JPS61264714A - コンデンサ及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は強化された巻き込み体から成るコンデンサと
その製造方法に関する。

［従来の技術］ 各一つの再生可能な薄い金属層を被膜として　　　　　
。

備え一緒に巻き込まれた伸展プラスチックフィルムの誘
電体帯から作られた円形又は長円形又は偏平な断面を有
°する強化された巻き込み体から成り、被膜が帯ごとに
交互に異なる縁に達し、かつ相対する極の被膜が接触の
ために用いられるスクープ法により形成された金属層と
相互に結合された面を形成し、この面に給電体が固定さ
れているコンデンサは既に数十午前から知られている。

同様に片面を少なくとも一つの縁まで金属化され特に波
形切断縁を備えた誘電体としての伸展されたプラスチッ
クフィルムから成る帯が円形又は長円形又は偏平な断面
を有する巻き心上に巻き込まれ、形成された巻き込み体
がその後場合によっては巻き心から外され、そのように
作られた巻き込み形コンデンサに端面接触層が設けられ
るようなコンデンサの製造方法も既に知られている。

この種のコンデンサでは伸展されたプラスチックフィル
ムとしてポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレー
ト又はポリプロピレンから成るフィルムが採用され、個
々の被膜の接触に用いられる両端面上の金属層の形成が
別の公知のスクープ法により行われている。

特開昭８０−１３３７１８号公報において、各一つの金
属層を被膜として備え交互に積層されたプラスチックフ
ィルムから成る誘電体層の強化された積層体から成るコ
ンデンサが記載されており、この積層体は短側面に切り
込みを有し、この切り込みにより個々の誘電体層が突出
部を備え、この突出部上では層ごとに交互に被膜が帯状
絶縁部により中断されるので、突出部により形成された
面上に設けられた金属層が相対する極の被膜に交互に結
合されている。この公報に記載の方法は、相応に配置さ
れた間欠的な金属の無い帯状部を金属化されたプラスチ
ック帯に設け、その際又はその後に帯をドラム上に巻き
付けるように計画されており、その後形成された母コン
デンサの中に前記切り込みが作られその後世コンデンサ
から個々の積層体が切り離される。

前記公報の積層コンデンサは特に低誘導である。なぜな
らば金属被膜を経て誘、電体を貫通し相対する極の被膜
に至る電流経路はそれぞれ相互に反対方向に延びるので
、電流経路は相殺され従って磁界（誘導）を発生し得な
い。

低誘導の巻き込み形コンデンサとして従来主として、そ
の誘電体が特に伸展されたポリスチロールから成りその
被膜がポリスチロールフィルムと共に巻き込まれた自立
性の金属箔の形となっているコンデンサだけが知られて
いる。インダクタンスを小さくするために、例えば一つ
の金属箔への給電体ができる限り巻き込み体の中心又は
その付近で結合され、他の給電体が巻き込み体の周辺で
他の金属箔に結合されている（２本線構造）ことにより
、電流経路が金属箔の中で反対向きに相殺されるように
、外部の給電要素が金属箔に結ばれている。

再生可能な薄い金属化層をかぶせられた誘電体帯を有す
る低誘導の巻き込み形コンデンサは、従来知られていな
いか又は実際には使われていなかった。

［発明が解決しようとする問題点］ この発明は前記の種類の巻き込み形コンデンサにおいて
、低誘導であり更に例えば２．５ｍｍの給電要素間ので
きるだけ小さい格子寸法を可能とし、それにもかかわら
ずその製造が大量生産向きに簡単であるようなものを提
供することを目的とする。更にこの発明はかかるコンデ
ンサの製造方法を提供することを目的とする。

［問題点を解決するための手段Ｊ この目的はこの発明に基づき前記の種類のコンデンサに
おいて、 ａ）二つの突出部が、端面のほぼ中央を通り巻き込み体
の長手軸線の方向に延びる切り込みにより一端面に形成
され被膜が帯ごとにこの二つの突出部の端に到達し、 ｂ）突出部の端により強化された巻き込み体に形成され
た面が外部接触のために用いられる金属層を備え、 Ｃ）誘電体帯ごとに交互に突出部が金属の無い帯状絶縁
部を備え、その際切り込みの深さが帯状絶縁部により形
成された残存帯状金属の幅より大きいか、あるいは帯状
絶縁部の内縁と一致するか、あるいは好ましくは内縁を
越えて巻き込み体の中にまで達する ことにより達成される。

誘電体帯を形成する伸展されたプラスチックフィルムは
ＩＪＬｍないし１５μｍの厚さとするのが有利である。

このプラスチックフィルムの材料はポリカーボネート、
ポリプロピレン又は特にポリエチレンテレフタレートで
ある。

特開昭８０−１３３７１８号公報の冒頭部分においては
、広範囲な従来技術を指摘しながら切断縁が切り込みの
存在する場合に十分な絶縁を保証されるような複数の方
法が述べられている０例えばアルミニウム又は亜鉛のよ
うな弁作用金属から成る再生可能な薄い被膜を備え前記
材料から成る伸展プラスチックフィルムが用いられる場
合の例として引用されたドイツ連邦共和国特許第１７１
３４５４８号明細書に記載の方法により、のこぎり切断
工程によってプラスチックフィルムの部分的な収縮が縁
範囲において生じるときには、この収縮によりそこでは
弁作用金属との結びつきが乱され場合によっては空気の
作用のもとに酸化されて縮んで島状となる。それにより
プラスチックフィルムの厚さを越えてその面上までの絶
縁距離が延長されるので、特に高められた電圧による欠
陥個所の通常用いられる回復の際に縁絶縁が著しく高め
られ。

そしてコンデンサの実際使用が比較的高い電圧（例えば
３５０Ｖ）のときでさえも可能である。

従来の技術水準に属し切断縁付近の縁絶縁を高めるかか
る方法がこの発明に基づくコンデンサの製造の際にも使
用される（ドイツ連邦共和国特許第１７８４５４８号明
細書、同第１７Ｅｉ４５４９号明細書及び同第２５２８
１３０号明細書参照）。

誘電体帯が巻き込み体の上側端面の範囲において金属の
無い帯状部を有するときには更に有利である。

この金属の無い帯状部は、切り込みに向かい合った端面
の範囲においても十分な絶縁が被膜間に存在することを
保証する。被膜として用いられる金属層が端面にまで到
達する場合に対しては縁絶縁が前記方法により改善され
る。

前記波形切断縁はここでは、例えばドイツ連邦共和国特
許第２４１８５８８号明細書にも記載のように、被膜と
突出部の面上に設けられた金属層との間の機械的強度及
び電気的結合を高めるために用いられ、その際波長は接
触すべき縁の長さより小ざく、また隣接するフィルム層
の波の周波数は異なっていてもよい。

相対する極の被膜の接触に用いられる金属層上に巻き込
み体の長手軸線の方向に延びる給電線が固定されている
。チップ構造にコンデンサを組み込むために前記金属層
上にろう付け可能な金属から成る給電体が固定され、こ
の給電体が場合によっては帽子状に構成されて巻き込み
体の突出部により構成された脚部を囲むことができる。

別の長所は巻き込み形コンデンサの容量が切り込みの幅
及び／又は深さにより所望の狭い公差値に調整されるこ
とにある。

この発明の実施態様によれば、コンデンサがあだ巻ター
ンとカバー層としてのターンとを備え、これらのターン
の上では帯の金属化層が金属の無い横に延びる少なくと
も一つの帯状絶縁部と巻き込み方向に連続した金属の無
い帯状絶縁部とにより突出部上の金属層に電気的に結合
されていない。

この発明によるコンデンサの製造方法は、ａ）それぞれ
一つの縁上に場合によっては連続した金属の無い帯状部
を有する金属化された帯が巻き心上に巻き込まれ、一方
これと向かい合った縁の範囲に縁と間隔を置いて巻き込
み方向に間欠的な金属の無い帯状絶縁部が巻き込みの前
又はその際に形成され、その際帯状絶縁部がドラム上に
巻き込みの際に巻き込み軸に垂直な平面上にあり、帯状
絶縁部の終端も始端も後に加工される切り込みの範囲に
ま゛で達するか又はこの範囲を僅かに越えるようにされ
、 ｂ）＠き込み体の中で上側帯の帯状絶縁部の中心が下側
帯の帯状絶縁部の中心と対称に相互に向かい合うように
、帯が巻き心上に巻き込まれる際に導かれ、かつ巻き込
みの前又はその際に形成された帯状絶縁部がその長さを
決められ、 Ｃ）巻き込み体の加工後に帯状絶縁部に隣接する端面上
に外部接触のために用いられる金属層がかぶせられ、そ
してこの端面に帯状絶縁部の中心の間の結合線に垂直に
かつ巻き込み体の長手軸線の方向に切り込みが形成され
、この切り込みの幅と深さとにより両突出部が形成され
、 ｄ）巻き込み体の内部及び切断縁上の欠陥個所の回復の
ために高められた電圧を印加すること並びに給電体を突
出部の金属層上に固定することによりコンデンサを完成
する ことを特徴とする。

この方法の特別な実施態様ではこの発明に基づき、工程
ａ）の際に巻き心上に巻き込まれる帯の再縁上にそれぞ
れ間欠的な金属の無い帯状絶縁部が形成され、それによ
り二つのコンデンサのための巻き込み体が形成され、こ
の巻き込み体が巻き込み工程の終了後に切断線に沿って
二つのコンデンサに分割される。

この実施態様におては巻き込まれる金属化された帯が中
央に連続した金属の無い帯状部を備えるのが有利である
。。

切り込みの形成は特にのこぎりにより行われるので、こ
ののこぎり切断工程の際に必要な延長された絶縁距離が
切断縁上に形成される０巻き込み体の内部及び特に切断
縁上でたまたまなお存在する欠陥はそれ自体周知の方法
により、コンデンサが後に運転されるべき定格電圧より
高い電圧を印加することにより回復される。

巻き込み工程の際に一つの帯から同時に二つの巻き込み
コンデンサを作るときには、切り込みに向かい合った端
面上の絶縁は少なくとも一つの帯止に既に設けられた帯
状絶縁部により保証されるか、又は縁を越えて面上にま
で延長された必要な絶縁距離が同様にのこぎり切断工程
によりそれ自体周知の方法でもたらされる。

帯止における間欠的な金属の無い帯状絶縁部の形成がレ
ーザ光線の使用又は溶射ホィールの採用により行われ、
その際帯状絶縁部の位置及び長さの相互の及び半径が増
加するにつれて巻き込み体の中でのその配置に関して望
ましい関係を得るために、レーザパルス又は溶射ホィー
ルの溶射サイクルが巻き心の回転に同期して制御される
のが有利である。

巻き込み体内部の誘電的には無効なあだ巻ターンとカバ
ー層としてのターンとは１例えば機械的な負荷からの保
護のために又は妨害電圧からの遮へいのために、後に間
欠的な金属の無い帯状絶縁部を形成する範囲に連続した
金属の無い帯状絶縁部を形成した金属化された帯の数回
のあだ巻ターンが最初に巻き心上に巻き込まれ、少なく
とも一つの帯を横切って延びる少なくとも一つの金属の
無い帯状絶縁部が作られ、続いて同一巻き込み工程で間
欠的な帯状絶縁部の形成が行われることにより作られる
。同様にカバー層として働くターンを巻き込み形コンデ
ンサの周囲に形成するためには、金属化された帯止に間
欠的な金属の無い帯状絶縁部に接続してまず少なくとも
一つの帯を横切って延びる金属の無い帯状絶縁部が作ら
れ、間欠的な金属の無い帯状絶縁部の範囲に同一の巻き
込み工程において連続的な金属の無い帯状絶縁部が形成
され、それによりカバー層の範囲の誘電体帯止の金属層
が完成されたコンデンサの中の残存帯状金属にもはや電
気的に結合されないようにする。

この方法により従来の技術とは対照的に任意の数のあだ
巻ターン及び被覆層としてのターンを作ることができる
。

間欠的な及び特に連続した金属の無い帯状絶縁部を作る
ための有利に使用できる方法は既に提案されている。

［発明の効果］ この発明によって得られる長所は第１にこノ巻き込み形
コンデンサがほとんど無誘導であるということである。

更に給電線を格子寸法に相応して曲げることにより調整
する必要無く、２．５ｍｍの給電線間の格子寸法が得ら
れる。

このコンデンサは特に製造が容易である。なぜならば実
際に巻き込み工程の間だけ間欠的な金属の無い帯状絶縁
部を作ればよいからである。

この発明の長所と取り扱いの良さに関して２．５ｍｍの
格子寸法に対する２２０ｎＦの容量を有するコンデンサ
に対する各一つの例を以下に述べる。

向かい合った両端面上で接触しそれ故に低誘導ではない
従来の技術に属する巻き込み形コンデンサに対しては２
．３ｍｍの幅のプラスチックフィルムが用いられ、その
際偏平な巻き込み体に対する巻き込み体寸法は巻き込み
体軸方向の長さ２．４ｍｍ、　＠５ｍｍ、厚さ１−５ｍ
ｍである。

このコンデンサは相応の容器の中に組み込まれる。

この発明に基づく低誘導巻き込み形コンデンサは従来の
コンデンサに対するのと同じ寸法の容器に対して１０．
５ｍｍの幅のプラスチックフィルムを用い二重巻き込み
体として巻き込まれ、その際巻き込み体寸法は巻き込み
体軸方向における長さ１０．２ｍｍ、幅３　、６ｍｍ、
厚さ１．５ｍｍである。特に二重巻き込み体の非常に大
きい巻き込み体寸法は特にスクープ法による接触金属層
をかぶせる際に著しく取り扱い性が良くなる。

誘電体帯止の再生可能な薄い金属層は、所望の絶縁が得
らるように要求される場合には、巻き込むべきプラスチ
ックフィルムの始端及び終端におて周知の方法によりこ
すり落とし又は溶射により除去することができる。また
レーザ光線により金属の無い帯状絶縁部をフィルムの幅
を横切ってしかもフィルム始端とフィルム終端に形成す
ることも可能である。

［実施例］ 以下図面について本発明の実施例を詳細に説明する。各
図において同一部分は同一符号で示されている。

第１図に示すコンデンサは強化された円形の巻き込み体
１から成るが、この巻き込み体は長円形の又は偏平な断
面を有することもできる。ここで「強化された」という
のは、巻き込みの際に既に相応の巻き込み張力により十
分な巻き込み応力を与えられるか、もしくはでき上がっ
た巻き込み体又は巻き込み形コンデンサとなって初めて
短時間のテンパ一工程にさらされることを意味する。

被膜２は誘電体帯４上に再生可能に薄くかぶせられ、−
刃対向被膜として被膜３が誘電体帯５上に再生可能に薄
くかぶせられている。被膜のための金属として特にアル
ミニウム単体又は他の金属との合金が用いられる。

上側の端面２９に向かい合った端面には長手軸！ｉ２６
の方向に切り込み１０が設けられ、この切り込みは巻き
込み体ｌの端面部分を二つの突出部８と９に分割する。

突出部８と９の端６と７は二つの面１１と１２を形成し
、この面上に金属層１３と１４がそれ自体は公知の金属
溶射法（スクープ法）によりかぶせられる。

金属の無い帯状絶縁部１５と１６により、誘電体帯４と
５上の被膜２と３は巻き層ごとに交互に外部接触に用い
られる金属層１３と１４から絶縁されている。

第２図には、上側の被膜では電流路７０が金属層１４か
ら出発し矢印の方向に上に向かって延び、一方隣接する
誘電体層の被膜では電流路が反対方向にすなわち下向き
に金属層１３に向かって延びるのが示されている。電流
路のこの逆向きの延びに基づいて電流路は互いに相殺さ
れるので。

誘導を引き起こす磁界は生じ得ない。

第１図において金ｍ層１３と１４上には給電線２４と２
５が例えばろう付け又は溶接により固定されているが：
第２図においてはかかるコンデンサの組み込みのために
容易にろう付け可能な金属層３２をしかも両突出部８と
９上にかぶせることができるか、又は両突出部８と９上
にこのろう付け可能な金属層を帽子形に形成することも
でき、この金属層が突出部を帽子形（３３）に囲むこと
が示されている。こうしてコンデンサはプリント配線板
の接触個所に接続線を用いることなく固定できる（チッ
プ構造）。

第３図においては、第１＠に示すコンデンサの金属化さ
れた誘電体Ｎ４が線７２に沿ってまた金属化された誘電
体層５が線７３に沿って切り開かれてコンデンサが展開
されたときに生じる展開された二つの層が示されている
。

誘電体帯４と５はその上側の部分に金属の無い帯状絶縁
部３０と３１を有し、この帯状絶縁部の作用と目的とは
既に述べた通りである０図面の左側に示した誘電体帯４
の突出部８に属する部分の上には金属の無い帯状絶縁部
１５が示されており、この帯状絶縁部により残存帯状金
属２０が生じている。切り込み１０の深さ１７は図示の
場合には残存帯状金属２０の輻１８と金属の無い帯状絶
縁部１５の幅２２どの和より大きい。深さ１７は如何な
る場合にも残存帯状金属の幅１８より大きくなければな
らない、なぜならばそのときに初めて被膜２が突出部８
の端６から電気的に絶縁されるからである。

突出部８上では誘電体帯４の被膜２が金属の無い帯状絶
縁部１５の上縁５５にまで達し、一方被膜２は突出部９
上では端７にまで達している。

これに対して誘電体帯５の被！！３は突出部８上では端
６にまで達し、突出部９上では金属の無い帯状絶縁部１
６の上級５６にまでしか達していない、端７とこの金属
の無い帯状絶縁部１６との間には残存帯状金属２１が存
在する。切り込み１０の深さ１７はここでも残存帯状金
属２１の輻１９と金属の無い帯状絶縁部１６の輻２３と
の和より大きい。

第３図には誘電体帯４の被膜２上の電流路７０と誘電体
帯５の被膜３上の電流路７１との経路が示されており、
それによりコンデンサがほとんど無誘導に動作できるこ
とが明らかになる。

第４図により製造方法を詳細に説明する。

それぞれ縁３８と３９まで金属化され、ここでは向かい
合った縁３６と３７上には金属の無い帯状絶縁部３０と
３１を有する上側の帯３４と下側の帯３５とが、巻き心
４５上に巻き込み方向４６に巻き込まれる０巻き心４５
は長手方向に分割されて上側部分と下側部分とからなり
、その際これらの両部会がそれぞれ一端面から他端面に
向かって細くなるように構成されている。かかる二分割
の巻き心は周知であり、巻き込み体から巻き心を容易に
取り外すために用いられる。

巻き心４５上の突起４４は、上側から作られる帯３４上
の帯状絶縁部４２の形成のためにまた下側から作られる
帯３５上の帯状絶縁部４３の形成のために、矢印７４と
７５で暗示されたレーザ光線が巻き心４５の回転位置に
関係して制御されることを示したものである。間欠的な
帯状絶縁部４２と４３は縁３８と３９から間隔４０と４
１を置いて作られる。

帯状絶縁部４２と４３の形成にあたっては、それぞれ同
時に１８０’ずらしてその始端４９又は５０でこれらの
帯状絶縁部が始まり、巻き心４５の半回転の後に終端４
７と４８とで終わるようにする。そして巻き心が１８０
’続いて回転しその間は金属の無い帯状絶縁部は作られ
ない、それによりでき上がった巻き込み体においては帯
状絶縁部４２と４３の中心６４と６５は直径上の向かい
合った位置に１８０°ずらされている この巻き込み工程は所望の容量に対して必要なターン数
が得られるまで継続される。

最初のターンに対してもまた最後のターンに対しても既
に金属化層除去装置は連続運転に投入することができる
。あだ巻の形成の終わりにあたって及びカバー層のため
のターンの開始にあたって前記の横に延びる金属の無い
帯状絶縁部が例えばレーザもしくは機械的な駆動又は電
気的な溶射の適当な制御により作られるので、金属化層
が完成されたコンデンサにおいて相互に電気的に結合さ
れていない巻き付け体が生じる。

巻き込み体ｌから巻き心４５を取り外した後に端面５３
に接触に用いられる金属層５４をかぶせた後に切り込み
１０が作られ、しかもこの切り込みは金属の無い帯状絶
縁部４２と４３の向かい合った中心６４と６５の間の中
央に延び、それにより対称な両突出部８と９が作られる
ようにされる。

金属の無い帯状絶縁部４２と４３の長さ５１と５２は、
回転に応じて制御された金属化層除去装置の駆動方式に
より巻き込み体の半径が増すにつれて増加する。

第５図にはこの方法に基づく特に有利な実施例が示され
ており、そこでは円形の巻き心の代わりに長円形の断面
を有する巻き心５７が用いられている。この巻き心５７
上に前記と同様な方法で金属化された帯５８と５９が巻
き込まれ、これらの帯は中央に特に金属の無い帯状絶縁
部６７を有している。巻き込み方向はここでも同様に符
号４６が付けられている。

第５図に示す方法においては帯５８と５９がそれぞれ両
縁６０又は６１上に間欠的な金属の無い帯状絶縁部４２
と４３を備え、その際ここてもまた巻き心５７の回転に
関係して金属の無い帯状絶縁部４２と４３の形成が符号
４９又は５０の所で始められ４７又は４８の所で終わっ
ている９巻き込み方向４６はここでは第４図に示したの
と同一方向である。

ここでも同様に二分訃の巻き心として示した巻き心５７
を巻き込み体４１から取り外した後に、端面６２と６３
に短半袖２８に沿って第６図に示すように切り込み１０
が作られる。

第４図及び第５図に示す金属の無い帯状部４２は第１図
、第２図及び第３図に示す金属の無い帯状部１５に相当
し、一方第４図及び第５図に示す金属の無い帯状部４３
は第１図、第２図及び第３図の金属の無・い帯状部１６
に相当する。従って金属の無い帯状部４２と４３の中心
６４又は６５は完成した巻き込み体において金属の無い
帯状部１５と１６の中心である。

第６図は第２図の切断面■−■を示すもので、図面を簡
単化するために第６図においては、実際には自明のよう
に存在する個々のターンのら線形の経路が示されていな
い。

誘電体帯４上には被膜２が、また誘電体帯５上には被膜
３がかぶせられており、断面において太い線で示されて
いる。これに対し帯４上の金属の無い帯状絶縁部１５（
第６図の右側に図示）と誘電体帯５上の金属の無い帯状
絶縁部１６（第６図の左側に図示）とはこれに対して細
い線で示されている。金属の無い帯状絶縁部１５又は１
６の中心６４又は６５は断面が長円形の巻き込み体１の
長手軸２７上に在る。切り込み１０は短半袖２８の方向
に延びている。

第７図には偏平な断面を有する巻き込み体１から成る巻
き込み形コンデンサが示されている。このコンデンサは
偏平な巻き心上に形成され、その際巻き心を場合によっ
ては巻き込み体の中に残すことができるか、又は誘電体
帯が最初に円形又は長円形の断面を有する巻き心上に巻
き込まれ、その後巻き心を取り外した後に巻き込み体を
平らに圧縮することにより巻き込み体１を作ることもで
きる。これらの技術は全て十分に知られており数十年来
の技術である。

しかしながら１図示の場合には給電線はこの巻き込み体
の向かい合った端面上に固定されてはおらず、この構造
は第２図及び第３図に関連して説明した第１図の構造に
等しい。

巻き込み体の偏平な断面を有するかかる巻き込み形コン
デンサも最初に二重巻き込み体として作ることができ、
この二重巻き込み体は線６６に沿って場合によっては設
けられた金属の無い帯状絶縁部６７の中心で二つの巻き
込み体６８と６９とに分割されるので、それにより二つ
のコンデンサを作ることができる。切り込み１０の形成
のためにかかる偏平な複数の二重巻き込み体が上下に積
み重ねられ、端面を金属化した後に切り込み１０を形成
される。この製造方法は特に能率的である。

金属被膜２，３の中に帯状絶縁部１５．１６゜３２．４
３を形成するためにレーザ光線７４と７５を用いた金属
化層除去装置が最も有利であることが判明している。こ
のために巻き心のための受は入れ装置が角度発信器（復
号器）と機械的に結合されている。復号器は回転角に同
期して制御電子装置に電気パルスを与える。帯状絶縁部
が第３図、第４図及び第５図に示すように帯の金属被膜
の中に作られるように、制御電子装置は与えられたプロ
グラムに従ってレーザパルスを制御する。

巻き込み体の製造の際に帯状絶縁部４２．４３は、既に
金′属化層を除去された各上側の層の下の金属被！！２
．３の損傷を防止するために、帯３４．３５、５６．５
９が巻き込み体１に乗り上げる前に作られるべきである
。それ故に第４図においては矢印７４と７５で暗示した
レーザ光線が巻き心４５から横方向に距離を置いて示さ
れている。巻き込み体に乗り上げる前に帯状絶縁部の形
成を実行する必要性から、帯状絶縁部４２　、４３が巻
き込み体全体において正しく上下に重なるように制御電
子装置はプログラムされていなければならない、このた
めには一般にターン数とあらかじめ与えられた平均のフ
ィルム厚さに関する制御で十分である。

第５図及び第７図に示すように相応の幅のフィルムから
成る二重巻き込み体が巻き込まれるときには、巻き込み
体の製造とその後処理（偏平な断面を有する巻き込み体
の場合の偏平圧縮、スクープ法による金属層の被層、給
電要素の取り付け）は従来の巻き込み方法に比べて合理
化できる。そこでは伸展されたプラスチックフィルムが
部分的に縮み、弁作用金属特にアルミニウムから成る金
属層が狭い範囲で絶縁され、連続した金属の無いフィル
ムの場合には更に線６６に沿って形成される絶縁性のの
こぎり切断面により、二重巻き込み体は二つの部分巻き
込み体６８．６９に切り離される。この部分巻き込み体
は鏡面対称に同一である。それぞれ各帯５８．５９の１
＆６０と６１の範囲に帯状絶縁部４２と４３を備えた二
重巻き込み体の製造のためには４木のレーザ光線が必要
である。

この巻き込み体は製造の際に生じる帯状絶縁部の位置に
より巻き心の取り外し後に定められた半径位置ですなわ
ち短軸２８の方向に圧縮されなければならないので、周
知の方法で長円形の巻き心に巻き込まれるか又は偏平圧
縮を定められた巻き心位置での巻き心からの抜き取りと
組み合わせるのが有利である。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に基づく円形断面を有する＠き込み形
コンデンサの一実施例の斜視図、第２図は第１図に示す
巻き込み体の切り込みの方向から見た側面図、第３図は
第１図に示す巻き込み体の部分展開図、第４図は円形巻
き込み体の巻き込み工程の一実施例を示す斜視図、第５
図は長円形二重巻き込み体の巻き込み工程の一実施例を
示す斜視図、第６図は長円形巻き込み体の第２図に示す
切断線■−■による断面に相当する断面略図、第７図は
偏平断面を有する二重巻き込み体から作られたコンデン
サの一実施例の斜視図である。 ｌ−−・巻き込み体、　　２，３・・・被膜（薄い金属
層）、　　４，５，３４，３５、５６，５９・・・誘電
体帯、　　６，７・・・端、　　８．９・・・突出部、
　　１０・・・切り込み、　　１１゜１２・壷・面、　
　　１３，１４．５４−−−金属層、　　　１５，１６
，４２，４３令番番帯状絶縁部、　　１７−−−深さ、
　　１８．１９−−−幅、２０．２１−会合残存帯状金
属、　２４．２５・・・給電線、°　２６・・・長手軸
線、　　２９・・・上側の端面、　　３０，３１，６７
・・・金属の無い帯状部、　　　３２．３３・・・給電
体、３６．３７，３８，３９，６０，６１・・・縁、４
０．４１・・・間隔、　４６・・・巻き込み方向、　４
５．５７・・・巻き心、　４７．４８・・・終端、　４
９．５０・・・始端、　　　５１゜５２・・φ長さ、　
　５３．６２．６３・・・端面、　　５５，５６・・・
内縁、　　６４．６５・会拳中心、　６６番・・切断線
。 ＩＧ　４ ＩＧ　５ ＩＧ　６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）各一つの再生可能な薄い金属層を被膜として備え一
   緒に巻き込まれた伸展プラスチックフィルムの誘電体帯
   から作られた円形又は長円形又は偏平な断面を有する強
   化された巻き込み体から成り、被膜が帯ごとに交互に異
   なる縁に達し、かつ相対する極の被膜が接触のために用
   いられるスクープ法により形成された金属層と相互に結
   合された面を形成し、この面に給電体が固定されている
   コンデンサにおいて、 ａ）二つの突出部（９、８）が、端面のほぼ中央を通り
   巻き込み体の長手軸線（２６）の方向に延びる切り込み
   （１０）により一端面に形成され、被膜（２、３）が帯
   （４、５）ごとにこの二つの突出部の端（７、６）に到
   達し、 ｂ）突出部（８、９）の端（６、７）により強化された
   巻き込み体（１）に形成された面（１１、１２）が接触
   のために用いられる金属層（１３、１４）を備え、 ｃ）誘電体帯（４、５）ごとに交互に突出部（８、９）
   が金属の無い帯状絶縁部（１５又は１６）を備え、その
   際切り込み（１０）の深さ（１７）が帯状絶縁部（１５
   又は１６）により形成された残存帯状金属（２０又は ２１）の幅（１８又は１９）より大きいか、あるいは帯
   状絶縁部（１５、１６）の内縁 （５５、５６）と一致するか、あるいは好ましくは内縁
   （５５、５６）を越えて巻き込み体（１）の中にまで達
   する ことを特徴とするコンデンサ。 ２）誘電体帯（４、５）を形成する伸展されたプラスチ
   ックフィルムが１μｍないし １５μｍの厚さであることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載のコンデンサ。 ３）誘電体帯（４、５）が巻き込み体（１）の上側の端
   面（２９）の範囲に金属の無い帯状部（３０、３１）を
   有することを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２
   項記載のコンデンサ。 ４）金属層（１３、１４）上に給電線（２４、２５）が
   固定され、この給電線が巻き込み体（１）の長手軸線（
   ２６）の方向に延びていることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項ないし第３項のいずれか１項に記載のコンデ
   ンサ。 ５）チップ構造にコンデンサを組み込むためにろう付け
   可能な金属から成る給電体（３２又は３３）が金属層（
   １３又は１４）上に固定され、この給電体が場合によっ
   ては帽子状に構成されて巻き込み体（１）の突出部（８
   又は９）により構成された脚部を囲むことを特徴とする
   特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか１項に記
   載のコンデンサ。 ６）容量が切り込み（１０）の幅及び／又は深さ（１７
   ）により所望の狭い公差値に調整されることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれか１項に
   記載のコンデンサ。 ７）コンデンサがあだ巻ターンとカバー層としてのター
   ンとを備え、これらのターンの上では帯（４、５）の金
   属化層が金属の無い横方向に延びる少なくとも一つの帯
   状絶縁部と巻き込み方向に連続した金属の無い帯状絶縁 部とにより突出部（８、９）上の金属層 （１３、１４）に電気的に結合されないようにすること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第６項のいず
   れか１項に記載のコンデンサ。 ８）片面を少なくとも一つの縁まで金属化され特に波形
   切断縁を備えた誘電体としての伸展されたプラスチック
   フィルムから成る帯が円形又は長円形又は偏平な断面を
   有する巻き心上に巻き込まれ、形成された巻き込み体が
   その後場合によっては巻き心から外され、そのように作
   られた巻き込み形コンデンサに端面接触層が設けられる
   ようなコンデンサの製造方法において、次の工程段階 ａ）それぞれ一つの縁（３６、３７）上に 場合によっては連続した金属の無い帯状部 （３０、３１）を有する金属化された帯 （３４、３５）が巻き心上に巻き込まれ、 一方これと向かい合った縁（３８、３９）の範囲に縁と
   間隔（４０、４１）を置いて巻き込み方向（４６）に間
   欠的な金属の無い帯 状絶縁部（４２又は４３）が巻き込みの前 又はその際に形成され、その際帯状絶縁部 （４２、４３）がドラム上に巻き込みの際に巻き込み軸
   に垂直な平面上にあり、帯状絶縁部（４２、４３）の終
   端（４７、４８）も始端（４９、５０）も後に加工され
   る切り込み（１０）の範囲にまで達するか又はこの範囲
   を僅かに越えるようにされ、 ｂ）巻き込み体（１）の中で上側帯（３４）の帯状絶縁
   部（１５、４２）の中心（６４）が下側帯（３５）の帯
   状絶縁部（１６、 ４３）の中心（６５）と対称に相互に向か い合うように、帯（３４、３５）が巻き心 （４５、５７）上に巻き込まれる際に導か れ、かつ巻き込みの前又はその際に形成さ れた帯状絶縁部（４２、４３）がその長さ （５１、５２）を決められ、 ｃ）巻き込み体の加工後に帯状絶縁部 （１５、１６、４２、４３）に隣接する端面（５３、６
   ２、６３）上に接触のために用 いられる金属層（５４）がかぶせられ、こ の端面（５３、６２、６３）に帯状絶縁部 （１５、１６、４２、４３）の中心（６４と６５）の間
   の結合線に垂直にかつ巻き込み体（１）の長手軸線（２
   ６）の方向に切り込み（１０）が形成され、この切り込
   みの幅と深さ（１７）とにより両突出部（８、９）が形
   成され、 ｄ）巻き込み体（１）の内部及び切断縁上の欠陥個所の
   回復のために高められた電圧を 印加すること並びに給電体（２４、２５、 ３２、３３）を突出部（８、９）の金属層 （１３、１４）上に固定することによりコンデンサを完
   成する を特徴とするコンデンサの製造方法。 ９）工程ａ）の際に巻き心（４５、５７）上に巻き込ま
   れる帯（５８、５９）の両縁 （６０、６１）上にそれぞれ間欠的な金属の無い帯状絶
   縁部（４２、４３）が形成され、それにより二つのコン
   デンサのための巻き込み体が形成され、この巻き込み体
   が巻き込み工程の終了後に切断線（６６）に沿って二つ
   のコンデンサに分割されることを特徴とする特許請求の
   範囲第８項記載の方法。 １０）巻き込まれる金属化された帯（５８、５９）が中
   央に連続する金属の無い帯状部 （６７）を備えるようにすることを特徴とする特許請求
   の範囲第９項記載の方法。 １１）帯（３４又は３５、５８又は５９）上における間
   欠的な金属の無い帯状絶縁部 （４２又は４３）の形成がレーザ光線の使用又は溶射ホ
   ィールの採用により行われ、その際帯状絶縁部（４２又
   は４３）の位置及び長さの相互の及び半径が増加するに
   つれて巻き込み体の中でのその配置に関して望ましい関
   係を得るために、レーザパルス又は溶射ホ ィールの溶射サイクルが巻き心の回転に同期して制御さ
   れることを特徴とする特許請求の範囲第８項ないし第１
   ０項のいずれか１項に記載の方法。 １２）後に間欠的な金属の無い帯状絶縁部 （４２、４３）を形成する範囲に連続した金属の無い帯
   状絶縁部を形成した金属化された帯（３４、３５、５８
   、５９）の数回のあだ巻ターンが最初に巻き心（４５、
   ５７）上に巻き込まれ、少なくとも一つの帯を横切って
   延びる少なくとも一つの金属の無い帯状絶縁部が作られ
   、続いて同一巻き込み工程で間欠的な帯状絶縁部（４２
   、４３）の形成が行 われ、それによりあだ巻の範囲の誘電体帯 （３４、３５、５８、５９）上の金属層が 完成したコンデンサの中の残存帯状金属 （２０、２１）にもはや電気的に結合されないようにす
   ることを特徴とする特許請求の範囲第８項ないし第１１
   項のいずれか１項に記載の方法。 １３）カバー層として働くターンを巻き込み形コンデン
   サの周囲に形成するために、金属化された帯（３４、３
   ５、５８、５９）上に間欠的な金属の無い帯状絶縁部（
   ４２、４３）に接続してまず少なくとも一つの帯を横切
   って延びる金属の無い帯状絶縁部が作られ、間欠的な金
   属の無い帯状絶縁部の範囲に同一の巻き込み工程におい
   て連続的な金属の無い帯状絶縁部が形成され、それによ
   りカバー層の範囲の誘電体帯（３４、３５、５８、５９
   ）上の金属層が完成されたコンデンサの中の残存帯状金
   属（２０、２１）にもはや電気的に結合されないように
   することを特徴とする特許請求の範囲第８項ないし第１
   ２項のいずれか１項に記載の方法。