JPS61254280A

JPS61254280A - 超音波洗浄装置

Info

Publication number: JPS61254280A
Application number: JP9763185A
Authority: JP
Inventors: 馬場　美二; 今井　美清
Original assignee: Omron Tateisi Electronics Co
Current assignee: Omron Corp
Priority date: 1985-05-07
Filing date: 1985-05-07
Publication date: 1986-11-12

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（イ）産業上の利用分野本発明は、超音波洗浄装置に関するものである。

（ロ）発明の概要本発明は、超音波洗浄装置において、洗浄液中に、被洗
浄物を引き上げる引き上げ位置周辺の液面を押し上げる
噴き出し手段を設けることにより、洗浄済みの被洗浄物
を洗浄液から引き上げる際に、塵埃等の浮遊物が洗浄済
みの被洗浄物に再付着すＡ、′７）−を貼Ｉト）、−か
原動率を高めるものである。

（ハ）従来技術とその問題点従来、超音波洗浄装置は、洗浄液中に超音波振動を放射
し、この洗浄液中に被洗浄物を浸漬することにより、被
洗浄物に付着した塵埃を取り除く装置である。

しかしながら、従来の超音波洗浄装置では、被洗浄物か
ら取り除いた塵埃が、洗浄液の浮遊物として液面全体に
浮遊している。このため、洗浄した被洗浄物を洗浄液か
ら引き上げようとすると、被洗浄物の表面に前記浮遊物
が再付着するという不具合があった。特に、電気機器の
洗浄の際に浮遊物が接点や可動部品に再付着すると、接
触不良や動作不良を生ずるという問題点があった。

（ニ）問題点を解決するための手段本発明は、前記問題点に鑑み、洗浄液中に、被洗浄物を
引き上げる引き上げ位置周辺の液面を押し上げる噴き出
し手段を設けである。

（ホ）作用とその効果したがって、本発明によれば、引き上げ位置周辺の液面
が若干高くなるため、浮遊物は引き上げ位置周辺の液面
以外の低い液面に集まる。このため、この引き上げ位置
から被洗浄物を引き上げても、浮遊物が被洗浄物に再付
着することがなくなり、洗浄効率が高まるという効果が
ある。

（へ）実施例以下、本発明にがかる一実施例を添付図面に従って説明
する。なお、説明の便宜上、本実施例の正面断面図およ
び側面断面図を併記する。

本実施例にかかる超音波洗浄装置ｌは、エンドレスのコ
ンベア９にリレー２０を等間隔で着脱自在に取り付け、
連続洗浄するものである。

すなわち、超音波洗浄装置ｌは、装置本体２と、付属設
備である再生槽ＩＯおよび水分離器１１とから構成され
ている。

装置本体２は、大略、内部を仕切って構成した超音波洗
浄槽３と中間槽４と気化槽５とからなるとともに、被洗
浄物であるリレー２０を連続的に移動させるエンドレス
のコンベア９とから構成されている。

超音波洗浄槽３は、洗浄液であるフレオンを満たして洗
浄作用を行なう槽であり、リレー２０を引き上げる引き
上げ位置３ａの液面下方には噴き出し部６を設けてあり
、この噴き出し部６が引き上げ位置３ａ周辺の液面を押
し上げるように気泡又は洗浄液を噴出し、引き上げ位置
３ａ周辺の液面以外の低い液面に浮遊物を移動させる。

さらに、引き上げ位置３ａの上方には浄化した洗浄液を
噴出するシャワー７を設けてあり、塵あいの完全除去お
よび浮遊物の再付着防止を図っている。

なお、超音波洗浄槽３に隣接する溜り部３ａは、超音波
洗浄槽３をオーバーフローした浮遊物を含む洗浄液を一
時保持し、その洗浄液の一部を後述する再生槽ｌＯに送
出するとともに、残る洗浄液の一部をポンプ１２．フィ
ルタ１３を介し、超音波洗浄槽３にもどすようになって
いる。また、新しい洗浄液は超音波洗浄槽３の上方に位
置するパイプ（図示せず）から供給されるようになって
いる。

中間槽４には、ポンプ１４．フィルタ１５を介し、後述
する水分離器１１にて水を取り除いた洗浄液を満たしで
あるとともに、中間槽４からオーバーフローした洗浄液
は隣接する気化槽５に落ちるようになっている。

気化槽５はヒータ８にて洗浄液を気化させ、その上方を
通過するリレー２０の微細な隙間に気化させた洗浄液を
侵入させることにより、微細な隙間に付着した塵埃等を
冷えて液化した洗浄液の落下とともに除去するものであ
る。なお、冷えて液化した洗浄液は雫受は部９に落下し
た後、水分離器１１に送られ、ポンプ１４．フィルタ１
５を介し、中間槽４およびシャワー７へ送り出される。

また、気化槽５内の洗浄液は再生槽ＩＯに送られて浄化
された後、水分離器１１．ポンプ１４．フィルタ１５を
介して、再び、中間槽４およびシャワー７に送り出され
る。

再生槽１０はフラックス等が溶は込み、汚濁した洗浄液
を沸騰させて蒸発させた後、冷却パイプ（図示せず）で
冷却して液化することにより、洗浄液を浄化するもので
ある。そして、浄化された洗浄液は、既述の如く、水分
離器１１に送られる。

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０小叱に沈殿する。

水分離器１１は、再生槽１０および雫受は部９から送ら
れてきた洗浄液から水を取り除くもので、その方法は洗
浄液であるフレオン（比重的１．４）と水との比重差を
利用し、フレオン上に浮かぶ水をオーバーフローさせる
ことにより、両者を分離するものである。そして、分離
後の洗浄液は、既述の如く、ポンプ１４．フィルタ１５
を介し、シャワー７、中間槽４に送り出される。

次に、洗浄工程について説明する。

コンベア９に取り付けられたリレー２０は、コンベア９
の移動につれて超音波洗浄槽３内に浸漬され、超音波振
動によって洗浄される。

そして、リレー２０は、噴き出し部６が噴き出す気泡に
よって押し上げられた液面の引き上げ位置３ａから引き
上げられるとともに、その引き上げ位置３ａの上方に位
置するシャワー７から噴出される洗浄液にて洗われる。

このため、塵あいの除去および浮遊物の再付着防止が完
全なものとなる。

さらに、引き上げられたリレー２０は、中間槽４の上方
を通過した後、気化槽５の上方を通過する。このとき、
気化したフレオンがリレー２０の微細な隙間奥深く侵入
し、液化して雫受は部９に落下するときに微細な隙間の
塵埃を除去する。この後、コンベア９からリレー２０を
取り外し、以後、同様な操作により、リレー２０を連続
洗浄できる。

本実施例によれば、浮遊物がリレー２０の接点や可動部
品に再付着するおそれがないので、リレー２０の接触不
良や動作不良を防止できるという利点がある。

なお、被洗浄物はリレーに限らず、他の部材であっても
よい。また、噴き出し部の位置１個数は適宜選択すれば
よいことは勿論である。

【図面の簡単な説明】

図は本発明にがかる一実施例の洗浄工程を示すための説
明図である。 ■・・・超音波洗浄装置、３ａ・・・引き上げ位置、６・・・噴き出し部（噴き出し手段）、２０・・リレー
（被洗浄物）。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）被洗浄物を浸漬した洗浄液中に超音波振動を放射
して前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置において、前記洗浄液中に、前記被洗浄物を引き上げる引き上げ位
置周辺の液面を押し上げる噴き出し手段を設けたことを
特徴とする超音波洗浄装置。