材質はこれに限定
されず、例えばアクリルル樹脂等の他の光透過性
物質製とすることも可能である。
以上説明した通り、本発明によれば、従来の2
スケール型の透過型光電式変位検出装置に比べて
も、装置を殆ど大型化することなく、目盛縞の基
準間隔と変動許容値の関係を改善することがで
き、変動許容値のみを大幅に大きくすることがで
きる。従つて、装置の製造、調整等が極めて容易
となる。又、スケール対向面に目盛縞が形成され
ていないので、スケールに対向面の清掃が容易で
あり、スケール間に侵入する塵埃による弊害を容
易に防止することができる等の優れた効果を有す
る。
スケール型の透過型光電式変位検出装置に比べて
も、装置を殆ど大型化することなく、目盛縞の基
準間隔と変動許容値の関係を改善することがで
き、変動許容値のみを大幅に大きくすることがで
きる。従つて、装置の製造、調整等が極めて容易
となる。又、スケール対向面に目盛縞が形成され
ていないので、スケールに対向面の清掃が容易で
あり、スケール間に侵入する塵埃による弊害を容
易に防止することができる等の優れた効果を有す
る。
第1図は従来の2スケール型の透過型光電式変
位検出装置の原理を示す断面図、第2図は、同じ
く従来の3スケール型の透過型光電式変位検出装
置の原理を示す断面図、第3図は、本発明の比較
例の構成を示す断面図、第4図は、本発明に係る
光電式変位検出装置の実施例の構成を示す断面図
である。 10……光源、20……受光素子、22,30
……第1スケール、24,32……第2スケー
ル、26……第3スケール、22a,24a,2
6a,30a,32a……目盛縞、22b,26
b……スケール非対向面、30b……光源及び受
光素子側面、32b……第1スケール非対向面、
28……光透過性保護部材。
位検出装置の原理を示す断面図、第2図は、同じ
く従来の3スケール型の透過型光電式変位検出装
置の原理を示す断面図、第3図は、本発明の比較
例の構成を示す断面図、第4図は、本発明に係る
光電式変位検出装置の実施例の構成を示す断面図
である。 10……光源、20……受光素子、22,30
……第1スケール、24,32……第2スケー
ル、26……第3スケール、22a,24a,2
6a,30a,32a……目盛縞、22b,26
b……スケール非対向面、30b……光源及び受
光素子側面、32b……第1スケール非対向面、
28……光透過性保護部材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 光源と、該光源より光が照射され、相互作用
により影像を形成可能な目盛縞がそれぞれ形成さ
れた第1スケール及び第2スケールと、該第1ス
ケール及び第2スケールにより形成された影像が
投射され、該影像と相互作用を営む目盛縞が形成
された第3スケールと、該第3スケールからの出
射光を受光する受光素子とを有し、第1、第3ス
ケールと第2スケール間の相対移動に伴なう受光
量の変化から相対変位量を検出する光電式変位検
出装置において、前記第1乃至第3スケールがい
ずれも光透過性物質性とされ、前記第3スケール
と第1スケールが共用化されると共に、前記光源
及び受光素子が、共に第1スケールと第2スケー
ルの第1スケール側に配置され、前記第1スケー
ルの目盛縞が該第1スケールの光源及び受光素子
側面に、前記第2スケールの目盛縞が該第2スケ
ールの第1スケールと対向しない第1スケール非
対向面に形成されていることを特徴とする光電式
変位検出装置。 2 前記光源、第1、第3スケール及び受光素子
が共に固定され、第2スケールが移動可能とされ
ている特許請求の範囲第1項に記載の光電式変位
検出器。 3 前記スケールの目盛縞が光透過性保護部材に
より被覆されている特許請求の範囲第1項に記載
の光電式変位検出装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4375381A JPS57157118A (en) | 1981-03-24 | 1981-03-24 | Photoelectric type displacement detecting device |
DE19823210614 DE3210614A1 (de) | 1981-03-24 | 1982-03-23 | Fotoelektrische verschiebungsmessvorrichtung |
GB8208682A GB2095399B (en) | 1981-03-24 | 1982-03-24 | Photoelectrical displacement-measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4375381A JPS57157118A (en) | 1981-03-24 | 1981-03-24 | Photoelectric type displacement detecting device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57157118A JPS57157118A (en) | 1982-09-28 |
JPS6127690B2 true JPS6127690B2 (ja) | 1986-06-26 |
Family
ID=12672520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4375381A Granted JPS57157118A (en) | 1981-03-24 | 1981-03-24 | Photoelectric type displacement detecting device |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS57157118A (ja) |
DE (1) | DE3210614A1 (ja) |
GB (1) | GB2095399B (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4478290A (en) * | 1981-08-26 | 1984-10-23 | Orthwein William G | Anti-buckling device for mine-roof bolting machines |
JPS5987318A (ja) * | 1982-11-10 | 1984-05-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光電式位置検出器 |
DE3325803C2 (de) * | 1983-07-16 | 1986-11-20 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Inkrementale, lichtelektrische Meßeinrichtung |
JPS60161523A (ja) * | 1984-02-02 | 1985-08-23 | Mitsutoyo Mfg Co Ltd | 三次元測定機 |
US4684257A (en) * | 1984-02-02 | 1987-08-04 | Mitutoyo Mfg. | Measuring instrument |
GB8413955D0 (en) * | 1984-05-31 | 1984-07-04 | Pa Consulting Services | Displacement measuring apparatus |
GB2161262A (en) * | 1984-07-05 | 1986-01-08 | Co Operative Technology Ltd | Digital instrumentation apparatus for the linear air-track |
GB8432574D0 (en) * | 1984-12-22 | 1985-02-06 | Renishaw Plc | Opto-electronic scale-reading apparatus |
GB2181267A (en) * | 1985-10-10 | 1987-04-15 | Shibuya Kogyo Co Ltd | Device for cooling reflecting mirror |
GB8615196D0 (en) * | 1986-06-21 | 1986-07-23 | Renishaw Plc | Opto-electronic scale reading apparatus |
IN168444B (ja) * | 1986-08-15 | 1991-04-06 | Mitutoyo Mfg Co Ltd | |
US4943716A (en) * | 1988-01-22 | 1990-07-24 | Mitutoyo Corporation | Diffraction-type optical encoder with improved detection signal insensitivity to optical grating gap variations |
JPH07888Y2 (ja) * | 1988-02-22 | 1995-01-11 | 株式会社ミツトヨ | 光学式変位検出器 |
DE3823314A1 (de) * | 1988-07-09 | 1990-01-11 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Lichtelektrische positionsmesseinrichtung |
US5021649A (en) * | 1989-03-28 | 1991-06-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Relief diffraction grating encoder |
DE4132941C2 (de) * | 1990-10-20 | 1994-02-24 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Interferentielle Meßeinrichtung für wenigstens eine Meßrichtung |
US5424833A (en) * | 1992-09-21 | 1995-06-13 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Interferential linear and angular displacement apparatus having scanning and scale grating respectively greater than and less than the source wavelength |
EP0590163B1 (de) * | 1992-09-21 | 1996-01-03 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Längen- oder Winkelmesseinrichtung |
DE59204951D1 (de) * | 1992-09-21 | 1996-02-15 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Längen- oder Winkelmesseinrichtung |
JPH0719965A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-20 | Ando Electric Co Ltd | 光波長計 |
ES2357016T3 (es) * | 2009-03-02 | 2011-04-15 | Fagor, S. Coop. | Cabeza lectora para un dispositivo de lectura. |
US9080899B2 (en) | 2011-12-23 | 2015-07-14 | Mitutoyo Corporation | Optical displacement encoder having plural scale grating portions with spatial phase offset of scale pitch |
US9029757B2 (en) | 2011-12-23 | 2015-05-12 | Mitutoyo Corporation | Illumination portion for an adaptable resolution optical encoder |
US9018578B2 (en) | 2011-12-23 | 2015-04-28 | Mitutoyo Corporation | Adaptable resolution optical encoder having structured illumination and spatial filtering |
DE102017201257A1 (de) | 2017-01-26 | 2018-07-26 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1474049A (en) * | 1974-01-12 | 1977-05-18 | Leitz Ernst Gmbh | Arrangement for the modulation of light |
GB1504691A (en) * | 1974-03-15 | 1978-03-22 | Nat Res Dev | Measurement apparatus |
CH626169A5 (ja) * | 1976-11-25 | 1981-10-30 | Leitz Ernst Gmbh |
-
1981
- 1981-03-24 JP JP4375381A patent/JPS57157118A/ja active Granted
-
1982
- 1982-03-23 DE DE19823210614 patent/DE3210614A1/de active Granted
- 1982-03-24 GB GB8208682A patent/GB2095399B/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57157118A (en) | 1982-09-28 |
GB2095399A (en) | 1982-09-29 |
DE3210614A1 (de) | 1982-10-14 |
DE3210614C2 (ja) | 1987-08-13 |
GB2095399B (en) | 1985-02-13 |
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