JPS61257479A - 無機粉体の無電解めつき方法 - Google Patents

無機粉体の無電解めつき方法

Info

Publication number
JPS61257479A
JPS61257479A JP60100276A JP10027685A JPS61257479A JP S61257479 A JPS61257479 A JP S61257479A JP 60100276 A JP60100276 A JP 60100276A JP 10027685 A JP10027685 A JP 10027685A JP S61257479 A JPS61257479 A JP S61257479A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
inorganic powder
plating
epoxy resin
noble metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60100276A
Other languages
English (en)
Inventor
Tokuzo Kanbe
神戸 徳蔵
Yaozo Kumagai
熊谷 八百三
Hiroshi Niwa
宏 丹羽
Takashi Isobe
磯部 荘
Jiro Takahira
高平 二朗
Kunihiko Nozaki
野崎 邦彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NISSO KINZOKU KAGAKU KK
Maruyasu Industries Co Ltd
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
NISSO KINZOKU KAGAKU KK
Agency of Industrial Science and Technology
Maruyasu Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NISSO KINZOKU KAGAKU KK, Agency of Industrial Science and Technology, Maruyasu Industries Co Ltd filed Critical NISSO KINZOKU KAGAKU KK
Priority to JP60100276A priority Critical patent/JPS61257479A/ja
Publication of JPS61257479A publication Critical patent/JPS61257479A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1635Composition of the substrate
    • C23C18/1639Substrates other than metallic, e.g. inorganic or organic or non-conductive
    • C23C18/1641Organic substrates, e.g. resin, plastic

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業]−の利用分野〉 本発明は、無機粉体の無電解めっき方法に関し、特に、
無機粉体をプラスチック、ゴム等の高分子材料に又は塗
料等に充てん剤として用い・高分子材料又は塗膜に帯電
時11=性や電磁波シールド性を付与できるように、無
機粉体表面に導電性を有する金属皮膜を形成するのに適
した無電解めっき方法に関する。
〈従来の技術〉 そして、無機粉体表面に密着性が良好で均一な金属皮膜
を形成する方法として、貴金属捕捉性表面処理剤を用い
て表面処理した無機粉体を、貴金属イオンを含む溶液を
用いて表面活性化させた後、無電解めっき浴中に浸漬し
て金属皮膜を無機粉体表面に形成させる方法が提案され
ている(48開昭59−182961号公報参照)。
〈発明が解決しようとする問題点〉 木発明者らは、4二記方法について、具体的に各種組合
せに基づいて、試験検討した結果、下記のような問題点
があることを見い出した。
即ち、上記公報に記載されている実施例。ように、表面
化活性化処理にパラジウムイオンヲ含ム溶腋を用いた場
合において、無電解めっき浴ヲ酸性浴としたときは、金
属皮膜の無機粉体表面に対する密着性に問題は生じない
が、アルカIJ 浴、!= I。
たときは、金属皮膜の無機粉体表面に対す6密着性が余
り良好でない。
その理由は、断定はできないが、活性化処理で触媒核と
して無機粉体に付着したパラジウムが、アルカリ浴中で
は、酸化されて触媒作用を失なうとともに、無機粉体表
面から遊離するためと推定される。
なおアルカリ浴で無電解めっきを問題なく行えると、銅
めっきが可能となる(PH9以I−でないと不可能)、
またニッケルめっきにおいても、酸性浴の場合よりもリ
ン含隈の少ないニッケル皮膜を得ることができる等、有
利である。
く問題点を解決するための手段〉 本発明者らは、−1−記問題点を解決するために、鋭意
研究した結果、下記金属捕捉性表面処理剤と表面活性化
に用いる貴金属イオンとを特定の組合せとすることによ
り、アルカリ浴で無電解めっきを行なっても、均一かつ
密着性の良好な金属皮膜を無機粉体−1−に得られるこ
とを見い出し、木発す1を完成した。
即ち本発明は、貴金属捕捉性表面処理剤を用いて表面処
理した無機粉体を、貴金属イオンを含む溶液を用いて表
面活性化させた後、無電解めっき浴中に浸漬して金属皮
膜を無機粉体表面に形成させる無電解めっき方〃:にお
いて、貴金属捕捉性表面処理剤としてエポキシ樹脂を用
いるとともに、表面活性化に用いる貴金属イオンを銀イ
オンとすることに特徴を有する。
く構成の詳細な説明〉 本発明の適用可佳な無機粉体としては、プラスチックや
ゴム等の充てん剤として使用されているものなら特に限
定されないが、セリサイト等の雲母鉱物(マイカ)、カ
オリナイト等のカオリン族、タルク、スレート、アルミ
ナ等が望ましい。
貴金属捕捉性表面処理剤として用いるエポキシ樹脂の硬
化剤は、酸無水物、レゾール樹脂等であってもよいが、
アミン系のものが望ましい6具体的には、エチレンアミ
ン族、N−アミノエチルピペラジン、メタキシリレンジ
アミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン
、ポリアミド等の脂肪族アミン、パラメンクンジアミン
、メツホロンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチル
シクロヘキシル)メタン、2−エチル−4−メチルイミ
ダゾール等の環状脂肪族アミン、メタフェニレンジアミ
ン、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−
ジアミノフェニルスルホン、ジシアンジアミド等の芳香
族アミンを挙げることができる。そして、エポキシ樹脂
の無機粉体への塗布方法は、通常、ミキサーを用いて浸
漬により行ない、塗布量が無機粉体100重量部に対し
て0.1〜10fFBとなるように粘度、硬化剤を適宜
選定する。
表面活性化に用いる銀イオンを含む溶液は、硝酸銀等の
可溶性塩を水中に溶解させて調整する。
このとき硝酸銀の濃度は0.01〜l OOg / n
とし、さらにはアンモニア水(28wt%)を1文に対
して0.02〜200g加えることが銀アンモニウム錯
イオンを形成する見地から望ましい。銀の無機粉体に対
する付着量は、無機粉体100重量部に対して10−4
〜l O−1重量部とする。こうして得た硝酸銀溶液に
、無機粉体を浸漬し通常10秒以−5= 」二攪拌して表面活性化を行なう、即ち触媒核としての
銀を無機粉体表面に付着させる。この後、伺着効果を高
めるために、硝酸銀溶液にホルマリンを少量加え引続き
10秒以」−攪拌した後、無機粉体を引き上げ水洗する
ことが望ましい。尚、銀溶液はPd溶液に比して1/1
0以下と安価である。
本発明で用いる無電解めっき浴は、酸性浴でもよいが、
前述の理由により、アルカリ浴とすることが望ましい。
無機粉体表面に形成する金属としては、Cu、 Ni、
 Fe、 Go、 W等の単独の金属の他、合金、N1
−Go、 N1−Co−B、 N1−W、Ni−Fe、
 G。
−W等の合金でもよい。無電解めっき浴の調整は、従来
の公知の方法により行ない、一般的には、金属塩、還元
剤、錯化剤、緩衝剤、安定剤等を含むものとする。ここ
で、還元剤としては、次亜リン酸ナトリウム、水素化ホ
ウ素ナトリウム、アミノポラン、ホルマリン等を挙げる
ことができる。
また錯化剤や緩衝剤としては、ギ酸、酢酸、コハク酸、
クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、グリシン、エチレンジア
ミン四酢酸(EDTA)、トリエタノールアミン、酒石
酸ナトリウム・カリウム、クエン酸すl・リウム等を挙
げることができる。
〈発明の効果〉 本発明の無機粉体の無電解めっき方法は、−1−記の如
く、金属捕捉性表面処理剤と表面活性化に用いる貴金属
イオンとを特定の組合せとすることにより、アルカリ浴
で無電解めっきを行なっても、後述の実施例で示すよう
に、均一かつ密着性の良好な金属皮膜を無機粉体I−に
得られる。従ってこの発明の無電解めっき方法で導電性
を有する金属皮膜を形成した無機粉体を充てん剤として
用いた高分子材料は、後述の参照例で示すように良好な
帯電防+I−性や電磁波シールド性を示す。
〈実施例〉 以下、本発明を実施例に基づいて、さらに詳細に説明を
する。
第1表に示された仕様のマイカを、それぞれ表示の仕様
で、貴金属捕捉性表面処理剤により表面処理をし、続い
て貴金属イオンを含む溶液で活性化処理(10秒以−I
−攪拌浸漬)し、さらに、当該溶液にホルマリン(35
wt%)を加えて再度10秒以上攪拌した。このマイカ
を下記仕様のアルカリ浴を用いて無電解銅めっき又は無
電解ニッケルめっきを行なった。
(1)無電解銅めっき 硫  酸  銅               4.0
g/すEDTA           80 g/fL
ホルマリン(35賛tχ)     40g/立ポリエ
チレングリコール    1 g/fLpH12、0 浴    温                   
  70°C(2)無電解ニッケルめっき 硫酸ニッケル         26g/立次亜リン酸
ナトリウム    20 g / 1クエン酸ナトリウ
ム     44g/す硫酸アンモニウム      
66g/文pl                 9
.0浴    温                 
    40℃こうして金属皮膜が表面に形成された各
マイカについての金属化率、めっき状態及び粉体体積固
有抵抗(充てん率25vo1%)を、第1表に示す。第
1表の結果から本発明の方法で得た金属皮膜を有するマ
イカ(実施例1〜4)は、金属皮膜の密着性が良好で、
導電性も良好であることがわかる。これに対して、本発
明以外の方法で得た金属皮膜を有するマイカ(比較例1
〜3)は、いずれも金属皮膜の密着性が良好でなく、当
然のことながら、導電性も悪い。
次に、」重犯実施例で得ためっきマイカ又はさらにめっ
きした二層めっきマイカ(参照例3)を用いて、電磁波
シールド用塗料(参照例1)、導電性複合材料(参照例
2・3・4)をそれぞれ作製し、それらの諸物性を測定
した。
く参照例1〉 実施例1のめつきマイカをアクリル樹脂塗料(“′ニュ
ーアクリックパ関西ペイント■製、加熱残分38重量%
)、に第2表に示す充てん量となる様に添加し、さらに
アクリル樹脂用シンナーで希釈し、ペイントコンディシ
ョナーで15分間分散させて電磁波シールド用塗料を作
製した。この塗料をABS樹脂板(150X 150X
2mm)にスプレー塗装して第2表に示す厚さの塗膜を
有する塗装板を作製した。この板から60X30mmの
大きさの試験片を切断して、表面抵抗と電磁波シールド
特性(4GHz帯用方形導波管を用いて)を測定した。
その結果をまとめて第2表に示す。
第2表に示す結果から、実施例のメッキマイカの金属皮
膜は機械的な分散方法でも破壊されず、塗膜の導電性が
失なわれていないことがわかる。
また、塗膜表面を基盤目状(ioo個、1mm口)にカ
ットし、粘着テープを貼りつけてテープをはがしたとき
の表面状態を観察した結果、80%以下の充てん率では
粒子のはく離は見られず、90%充てんの場合ごく少量
粒子のはく離が認められた。塗料との密着性もよく、ま
た金属皮膜の脱落は認められなかった。
く参照例2〉 240℃に加熱されたブラベンダープラストミルでAB
S樹脂(“デンカA B S −Q F ”電気化学工
業■製)を溶融させ第3表に示す充てん量になるよう実
施例1のめつきマイカを入れ5分間混練する。なお、A
BS樹脂の溶融に際して、還元剤゛HCA ”を0.1
 wt%添加したものと添加しないものの二種類とした
。ここで、” HCA ”は9゜10−ジヒドロ−9−
オキサ−10−ホスホフェナントレン−10−オギサイ
ドの三光化学■製の商品名である。混練後取り出し熱ロ
ールで板状にし、さらにホットプレスで圧縮成形して板
状の導電性複合材料を作製した。この板状材から60X
30X2mmの試験片を切断して得、導電性と電磁波シ
ールド性を参照例1の方法に準じて測定した。それらの
結果を第3表に示す。また実施例1のめつきマイカを充
てん率15vo1%で」二層ABS樹脂に充てんして得
られた複合材料の引張強度は390kgf/cm’であ
り、めっきしないマイカを同様にしてABS樹脂に充て
んして得られた複合材料の300  kgf/crn’
よりも大きく、金属皮膜の表面からのはく離は認められ
なかった。このことから、AgNO3を触媒とするめつ
きマイカの金属皮膜の密着性は非常に優れていることが
わかる。
く参照例3〉 第1表の実施例4に示すめっきマイカを下記のM1成の
ニッケルめっき液を用いて、温度45℃、陰極電流密度
IA/dゴの条件で内側に隔膜を設けたバレル(190
mmφX 250 mm)中でさらに電気めっきを行っ
た。
ニッケルめっき液組成 NiSO4・BH20250g/す NiCl2 争BH2050g/す H3B0350g/立 T)H3,0 その結果、銅含有率20.0wt%、ニッケル品位21
.0%、金属化率41.0%、粉体の体積固有抵抗値(
充てん率25vo1%)3X10iΩa cm、真比重
3.76のCu−Ni二層メッキマイカが得られた。こ
の二層メッキマイカをプロピレン樹脂(゛。
MA−4’“三菱油化■製)に充てん率15vo1%と
なるように充てんし、参照例2と同様にして板状(2m
mt)の導電性複合材料を作成し、さらに導電性及び電
磁波シールド性を測定した。その結果、体積固有抵抗値
は5.0X10−’Ω・C11であり、電磁波シールド
性(4G Hz)は50dB以上(測定値検出限界)を
示した。
く参照例4〉 参照例2と同様の方法で、実施例1のメッキマイカを充
てん晴が20vo1%となるようにプロピレン樹脂(参
照例3と同一)に混練し、圧縮成形により150X15
0X2.O+amの導電性複合材料を得た。こうして得
た板状材について、電磁波シールド特性を、スペクトラ
ムアナライザーを用いて測定してまとめた結果を第4表
に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 貴金属捕捉性表面処理剤を用いて表面処理した無機粉体
    を、貴金属イオンを含む溶液を用いて表面活性化させた
    後、無電解めつき浴中に浸漬して金属皮膜を無機粉体表
    面に形成させる無電解めつき方法において、 前記貴金属捕捉性表面処理剤としてエポキシ樹脂を用い
    るとともに、前記表面活性化に用いる貴金属イオンを銀
    イオンとすることを特徴とする無機粉体の無電解めつき
    方法。
JP60100276A 1985-05-10 1985-05-10 無機粉体の無電解めつき方法 Pending JPS61257479A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60100276A JPS61257479A (ja) 1985-05-10 1985-05-10 無機粉体の無電解めつき方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60100276A JPS61257479A (ja) 1985-05-10 1985-05-10 無機粉体の無電解めつき方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61257479A true JPS61257479A (ja) 1986-11-14

Family

ID=14269676

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60100276A Pending JPS61257479A (ja) 1985-05-10 1985-05-10 無機粉体の無電解めつき方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61257479A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63114065A (ja) * 1986-10-29 1988-05-18 Sony Corp 有機電解質二次電池
JPS63199874A (ja) * 1987-02-13 1988-08-18 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 導電性充填材
JPS63287099A (ja) * 1987-05-20 1988-11-24 Mitsubishi Metal Corp 磁気シ−ルド用磁性粉末
JPS63287098A (ja) * 1987-05-20 1988-11-24 Mitsubishi Metal Corp 磁気シ−ルド用磁性粉末
JP2001026880A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Fujitsu Ltd 導体パターン形成方法
WO2015107996A1 (ja) 2014-01-14 2015-07-23 東洋アルミニウム株式会社 複合導電性粒子、それを含む導電性樹脂組成物および導電性塗布物
CN107130231A (zh) * 2017-07-03 2017-09-05 汕头市三宝云母科技股份有限公司 纳米金属银包覆人工合成氟金云母粉的制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS501424A (ja) * 1973-03-14 1975-01-09
JPS59182961A (ja) * 1983-03-31 1984-10-17 Agency Of Ind Science & Technol 金属皮膜を有する無機粉体の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS501424A (ja) * 1973-03-14 1975-01-09
JPS59182961A (ja) * 1983-03-31 1984-10-17 Agency Of Ind Science & Technol 金属皮膜を有する無機粉体の製造方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63114065A (ja) * 1986-10-29 1988-05-18 Sony Corp 有機電解質二次電池
JPS63199874A (ja) * 1987-02-13 1988-08-18 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 導電性充填材
JPS63287099A (ja) * 1987-05-20 1988-11-24 Mitsubishi Metal Corp 磁気シ−ルド用磁性粉末
JPS63287098A (ja) * 1987-05-20 1988-11-24 Mitsubishi Metal Corp 磁気シ−ルド用磁性粉末
JP2001026880A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Fujitsu Ltd 導体パターン形成方法
WO2015107996A1 (ja) 2014-01-14 2015-07-23 東洋アルミニウム株式会社 複合導電性粒子、それを含む導電性樹脂組成物および導電性塗布物
KR20160102547A (ko) 2014-01-14 2016-08-30 도요 알루미늄 가부시키가이샤 복합 도전성 입자, 그것을 함유하는 도전성 수지 조성물 및 도전성 도포물
US10227496B2 (en) 2014-01-14 2019-03-12 Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha Composite conductive particle, conductive resin composition containing same and conductive coated article
CN107130231A (zh) * 2017-07-03 2017-09-05 汕头市三宝云母科技股份有限公司 纳米金属银包覆人工合成氟金云母粉的制备方法
CN107130231B (zh) * 2017-07-03 2018-12-25 广东三宝新材料科技股份有限公司 纳米金属银包覆人工合成氟金云母粉的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20100323111A1 (en) Colloidal Palladium Activators and Methods Thereof
TW574716B (en) Electroconductive paste
CN109392296B (zh) 电磁屏蔽膜的制备方法
JPS61257479A (ja) 無機粉体の無電解めつき方法
WO2012047454A1 (en) Process for surface preparation of polyamide articles for metal-coating
JPS60181294A (ja) 金属皮膜を表面に有する無機質粉体の製造方法
JPH0445585B2 (ja)
TWI698170B (zh) 電磁屏蔽膜及其製作方法
JPS58191722A (ja) 金属層を有するポリマ−粒状物、その製造法およびその使用
KR20140019174A (ko) 인쇄회로기판의 제조방법
JP5756444B2 (ja) 積層体およびその製造方法、並びに、下地層形成用組成物
EP0453090A1 (en) Electro-deposition coated member, process for producing it, and electro-deposition coating composition
JPS59182961A (ja) 金属皮膜を有する無機粉体の製造方法
JPH0417215B2 (ja)
JPH04212498A (ja) 導電接着性部材、導電接着性部材の製造方法、導電接着性部材を用いた導電部材及び電子機器
JPH0734325B2 (ja) 異方導電性接着剤用導電性粒子および異方導電性接着剤
JP2001295061A (ja) 無電解パラジウム−ニッケルめっき浴およびこれを用いるめっき方法ならびにこの方法により得られるめっき製品
JPH01201486A (ja) 耐マイグレーション性に優れた導電塗料用Agめっき複合粉末
JPH07226110A (ja) 導電性ペースト用銅粉及びこれを用いた導電性銅ペースト
JPS61117136A (ja) 金属被覆ガラス繊維を用いたfrp製品
JPS6389698A (ja) 銅箔の処理方法
JPH08269726A (ja) 無電解ニッケルめっき液及びめっき方法
JPS61258875A (ja) 導電性塗料
Beyer et al. A Robust Palladium-Free Activation Process for Electroless Copper Plating
JPS61285608A (ja) 貴金属被覆微粒体およびその製造方法