JPS61242643A - 触媒を中空基体に塗布する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレラミツクモノリシツク基体（ｍｏｎｏ−ｌｉ
ｔｈｉｃ　５ｕｂｓｔｒａｔｅｓ　）の含浸のためのｈ
法及び装置に関し、史に詳細には、有効的な方法で、且
つむだなく基体に所定量の触媒を含浸可能にするそのよ
うなｈ法及び装置に関する。

従来の技術及び発明が解決しようとする問題点車輌排気
ガス中の有毒な成分を除去又は変換する必要性は空気汚
染を克服するための手段として今やよく知られ−Ｃいる
。また、動力車輌上に触媒排気ガスコンバーターを有す
るための現在及び提案されでいる将来の必要要件も非常
によく知られている。コンバーターのための触媒が供給
される且つの形式は触媒によりコートされた堅いスケレ
タル（５ｋｅｌｅｔａｌ　）モノシリツク基体、又はハ
ニカム型要素の如ぎものであり、これ等は全体的に円筒
状又は長円形の形状であり、高表面積を提供するために
各々の」ニット内に多数の艮手刀向の通路がある。

整いモノシリツクの、スケレタルな基体構造はシリマプ
イ１〜、マグネシウム、ケイ酸塩、ジルコン、菓長Ｅｉ
　、ゆうき石、華青石、アルミノケイ酸地、ムライ：・
、又はその組合せの如き耐火性の結晶状の材料を含むし
ラミックから賎型的に製造される。このような材料は一
般的に多孔性の表面を有すると考えられるが、スケレタ
ル表面の表面の多孔性を改良すると考えられ、触媒によ
る活性材料で表面含浸を行なう前にスケレタル構造全体
に口り高度に多孔性のアルミナコーティングを提供する
のが一般的に得策である。これ等のモノシリツクの、大
賀的に触媒により不活性なスケレタル基体部材は、例え
ばケイプ等（Ｋｅｉｔｈ　ｅｔ　ａｔ）の米国特許＄３
，３３１．７８７号及び第３，５６５．８３０号の如き
従来技術の特許に記載されているので、それ等について
本文で詳細に説明する必要はないと思う。

典型的に、そして実施例のみによれば、触媒の構成要素
は、周期表のグループＩＢ、ＶＢ、■Ｂ１及び■の１又
はそれ以上の酷及び卑金属並びに金属酸化物、詳細には
銅、バナジウム、パラジウム、ロジウム、及びルテニウ
ムを含んであり、且つの触媒金属が単一にあるいは１又
はそれ以上の他の活性金属と組合わせて使用される。

モノリシック支持体をアルミノの如き耐火性のコーティ
ング及びブラヂＵ−、パラジ１クム、そしてロジウムの
如き触媒コーティングでコー１へするための種々のｈ法
が本技術において知られＣいるが、このような方法は費
用の観点から、塗布されるコーティングの吊を最少にす
る場合、特に、高価な（Ｃｏ５ｔ　）触媒の活性聾金属
、例えばｌラチｊ−、パラジウム、父は１−１ジウムが
高表面積の耐火性金属に一緒に沈着されるどきには不充
分ぐある。

本開示番よ、１９８　／Ｉ年４月５日に出願された１−
一マスシム１］ツク（’ｌ’　ｈｏｍａｓ　Ｓ　ｈｉｍ
ｒｏｃｋ　）等の係属中の特許出願第５９６，９９３号
に開示された技術を改良するために続けられた努力の結
果を反映している。その開示は第１に必要な過剰のコー
ティング量を減少ηるために廿ラミックモノシリツク触
媒基体に塗布されるアルミノ及び金属触媒スラリー吊を
正確に制御するための当技術における必要性を提供Ｌノ
Ｔおり、従って工程の能率の改良及びコーディング材料
損失の減少となる。

その係属中の開示は多くの従来の特許及び本発明によっ
て求められている目標達成の場合の欠陥を列挙している
。本開示と関係を有しているいくつかの追加の従来の特
許を考慮しなければならない。例えば小イヤー（１−１
ｏｙｅｒ）等に対する米国特許第３．９８４，２１３号
はコーティングスラリーを基体に塗布するための処理チ
ャンバーを開示している。そのスラリーは頂部から導入
されて、そして中空基体を通り下方へ流れる。

小イヤー（Ｈｏｖｅｒ）等に対する米国特許第４゜０３
８．９３９号は基体を処理チャンバー内に浸すことによ
る含浸工程を開示している。この特許は除去アーム手段
を利用しており、このアーム手段は基体が処理チャンバ
ーから除去されるとき各々の基体の９０回転を行なうよ
うに作動し、従ってそのハニカム通路がほぼ水平状に方
向づ番ノされて空気の吹出し及び湿った要素の乾燥を可
能にし、且つスラリーの小滴が通路を社塞するのを防ぐ
。

リード（Ｒｅｅｄ）等に対する米国特許第４．１９１，
１２６号によれば、スラリーは浸漬コーティング又はコ
ーティングチャージ（ｃｈａｒｇｅ　）ヲＷ　ｆ４の十
へ端に塗布するいづれかによって１体に塗布される。基
体が１端からガス等を追い出した後、基体を逆にして、
そしで反対端からガス等の追い出【ノを続けるのが有利
であると−に記特許に述べられ”Ｃいる。

１７ング（Ｙ　０１１ｎｇ）に対する米Ｉｎ許第４，３
８４．０１４号では、ベースプレート上に置かれており
、４４ツベルジｔ　−（ｂｅｌｌ　ｊａｒ）のようにヘ
ースートに密封しで閘かれたシリンダーでカバーされた
多孔性の物品の含浸を開示しでいる。真空がシリンダー
の−に方部分に加えられ、そして含浸剤が真空の作用の
ＦでベースプレーＩ〜を通り入れられる。工程が終Ｙし
たとぎ、真空が破られて、過剰の含浸剤はカバーから除
去され、そしてカバーはベースプレートから除かれる。

しかしながら、前述の如（、これ等の従来の特許のどれ
も、基体に塗布されるコーティングスラリー量を正確に
制御して、これによってＴ稈の能率を改良し、且つコー
ティング材料の損失を減少するいかなる技術も開示して
いない。

問題点を解決するための手段 本発明は、耐火性の及び／叉は触媒金属構成要素のスラ
リーを用いて、正確に制御された、所定量のスラリーが
レラミックモノリシック（ｍｏｎｏ　−１μｌＣ）基体
部材に加えるために目量される自学コーティングセラミ
ック基体部材のためのｈ法及び装置を提供することによ
ってこれ等の必要性を満たす。これは過剰なコーティン
グ材料を部材に充満する必要性及び過剰のコーティング
材料を部材から除去するためのあらかじめ必要な補助的
ステップを除去する。従って、本発明の方法及び装置を
使用することによって、セラミックモノリシック基体の
外部コーティングの除去父はその内部スケレタル（５ｋ
ｅｌｅｔａｌ　）通路の内部アンプラギング（ｕｎｐｌ
ｕｇｇｉｎ（＋）の必要なく耐火性の及び触媒金属構成
要素の所望の濃度の均一なコーティングを−４２＝ 塗布することが可能である。

本発明によれば、処Ｉツされるべき、１コっ対向する開
放端を有ｌノでいる中空基体は、１端が貫金屈を含む所
定量又は装填量のスラリー材料を導入された浸漬なべ（
ｄｉｐ　ｐａｎ　）内に下降されるように、体重計位置
から移される。１端を完全にスラリー内に浸たすように
して、基体の他端にかけられた真空が基体の下方部分を
コートするために浸漬なべからすべＣのスラリーを吸引
する。その後基体は浸漬なべから４−昇されて、それか
ら回転され、他方の端がスラリーの他の所定装填量内に
完全に浸たされように再び■・降され、そしてこの工程
が繰返えされる。そこで、基体は浸）＾なべがら引ぎ上
げ′られ、基体をその初めの方向に戻すために回転され
、そしてそのスター１へ位置に戻される。

本発明の実施にＪ：って、モノリシック基体部材の内部
スケレタル（５ｋｅｌｅｔａｌ　）通路のみがコートさ
れる。基体部材からの過剰のコーティングの排出又は追
い出しも、セラミック部材からの空気の予備的排気の如
き、いがなる予備的真空適用ステップも必要としない。

セラミックモノリシック基体部材が所定量のコーティン
グスラリーで内部をコー１〜されることによって、基体
は、その後、コーティングの高温硬化を行なうために乾
燥及び／又は熱処理領域に送られることができる１、シ
かしながら、コーティング作業において利用される制限
された量の触媒スラリーのためにアンプラギング（ｕｎ
ｐｌｕｇｇｉｎｇ）ステップはこのような加熱ステップ
に対する前提条件ではない。

本発明の好ましい実施態様では、基体部材の１端が、コ
ーティングスラリーの１部分、即ち人体において全所定
量のスラリーの５０％と８５％との間で、真空含浸を受
けた後、基体部材を逆にし、そして反対端から真空含浸
をつづけるのが有利であることが判った。これは含浸工
程をスピードアップし、■］つ内部スケレトン通路壁十
のコーティング分布の均一性を実質的に改良する。

本発明の目標を達成するのに役立つ本装置は多くのユニ
ークな特徴を含んでいる。これ等の特徴の且つは、作動
が時間的ベースで、且つ正しいシーケンスＣ゛行なわれ
るのを保証するコンビコータ、レン］Ｊ及びリミッ１〜
スイッチを與備している制御システムＣある。

本発明の他の特徴はスラリーを含んＣいるタンクの利用
にある。このタンクはスラリーの流れを容易にするため
にプラスチック又はファイバーグラスで裏張り父はコー
１へされたステンレススチールで作られるのが好ましく
、そしてスラリー内に存在するずべでの固形物の連続す
る流れを保証するために出１］の方に傾斜している底部
部分を有している。その内容物は定期的に攪拌され、そ
してその温度は受（Ｊ入れられる限界内に維持される。

本発明のなお他の特徴は、好ましくは自由に収容するよ
うに成形されており、しかもコートされるべき基体の形
状に、断面において、正確に合っているスラリーを収容
するくぼみ（ｃａｖｉｔｙ）を設けたことである。所定
のＭ重量のスラリーを浸漬−４り− なべ内に導入する２つの異なる方法が本発明によって提
供される。且つの例では、所定の装ｈ）ｌ　Ｍの大きさ
くｍａ（ｌｎｉｔｌｌｄｅ　）は重量に基づいており、
他の例では、容積に基づいている。

開示された操作の特に重要な部分は、基体がスラリー内
に、しかも浸漬なべ内に形成されたくぼみの底部から特
定の距離へだてられて浸たされるように浸漬なべ内に基
体の各々の端を位置づけすることを含む。基体が浸漬な
べの方に下降されるに従って、適切なセンサがスラリー
内に浸漬されようとしている基体の端を検出する。この
セン４Ｊがコンピュータに信号を与え、このコンビコー
タが更に、スラリー内に浸たされた端が浸漬なべ内のく
ぼみの底部上方の正しい距１１１１ｉだＩＪへだてられ
たとき、基体の運動を停止する。

本発明の他の特徴は、１端がコーｉ−された後、他端を
周じコーティング手順のために方向づけするように基体
を回転するための適切な機構を提供することにある。

４６一 本発明のなお他の特徴は、基体がスラリー内に浸たされ
るに従−）（、基体の露出した端上に下降される真空］
−ンを提供することである。基体の端に初めに係合す”
る真空コーンの寸前に、低い真空が加えらｔｌ、初めに
基体の最内部をり１気し、それからスラリーを上方に吸
い上げ始め、その後高貝空が加えられて、コーティング
仕事が終る。このコーディング仕事は、浸漬なべ内のす
べてのスラリーが引き上げられたとき基体の端に関して
コーディング仕事が完ｒされる。このようにして１高価
なスラリーの浪費が避（Ｊられる。

本発明の他の特徴によれば、コーティング操作が基体の
両端に行イ１われだ後、基体は再び回転され−Ｃ１基体
をその初めの方位に戻す。このようにして基体（ま、そ
れが棚（ｓｈｅｌｆ　）の頂部に当たり、父は棚上に落
手することなくその初めの休止場所Ｖは棚にｌトしく戻
される。

本発明の他の及び史に他の特徴は、双手の図面と共に行
−）た以■・の説明から明らかとなるであろう。上記の
一般的な説明及び下記の説明はともに例示的、ｆｌ　Ｋ
Ｎ明に役立つものであるが、本発明を限定するものでは
ないと理解されるべきである。

本発明の１部分を含み、且つ構成している添付図面は本
発明の１実施例を例示（）ており、そして説明と一緒に
、本発明の詳細な説明するのに役立っている。

実　　施　　例 図面につい−Ｃ１最初に本発明の原理を具体化【ノてい
るシステム２０を全体的に例示しでいる第１図を参照す
る。序説の目的のために、開示されるべき全工程は半自
動工程Ｃあって、システムの作業者は初めにコートされ
るべき基体（５ｕｂｓｔｒａｔｅ　）を手でシステム内
に入れ、そしてそれ等がコートされた後取出さなければ
ならないことを述べておくことは望ましい。その他には
、この工程は作業者の相勾−作用を必要としない、。

本システムによって行なわれる工程ステップの概観は下
記の如くである。作業者は中空であり、且つ両端におい
−Ｃ開放している基低２１（第１３図）を基体クランプ
２４内の棚２２−トに置き、それから制御盤２８上のス
ター１〜ボタン２６を押す。

基体はクランプ２４によって固定され、移動され、そし
−ｒ１体内に吸いあけられるべき１装入墨のスラリー材
１Ｉｉ１を含んでいる浸漬なべ（ｄｉｐ　ｐａｎ　）３
０内に下降される。初めの低い真空が真空コーン３２を
経て基体の頂部に与えられて、そして浸漬なべ内のスラ
リーを吸いあげてすべてのセル（ｃｅｌｌ）を均等に満
たし、その後基体の）方部分をコートするために高真空
が加えられる。それから基体は浸漬なべから引き上げら
れて、そして１８０度回転される。これが行なわれると
、スラリーの第２の装填が浸漬なべ内に置かれる。それ
から基体２１は浸漬なべ内に再び下降され、そして基体
の反対の端内にスラリーの第２の装填を吸いあげるため
に連続した真空が再び加えられる。

イれから基体は浸ｉｆｆなべから引き上げられ、その最
初の位圃へ１８０度回転してもどされて、そして棚１２
にもどされる。それからクランプはコートされた基体か
ら解放され−Ｃ１作業者はそれを手でシステムから外す
。

全体のシステムが第１図に全体的に例示されているが、
多数のり一１システム及びそれ等の各々を最もよく示し
ている図を参照することによって最もよく理解されるこ
とができる。従って、主な１プブシステム及びそれ等を
最もよく示している図は一般的に下記の如くである：第
６図はスラリータンク及び循環１ノ−ブシステム、第７
図乃至第１０図はスラリーｉ１量供給システム、第１図
ノリ至第５図及び第１１図は真空１」１システム、第１
図乃至第５図、第１２図及び第１４図は機械的取扱い、
第１図乃至第５図、第１２図及び第１４図は制御Ｉ１４
ノブシステムである。

さて第６図に戻ると、この図はスラリータンク３４及び
システム２０によって利用されるスラリータンク３４に
関連した循環リブシステム３５である。タンクは任意の
適した大きさ又は構造であることかできるが、それは好
ましくはプラスチック又はファイバーグラスを内張すし
た又はコー１〜したステンレススチール容器としく−作
られており、且つスラリーを制御された温度に維持する
ために冷７ｉ［１水父は他の適切な流体のためのジャケ
ット３６によ−）で形成される。使用されたスラリータ
ンクの抑型的な大きさく４約４８ガロン（約１８２リツ
１〜ル）の客用をｈし、でいる。タンクは例えば出口３
８の方向に適度な角度をつけたスｌ’−１−プ５度を有
する底部３７によって形成されるのか好ましい。タンク
底部３６のスロープは、固形物が十分に分散され−Ｃい
ないとき、スラリー内の固形物を出口３８に最も近いタ
ンク底部の側の方に導く意図を有している。これは固形
物の多いスラリーがリブシステム全体に、そして、結局
浸漬なべ３０にスラリーの流れを生じさけ−るのに役立
つ往書動りイアフフムポン１４０にもたらされるのを保
証する。リーフシステムにおいて適切に動作するダイア
フラムポンプ／ＩＯの且つの実例はモデル番号５Ｂ１−
△、５Ｎ−１−Ａ型のリーントビツバ−（３ａｎｄｐｉ
ｐｅｒ　）コニットである。更に、スラリータンク３４
は、スラリー内の固形物の均一な懸濁を維持する更に他
の保証として攪拌器４２を備えることができる。

号ブシステムのための配管４４はポリビニールクロライ
ド（ＰＶＣ）プラスチックパイプの如ぎ任意の適切な非
？１ｉｉ！潤材斜であることかできる。実際の実施ｅは
、適切であると思われた管は商標「ティボン（ＴＹ、Ｇ
ＯＮ）Ｊの名で売られおり、且つフィッシャーリーイ■
、ンティフィックコーポレーション（Ｆｉｎｓｈｅｒ　
　３ｃｉｅｎｔｉｆｉｃ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）に
よって分配されている。管の非湿潤特性は費用のかかる
スラリー材料の生じた損失によって利害しないのを保証
する。

脈動タンパ−（ｐｕｌｓａｔｉｏｎ　ｄａｎｐｅｒ＞　
４６は１）−一ジに適応し、且つ全体に均一な圧力を提
供し、これによってコーティング操作のためのスラリー
の一定の供給端を保証するためシステムにおいて従来の
方式で作動する。このサブシステムのために満足すべき
特性を有しているダンパーの実例はオハイオ州クリーブ
ランド（ｃｌｅｖｅｌａｎｄ　Ｑｈｉｏ　）のアレンボ
ンｌカンパニイ（Ａｌｌｅｎ　　ＰｕｍｐＣｏｍ　−ｐ
ａｎｙ）によって製造されたモデル１△−１〜Ｎ−１−
Ａ１商標ｒ　１Ｊンドビツパー（３ａｎｄｐｉｐｅｒ）
　Ｊの名で市場に出されている。本リーブシステムの最
適有効性のために、ダイアフラムポンプ４０とスラリー
タンク３４との間の循環ライン又は配管４７′Ｉ上に２
フィー１−（約０．６０メー（〜ル）程変の高水頭を置
くのが好ましい。このｈ法では、循環ライン又は配管は
、好ましくない泡の形成を生ずるシステム内への空気の
吸引を防止するために、スラリーひ充たされたままであ
る。

スラリータンク３４及０その関連した循環１Ｊブシステ
ムによって供給されるスラリー１量（ｍｅｔｅｒｉｎｇ
）　１．ｊノシステムが全体的に第６図の４８で示され
Ｃいる。それは浸漬なべ３０内に入れられるスラリー吊
について正確な制御が緒持されるのを保証する。適切な
ｉ１吊１ノ−ブシステムの１実施例が第７図に例示され
ており、且つ参照番号４８△によって指示されている。

これは重量→Ｊブシステムと呼ばれることかできる、即
ち、これが浸漬なべ３０内に導入されるべき装填のため
の適切な重量を削る。例示された如く、号ブシステム４
８Ａはバランスアーム５２の１端から適切に懸垂されて
いる逆さにされたボ１〜ル又は袋（ｂｌａｄｄ−ｅｒ）
５Ｑを含んでいる。特定的に、ナイロン又は他の適切な
材料のねじ５４が袋の損部５６の中心にねじＣ係合され
ている。ねじ５４の頭部はバランスアームの下側にあり
、且の端の近くに設けられた適切なくぼみ５８内に滑動
可能にし、しかもぴったり合って収容されている。勿論
、ねじ５７！Ｉはいくつかの方式で袋と係合されるシャ
ンク（５ｈａｎｋ　）部分を有しているいくつかの他の
適切なファスナーによって代えられることができること
は理解されるであろう。実際に、袋は同様な形状で、し
かも一体の懸垂装置を提供するように成型されることも
できる。更に、バランスアームは６０における如く、そ
のＦ側の中央領域に切込みが付けられていＣ１シスデム
２０のためのフレーム構造６４十に固定されている硬化
されたノイフエツジ６２を収容（）Ｃいる。従って、袋
５０はその重心と一致する位置から、且つ容躬にその挿
入及び取外し、即ち掃除及び取替えの目的のための明ら
かな利益を与えるように取付けられる。

バランスアーム５２の及対の端において、釣り合いおも
り６６はスタッド６８上にねじぐ収容されており、そし
て作動フィンガー７１がバランスアームの運動に敏感で
あるロードセル７０を初めに零に合わせるようにバラン
スアーム絹立体をナイフェツジ６２の周りに実質的にバ
ランスするのに役立つ。１」−ドセル７０はディジタル
続出しく図示１！ず）をｈすることがｒき、オハイオ州
コロンブス市のｌ？ンソテツクーボレーシ」ン（Ｓ　ｅ
ｎｓｏｔｅｃ　Ｑ　ｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）によって製
造された商標［ｔ？ンソテック（Ｓｅｎｓｏｔｅｃ　）
　ｊ　、モデル７′ｌ５０Ｄ、ハイ／ローオプション（
Ｈｉ／ＬｏｗＱｐｔｉｏｎ　）で売出されているのが且
つの例である。

好ましくは高密度ゴム又は他の適切な弾性材料から成ル
振ｔｌＪ制動パット（ｄａｍｐｅｎｅｒ　ｐａｄ）　７
２がバランスアームとフィンカーフ１と（７）間の干渉
をクッションするようにバランスアームに適用されてい
る。この関係においては、またナイフェツジ６２と袋５
０が懸垂されている凹部５８（袋の重心を表わしている
）との間のバランスアームに沿った距離は好ましくはナ
イフェツジと、フィンガー７１のパッド７２との接触点
との間の距離よりも大きいことに注意すべきである。こ
れはスラリー重量の機械的倍率を提供して、ロードレル
７０によって生じた電気的ノイズの寄与（ｃｏｎｔｒｉ
ｂｕ　−ｔｉｏｎ）を最少にするのに役立つ。

サブシステム４８Ａはまた循環リーブシステムにおける
配管４４からそして袋５０の頂部５６内の穴をゆるく通
つ−Ｃ延びている取り入れライン７３を含んでいる。取
り入れライン７３内に位置づけされている隔離弁７３△
は４ｊブシステム４８Ａ上で行なわれるべき作用を可能
にする必要があるとぎ作動されることがひきる。同様に
、出口ライン７４は袋５０の底部に連結されており、且
つ袋の底部から延びていて、そしてサージアキコムレー
タ７７１Ａを経て浸漬なべ３０に重力供給によってスラ
リーの流れを導くのに役立つでいる。ライン７３及び７
４は好ましくはゴム管又は他の適切な柔軟性の導管材料
より成っている。フレーム構造６４上に適切に取付けら
れており、且つ第７図に例示しされた如く空気ライン７
５Ａから圧縮空気によって作動されるピンチ弁、又は任
意の他の適切な型式の弁であることができる第１の常閉
供給弁７５は袋５０内へのスラリーの流れを調節するた
めにライン７３上で作動する。同様な方法で、第２の常
閉供給弁７７は、ブラケット７６に取付けられており、
ブラケツ１〜７６はその第１の端に隣接するバランスア
ームにポルｌ−止めされるか、父はさもなくば適切に取
付【ノられていて、Ｈつそこから下方に延びている。供
給弁７５と同様に、弁７７は空気ライン７７Ａから圧縮
空気によって作動されるピンチ弁であることができる。

弁７７は袋５０から浸漬なべ３０の方へのライン７４内
のスラリーの流れを調節するのに役立つ。上述の如く、
スラリータンク３４とタイアフラムボンプ４０との間の
高水頭の他の利益は最少の全４ノイクル時間を達成する
ように袋５０が最少の時間で充たされるのを保８１する
ことである。

上部供給弁７５はフレーム構造６４に固定されているの
で、取り入れライン７３は、充分な長さを有しており、
且つバランスアーム５２がナイフェツジ６２上で揺動す
るように袋の運動に適合するために袋５０内に充分な距
離延びていなければならない。取り入れライン７３と異
なり、出口ライン７４は袋５０及び下部供給弁７７と単
一様式に動く。出口ライン７４はスラリーを袋と浸漬な
べ３０との間に位置づけされた１ノーシアキュムレ−タ
フ４Ａ内に排出する。サージアツキュムレータフ４Ａに
に　−、）　ｒ袋５０はスラリーの流れが浸漬なべ内に
続い（いる間に再充填されることができる。

続けて第７図を参照すると、スラリーの約２フイート（
約６１０ｍ）の一定の水頭が好ましくは上部、即ら第１
の供給弁７５上に維持される。袋５０をスラリーで充た
すのが望まれるとき、目−ド廿ルア　０１；ｉ釣り合い
神６６のために零になる。

それから、コンビニ１−夕７８（第１ｂ図）からのディ
ジタル信号が上部供給弁７５を開けるために導かれて、
袋５０を充填する操作がスタートする。

スラリーが袋内に１５ｊ容されるに従って、［１−ドセ
ル７０のフィン万一’７１はバランスアーム５２の反時
削の針の右向の運動によって上方に〈第７図）に動かさ
れ、そして］ノンコータ７８に送られるべき信号を生じ
て、供給弁７５を閉じるｈに操作し、これによっＣ充填
工程が終る。次に、袋５０の内容物を浸漬なべ３０に解
放するのを望まれるときには、供給弁７７が、その目的
のために、指令によって、作動される。

υ−シアツキコムレータ７４Ａは、スラリーの流れが浸
漬なべ内に続いている間に袋５０を再充填せしめる。ま
た、上）小の構成はｔＩ重量ステムを提供しており、こ
のｈ１娼シスデムはそれが動（とき最小の抗力（ｄｒａ
９＞を有しており、従って高度の正確さを保証すること
は狸解されるであろう。

またこの構成はディジタルくコンビニ１−夕７８）及び
アナＩ’ｌグ（ロードレル７０）装置の一体化によって
高速の応答を保証する。即ら、上部供給弁７５はロード
セル７０からの信号によって閉じられ、それからコンビ
コータが前記弁を再び開けるにうに指令するまでコンビ
コータ７８によって閉じられている。従つ−（、ディジ
タルシステムに固有の走査時間誤りはアナログ監視（ｍ
ｏｎｉｔｏｒ＋ｒ＋ｃ＋）によって除かれる。

スラリー肘吊刀ブシステムの他の実施態様か第８図に参
照番号＝１８Ｂによって示され、且つ例示されている。

この実ＩＭ態様の目的のために、計量ボン／８０が使用
されでいる。このポンプ【Ｊｌ例えば、米国イリノイ州
小イーリング（Ｗｈｅｅｌｉｎｇ　）市のｆ　ノン）′
ンドルペ（Ｂ　ｒａｎ　ａｎｄ　ｈｕｂｂｅ　）によっ
′Ｃ製造販売され−ＣいるモデルナンバーＮＰ−ご３１
の如きボン１′Ｃ−よい。袋５０はり一１システム４８
△に関して前に記載したのと同−Ｃあることができる３
、第８図に例示した如く、スラリーの水頭はｈ１吊ポン
プ８０の入［１への管４４によって与えられる。ボン／
の出口は取り入れライン７３を経τ袋：］０内に連結し
、ライン７３は第７図の実施態様に使用されたものと類
似の型式である。出口ライン７４は、また人体においで
、前に記載した如く、袋５０を浸漬なべ３０に適切に連
結している。この袋は、８１屋ポンプが、その特徴によ
って、スラリーを不規則にり１出するのではねかけを防
ぐのに利用されることができる。しかしながら、計量ポ
ンゾかスラリーの流れを直接浸漬なべ内に提供する場合
に、このシステムに袋５０を利用する心残がないと１！
ｌ！解されるべきである。上記の特６１一 定の型式の削口ポンプはポンプのストロークの長さを、
公知の様式で手で決定するために機械的制御を段ｉする
のが好ましい。そのようにしてストロークを制御するこ
とによって、浸漬なべ３０内に入れられる装填量は前に
述べた如く制御されることができる。従って第８図に例
示されたシステムは第７図の実施態様に利用された重量
制御と対照的に装填の容積制御に基づいている。

浸漬なべ３０を例示している第９図及び第１０図を参照
すると、その容量はスラリーを基体２１内に吸い上げる
前にスラリーの装填量を収容する。

浸漬なべは任意の適切な様式で、且つ任意の適切な材料
から製造される。使用されてきたこのような適切な材料
の且つはゼネラルエレクトリックカンパニイ（Ｑ　ｅｎ
ｅｒａｌ　　Ｅ　Ｉｅｃｔｒｉｃ　Ｃｏｍｐａｎｙ）に
よって製造され、そして商標「デルリン（Ｄｅｌｒ−ｉ
ｎ）　Ｊ　、一般名称「ア廿タール（ａｃｅｔａ　）　
Ｊで販売されているプラスチック材料である。浸漬なべ
は基体の１端を収容するためのくぼみ８４をその中に形
成している。また複数の適切な穴８６が浸漬なべをベー
ス８フ上に解放可能に取付しＪられであり、前５己ヘー
ス８７１ま、史に、システム２０のフレーム横ｉ（！＋
６４に固定される。この方法ｒは、且つの主本体８２は
、基体の種々の大きざ及び輪郭に適合するためにくぼみ
８４の大ぎさによって他のものＣ′代用されることかで
きる。

浸漬なべ（３０は非湿潤（ｎｏｎ−ｗｅｔｔａｂｌｅ）
　Ｕ利で作られるのが好ましく、その中、］デルリン（
１）ｅｌｒｉｎ　）　ｌが且つの実例ｅある。管４４と
同様に、このＪ：うな材料の使用は吸い上げ作用が完了
した後高価なスラリー材料の（−１肴を回避するのに役
立つ。デルリンは且つの適切な材料としで述べたが、実
際には、良い寸法の安定性を備えた任意の比較的非湿潤
材料が使用されることができる。

他のこのにうな月利はポリスチレン又はポリプロピレン
族からの材料Ｃ′よい。しかしながら、非湿潤材料が好
ましいか、選択された材料か僅かに湿潤していると、最
初の装填のスラリーはくぼみ８４を完全に？ｆｌｌｉｌ
潤するのに役立ち、そしく−巨湿託すると、浸漬なべへ
の次の装填のスラリー全量が基体上に収容される。

基体は一般的に長円形断面に生成されるので、浸漬なべ
のくほみ８４は便宜のため並びにスラリーの保存のため
に類似の形状であるのが好ましい。

特に第１０図を参照すると、浸漬なべ３０のくぼみ８４
は、基体が容慨にくぼみ内に収容されることができるよ
うに基体の外周辺の周りに間隙を有する如く例示されて
いる。イれにもかかわらず、基体の位置は重りではなく
、そｌ、て基体がくぼみの他方の側よりも１方の側によ
り接近しでいてもＴ程は正しく行なわれることができる
。しかしながら、実際に、くほみ８４の底部上方０．０
４０インチ（約１．０ｍｍ）の公称距離におい−Ｃ基体
２１の端を保持するのが望ましいことが判明した（第１
１図参照）。これは、正しい吊（ｍａｇｎ目（１−ｄｅ
）の装填によって、一旦基体がその吸上げ位置に達する
と、基体周辺はスラリー内に最人約０８２５インチ（約
６．４ｎ＋＋ｎ）まぐ浸漬されるのを保証する。浸漬な
べにお（」る基体端とくぼみ底部との間の間隙はｄ［容
誤差プラス叉はマイナスＱ、０１０インチ（約０．２５
ｍｍ＞を有しくおり、コレはつまり浸漬なべの底部上方
の基体端の好ましい距離範囲が０．０３０インチ（約０
．７５ｍｍ）と０．０５（’］インチ（約１．２５ｍｍ
）との間であるということＣ′ある。この間隙許容誤差
が維持される限り、基体端はなべのくぼみの底部に平行
である必要はない。

−Ｆ記に言及したけれども、約０．２５インチ（約６．
４ｍ１ｌｌ）の深さまでスラリー内に浸漬された物質の
周辺を有するのが好ましい。しかしながら、吸上げ一１
稈の初めにおい−Ｃスラリーによつてカバーされたいく
らかの僅かな量の基体周辺を有するのみが必要Ｃある。

勿論、基体端がスラリー内に浸漬されなければ、且つス
ラリーと基体周辺端との間に接触がなければ、スラリー
よりも寧ろ基体の下り端の周りの空気か基体内に吸上げ
１うれるのてこのＴ稈は作用しないことは叩解されるＣ
あろう。しかしなから、スラリー内に浸漬した基体端の
ほんの僅かな部分によって、スラリーがくぼみ８．’ｌ
内に残らなくなるまでスラリーは基体内に吸上げられ続
ける高真空が保証される。

特によく第１０図で明らか４Ａ如く、連結穴９０を通り
くばみ８４に連通ずる出口ライン７４の端を収容するた
めに、入口通路８Ｂが主本体８２内に形成され−Ｃいる
。通路８８及びその関連した連結穴９０はくぼみ８４の
底部に対ｌノて約１５）°の角度をつけられるように例
示されている。しかしながら、この角数の大きさは車装
な伯ではないが、ただくぼみの底部内へのスラリーの流
れを保証するのに充分大きい必要がある。史に、穴９０
はスラリーがくほみ８４内に流入するとぎスラリーのは
ねかけを防１トするようにフレＶ−がつけられている。

回転インデックスアーム９２及びアーム９２の１端に回
転ｉＪ能に取付けられた基体クランプ２４を詳細に例示
している第１３図を参照する。クランプ２４は全体的に
ディスク形状であり、且つクランプの第１の、即ち図の
底部の側からその第２の、即ち図の頭部１００を通すク
ラン−ｌを完全に通って延びている中央に配置された間
口９６を有するように形成されている。基体は開口９６
を通り延びており、１且つ浸漬なべ３０の上方ぐクラン
プによって保持されているのが仮想線で示されている。

、クランプ２４は基体を膨張可能なガスケツ１〜１０２
によって保持しており、膨張可能なガスケット１０２は
聞［］９６内でクランプ２４に適切に取付けられており
、且つ基体から引っ込んだ収／　　縮した状態と、Ｍ体
の中間をその端で係合しｎつ保持している膨張した状態
との間の運動のためにクランプ２４に取付けられている
。

加圧された空気ライン１０４が高圧空気源に適切に連結
されであり、且つ取付金員１０６によって、加圧された
空気をクランプ２４の本体を通りガスケツｌ−１０２内
に導入するのに役立つ−でいる。

このシステムが初めに作動されると、空気が空気ライン
１０４を通って膨張可能なガスケットに供給されて、膨
張ｉＪ能なガスケットをふくらまし、そして基体が処理
されている間基体を確実に保持する。基体がその処理加
工を終り、イしてその初めの位置に戻される時点で、空
気がガスケツ１〜から解放されて、そしてガスケットは
収縮される。

作業者はそのとき単にコートされた基体をクランプから
滑らけ、そしてそれをコートされるべき新しい基体と入
れ代える。

再び第１図、第３図及び第５図を参照すると、これ等の
図には、基体クランプ２４がそれぞれ水平、即ちＸ軸線
に沿って、及び垂直、即ちＹ軸線に沿って運動するため
に１対のキャリッジ１０８及び１１０に取付けられてい
るのが示されている。

ザーボモータ１１２が親ねじ（’１ｅａｄ　ｓｃｒｅｗ
）　　１１４を適切に回転してキャリッジ１’ＩＯを水
平軸線に沿って前後に駆動する。親ねじ１１４から間隔
をへだてており、且つ平行であり、そしてそれ等の端を
フレーｌオＩ構造６４に取付けられている１対のトンプ
ソン（−［’　ｈｏ…ｐｓｏｎ　）ロッド１１６が親ね
じ１１４と協働している。この１〜ンブソンロツド１１
６はｍ　ＩＪ的にキャリッジ１０８内に収容されていて
、キャリッジ１０８が前後に動かされるとぎフレーム構
造に対するキャリッジ１０８の方向を維持する。

類似の様式で、リーボモータ１１８は、キャリッジ１１
０を」二Ｆに動かすためにキャリッジ１１０にねじ係合
されている親ねじ１２０を作動する。

水平キャリッジ１０８の構成と同様な構成で、トンプソ
ン［１ツド１２２はそれ等の端を水平キャリッジ１０８
に取付けられており、そして親ねじ１２０に平行に、且
つ垂直キャリッジ１１０上に滑動的に収容されていて、
垂直キャリッジ１１０が上下方向に動くときその方向を
保証する。

水平キャリッジ１０８はクランプ２４を棚（ｓｈｅｌｆ
　）　２２の領域から浸漬なべ３０の領域上方に移動し
、そして再び戻ることは理解されるで＝６９− あろう。同様に、垂直キャリッジ１１０は棚２２の上方
及び浸漬なべの上方の双方でクランプを上下に動かすよ
うに作動する。

基体の第１の端が浸漬なべ内で処理されたとき、基体は
り′−ボモータ１１８及び親ねじ１２０によって適切な
位置に上昇されるので、基体は完全に浸漬なべから離れ
る。次に基体はクランプ２４上で回転されて、その使方
の端を浸漬なべ内に下降されるべき位置にもたらされる
。この回転を行なう機構が第１３図及び第１４図に最も
明らかに例示されている。

クランプ２４が回転インデックスアーム９２上に適切な
方法で回転可能【こ取付けられていることは前に述べら
れている。インデックスアーム９２は更に垂直キャリッ
ジ１１０と一体になっている。

クランプ２４０円筒状の延長部１２４、即ちインデック
スアーム９２に回転可能に取付けられているクランプの
部分は、クランプ２４における開口９６の領域から離れ
た円筒状の延長部１２４の端に固定されたセグメン１〜
ｍ巾１２６を有している。

インデックスアーム９２に滑動可能に取付けられている
ラック１２８は歯車１２６に係合しており、そして空気
作動器１３０によって十トに動かし、且つそうりること
によって、クランプ２４を底部側９８及び頂部側１００
の位置を逆にするように回転するように作動可能である
。

突起１Ｊ３２が円筒状延長部１２４の外壁に固定されで
あり、そしてそこから半径方向外方に延びていＣ、クラ
２１２４０回転を停止し、且つクランプを所望の位置に
固定して保持するための機構の１部分どじで役立ってい
る。特に、第１３図及び第１４図の双方に例示されたＱ
ｌ＋　＜、突起１３２はインデックスアーム９２に不動
に取付けられているストップ部材１３４に係合して選択
的に保持される。この状態では、クランプ２４は実質的
に水平平面にあつ゛Ｃ１第１側９８が底部側であり、そ
して第２の側１００が頂部側である。しかしながら、作
動器１３０は延長部１２４、及びそれと共に突起１３２
を同転して、突起か延長部２／Ｉに対して直径方向の反
対の位置においてインデックスアーム９２に固定されて
いる他のストップ部材１３６に係合するまで作動される
ことができる。

この運動範囲を例示するために、突起１３２は第１４図
において点線で例示されている。突起１３２がストップ
部材１３６に係合すると、クランプ２４は第１の側９８
が頂部側となり、そして第２の側１００が底部側どなる
ような位置に回転される。このようにしで、歯車７２６
及びラック１２８の作動によって突起１３２は初めに且
つのストップ部材１３４に係合され、それから他のスト
ップ部材１３６が１８０度の円弧を経て延長部１２４を
回転するのに役立つ。従って、基体２１がクランプ２４
によって支持されているとき、クランプの且つの位置に
おいて、基体の１端は（はみ８４内の容器の方に方向づ
けされる；そしてクランプが１８０度回転され、そして
今説明した如く保持されると、基体の反対端はそれから
くぼみ内に受は入れるｈに方向づけされる。

真空コーン３２は基体２１の端に係合するのに（Ｑ立ち
、そして真空を加えることによってスラリーを浸漬なべ
から基体内に吸上げることは前に述べた。第１１図を参
照すると、真空コーンの構成を更に理解する助けとなる
。真空コーン３２の一下方のリム（１゛１ｍ）１３８は
、コーン及びクランプが係合されているとき、真空の損
失を本質的に防ぐような様式にクランプ２４の側に密封
式に係合する密封ガスケツ１へ１４０に適切に取付けで
あるのが判る。第１１図から、基体がクランプ２４内に
入れられたとき、クランプはその長手方向の軸線に沿っ
て実質的に心合わせされることが判る。

またこのシステムは異なる人きδの基体にすべて適応す
るために、責なる大きさのクランプ２４及び異なる大き
さのくぼみ８４を備えた浸漬なべに利用できるが、真空
コーン３２はそのベル形状によってほぼすべての大きさ
の基体に適応するように構成されていることは注目に価
する。

〜７３− 特に第１図を参照すると、真空コーン３２はライン１４
２を経て真空源に連結されているのが判る。真空源のた
めの好ましい装置は可変速モータによって駆動される真
空ポンプ１４４である。低いモータ速度におい、Ｑ　Ｃ
ｔｍのとぎ水柱１１／２乃至２インチ（約３８乃至５０
ｍｍ＞の範囲の低真空を発生し；そして高モータ速度に
おいて、２００ｃｔｍ　　（約５．６１１１３／ＩＩＩ
）のとき水柱６乃至ツイフチ（約１５０乃至１７５ｍｍ
）の範囲の高真空が発生される。

特によく第１図、第３図及び第４図で明らかな如く、真
空コーン３２は浸漬なべ３０の上方に位置づけされてお
り、フレーム構造６４上に適切に支持されていて、そし
てくぼみ８４に正確に整合されている。適切な空気シリ
ンター１４６によって、真空コーンは一ト臂位置、即ち
不活動位置と、基体２１の上方端に係合するための下降
位置、即ち活動位置との間をガイド１４６Ａに沿って移
動されることができる。その上昇位置は真空コーン＝７
４− ３２と一体であり、且つ真空コーン３２から突出しでい
るカム１４５が空気シリンター１４６（第４図）の外部
に取（；ｌ’　ｉｊられたリミットスイッチ１７Ｉ５に
当たるときに規定される。スイッチ１４５０作！ＩＪは
空気シリンター１４６を不活動にし、−ｈコンピュータ
７８は、真空コーンが基体に係合するそのト降した位置
に達したときに空気シリンターを不活動化するのに役立
っている真空コーンの下方への連動はクランプ２４が基
体を浸漬なべの方に運んでいるどきクランプ２１の運動
と整合的に空気シリンター１４６によって行なわれる。

即ち、真空コーン３２は実質的に同時に、叉は基体が浸
漬なべ内のスラリー内に入る僅か前に基体と同時に一１
＝７’ｊに動かされる。

第１３図を参照１−ると、この図は推体か浸漬なべ内に
入れられるに従っＣ１スラリー内に浸たされるその上方
端を有している基体２１の高さを制御するだめの赤外線
はンサ装置を全体的に例示しでいる。このセン１）装置
は１対の廿ンリシステム１４７を含んであり、各々はな
べ３０を対角線で横切り、従って基体の運動径路を横切
って作動する。各々のセン４）−システムは信号発生源
１４８及び関連する検出器１５０を含／Ｖであり、検出
器又は源のいづれかがなべの各々のコーナーに配蹄され
−Ｃいる。センリシステムは商業的に入手可能なユニツ
１〜であり、且つの実例は、米国ケンタツギイ州フロー
レンス市のバラフィンコーポレーシ」ン（Ｂ　ａｌｕｔ
’（Ｉ　ｎｃ）によってｌ！１８１造された［赤外線ス
ルー・ビームスイッチ（Ｉ　ｎｆｒａ　−Ｒｅｄ　　Ｔ
　ｈｒｕ−Ｂｅａｍ　３ｕｉｔｃｈ　）　Ｊの商標名で
販売され−Ｕいる。

ヒンリーシスデ１３の目的は基体の下方端がなべ及びそ
の中に保持された装填に接近するとぎを決定することで
ある。センサの他の目的及びそれ等の２対を有している
理由は、クランプ２４内に保持された基体が、基体の端
が正しくくほみ８４内に入っていないような、斜めの位
置にあるかどうかを決定することである。このような状
態が検出されれば、その基体に対するコーティング操作
は失敗し、そしてその特定の基体は作業者によって再位
置づけのために棚２２へ戻される。基体が垂直キャリッ
ジｉ　ｉ　ｏ−１＝のクランプの１ｑ方連動の際浸ｉｔ
ｉなべにＷづくに従って基体の上方端がセンリシステム
１４７を活動化する。この点において１コンビコータ７
８（第１５図）は、基体の端が浸漬なべの底部から１Ｆ
しい距離に保たれるのを保間し、且つ高真空が吸上げ操
作のために基体上にかけられる点を調節Ｊ−るクランプ
のそれ以上の運動の制御を引き受ける。

且つのセンリシステム１４７は基体が存在しているか、
又は浸漬なべのｈに動いＣいるかどうかを決定するにう
になっていることはＪ」解されるであろう。即ち、基体
がト降するにつれＴ　、基体が源１４８から発生した信
号を中断し、従ってその信号は関連する検出器１５０に
よって受けとられない。しかしなか、２つの協！！ｌＩ
？ン１ノシステムは基体が正しく方向づけられているか
どうかを決定する必要がある。特に、２つのシステムは
谷々の検出器によって発せられ、且つ受けとられる信号
が互に横切り、並びに基体の径路を横切るように位置づ
けされている（第１２図）。このｈ法では、双方の源１
４８からそれ等の関連する検出器１５０への信号が同時
に妨げられれば、コンビコータ７８はそれを通知され、
そして基体が正しく方向づけられていることを指示する
。しかしながら、信号が例えば１００ミリ秒又はそれ以
上の詩間差をもって順次妨げられれば、コンピュータは
基体がくほみ８４内に収容する方向に正しく方向づ゛番
ノされていないことを意味していると理解する。その場
合には、コンピュータは適切な警報、多分可聴の、多分
制御板２８上の光の如ぎ可視の警報を発し、そしてシス
テム２０の作動を問題が修正されるまで休止せしめる。

この２つの廿ン号システムは諒１４８又は検出器１５０
が偶然にスラリーをはねかけられ、ｕつコー１〜された
場合にも同様の様式で・作動して、これによってシステ
ムの機能を妨げる。

システム２０のための制御＋Ｊ１システ１１ま一ル−ム
構造６４の前部に適切に取付けらｎｔご制胛盤２８−ト
のスター１〜ボタン２６と、コンピュータフ８〈第１５
）図）と、廿ンリシステム１４１（第１２図）と、１４
５及び以上にシステｌ＼２０の作動説明中に提供される
べき他のものを含ん−ｒ＆）る多数のりミツ１ヘスイツ
チとを具備してＵＸる。］コンビ−タフ８の且つの実例
は米国オハイオ州ノ＼イランドハイツの７レン・ブラツ
ドレイ力ンノベニイ（Ａｌｌｅｎ−Ｂｒａｄｌｅｙ　　
Ｃ，ｏｍｐａｎｙ）によつＵＩミニ・ビーエルシー（Ｍ
　１ｎｉ−）〕ｌ−Ｃ）　Ｊの商標名で販売されている
モデル２／１５であることができ、これは実際に、中央
処理装置（ｃｐｔ＋＞叉はシステム２０の頭脳として作
用する。コンビ−１−夕７８はシステ１１の神々の作動
段階に関（〕Ｃリミットスイッチ、し？フサシステム１
４及び目−ド廿ルア（）から情報を受けとり、そ（）Ｃ
適正な、継続的り法Ｃ１Ｊ−／’システムの各々を作動
するためにＩ１０インターフェース１５）８を経て適切
な８令を提供する。

システム２０の構造を開示したので、その作動について
説明する。

最初に、作業者は］−１・されるべき基体を棚２２上の
クランプ２／Ｉの最下端に置にとによって基体クシンプ
２４内に手で装填する。次に作業者は同時に多数の作動
を生ぜ（〕めるスタートボタンを押す。低い真空が初め
にライン１４２を経Ｃ輿空コーン３２に加えられる。同
時に、スラリー泪量′ＩＪＪシステム４８が浸漬なべ３
０内へのスラリー装填量を古１量する。更に、突起１３
２がストップ部材１３４に対してしっかりと保持され、
これによって基体をその初期の方位に頼持し、且つしっ
かりと保持するように空気作動器１３０か付勢される。

また、加圧された空気が空気ライン１０４を経てガスケ
ット１０２を膨張するために導入され、このガスケツ１
−によってクランプ２４が基体をしっかりと保持し、且
つ支持する。

これ等の初期の作動が達成されることによって、垂直キ
１７リツジ１１０は棚２２の頂部から約０゜２５インチ
（６，４１１１ｍ＞離して基体の底部を上昇リーるため
に垂直親ねじ１２０十を上方に駆動されて、その次の水
平運動のための充分な間隙を提供する。キャリッジ１１
０に取付けられたリミットスイッチ１６０がキャリッジ
１０８（第３図〉に取付＋ｊられたカム１６１に係合す
ると、垂直右向の更にそれ以上の運動は停止されるが水
平の観ねじ１１４が水平キャリッジ１０８を水平に駆動
するために［Ｉ″ｉ１転し始めて水平キャリッジ゛１０
８を浸漬なべ３０にお（−〕るくばみ８４に整合して位
置つｌｔする。

フレームｍ透体６４く第３図）に適切に取付けられたリ
ミットスイッチ１６２は基体がその位置から棚２２Ｊ−
ｂをすぎて浸漬なべ、上方の位置に移動するように浸漬
なべ上方に基体を位置つけするために設けられている。

リミットスイッチ１６２は水平キャリッジ１０８の外表
面がキャリッジの最後の運動点においでスイッチに係合
するように水平キャリッジ１０８と整合されている。リ
ミットスイッチ１６２の作動は水平親ねじ１１４の（１
転を終らすのに役立っているばかりでなく、再ひ垂直親
ねじ１２０の回転を開始して、垂直キャリッジ１１０を
上方に移動し、そしてそれと共に、基体を支持している
クランプ２４を移動する。リミットスイッチ１６２の作
動はまた真空コーン３２の上方運動を開始する。モータ
がコンピュータ７８によって作動されで、真空コーンが
下降し始めるとき、前述の如く低い真空を発生する。真
空コーン及び基体を支持しているクランプの運動は、基
体の下方端が浸漬なべ内のスラリー内に入るとき、又は
僅がその前に、真空コーンが基体の上方端を密封して包
むように整合されている。これは基体がその最終位置に
達する前に基体を排気するのを助ける。

下方に動いている基体の上方端がセン１」システム１４
７の平面を通過し、そしてセン１ノシステムを作動する
と、浸漬なべ内への基体の下方端の更にそれ双手の運動
は、くぼみ８４の底部上の約０゜０４０インチ（約１．
０ＩｌｌＩ１１＞の位置にもたらされるまＣ１］ンビユ
ータ７８によって制御されるようになる。同時に、今述
べた如く、真空コーンは、それが基体の上方端を冨封し
て包むまで下降する。

基体がスラリー内に浸たされるに従つτ、真空コーン３
２に加えられている低い真空はスラリーを基体内に上方
に吸引するのに役立つ。スラリーを基体内部内に上方に
吸引するこの工程は時折スラリーの［装填（１ｏａｄｉ
ｒ＋ｇ　）　Ｊと呼ばれる。基体がその底部、即ち最終
位置に達した後約１　１／２７’Ｊ至２秒、即ち基体が
スラリー内に入った後約１／２秒、コンピュータは、モ
ータを作動して、前記の如く、高真空を発生して、この
高真空がライン１４２を経て真空コーン３２に加えられ
る。

発生されるべき高真空には約１秒かかり、そしにの作動
は充分長期間続けて、スラリーが基体の下方部分内に完
全に上方に吸引されるのを可能にする。２つのレベルの
真空を用いてスラリーを装填する目的は基体の内部通路
におけるコーティングスラリーの［スパイキング（ｓｐ
ｉｋｉｎｇ　）　Ｊを避けることである。スパイキング
というのはｈｌえられた初めの真空が高すぎるときに生
ずる巽常現象であり、従ってスラリーは基体の細胞内に
均等に上方に吸引されない。より詳細な説明は係属中の
米国特許出願第５９６，９９３号に提供されており、そ
れを参照されたい。

浸漬なべ３０内のすべてのスラリーが基体内に装填され
た後、垂直親ねじ１２０が再び作動して１垂直キャリッ
ジ１１０及びクランプ２４を上方に駆動し、そして浸漬
なべから離す。しかしながら、これが行なわれていると
きでも、真空コーン３２はクランプと係合され、且つ高
真空源に連結されつづけている。このようにして、空気
は基体を通って吸引され、これによって基体の■万端に
おいて丁度沈澱したスラリーを基体内に深く吸引し、そ
して基体の細胞すべてを均一にコー１−する。基板に対
するこの連続高真空の適用は［拡散（ａｐｒ−ｅａｄｉ
ｎ（１）　、１又は１−分布（ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏ
ｎ）　Ｊステップと呼ばれ、そして約３乃至４秒、実質
的にクランプが一時体＋ト（ｄｗｅｌｌ　＞位置に達す
るのに心残な期間続く。クランプ（まこの操作の間上記
に説明する如く基体の１！：！１転を許容し、且つ浸漬
なべ又は他の装置がその伺近において基体の最下方端中
への空気の流入防１Ｆを生ずるいかなる障害をも除くた
めに上昇される。同時に、基体の反対の端を通り装填さ
れるように定められたスラリーの第２の装填は浸漬なべ
３０のくぼみ８４内に分配され、且つ収容される。

１］ニツ１〜としてクランプ２４及び真空コーン３０の
上方への連動は硬直キャリッジ１１０上のリミットスイ
ッチ１６４がキャリッジ１０８上に固定されたカム１６
５に係合するときに終る。拡散又は分配ステップが完了
したどき、高真空作動の開始後約５乃金１０秒、コーン
３２はクランプの上方端から離脱し、そして前述の如く
コーン３２がリミットスイッチ１４５（第１図）を作動
し、且つそのボーム位Ｍ　（ｈｏｍｅ　ｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ　）において静止するまで一ト昇されつづける。真空
コーン３２がそのホーム位置に後退するとき、コンピュ
ータ７８がモータを不活動にし、これによって真空コー
ンにおける真空の存在を除去する。

この時点において、基体の両端はそれぞれ浸漬なべ３０
及び真空コーン３２から離れて、行なわれるべき次のス
テップ、即ち、基体の１８０度回転が可能である。回転
されたとき、基体の端は新しい方向に向けられ、前の下
方端が今の上方端となり、そして前の上方端が今の下方
端になる。クランプ２４及びその支持された基体は作動
器１３０によって新しい位置に移動され、且つ保持され
、突起１３２はストップ部材１３６に係合する。クラン
プは、コンピュータ７８がクランプに工程において後で
クランプの初期の位置に戻るように命令するまで、作動
器１３０によってその位置に保持されつづける。

今や基体のコートされ−Ｃいない端が浸漬なべ３０に十
降す−る位置にあり、］ンビュータ７８は内びシステム
の作動を引ぎ受けて、基体をくぼみ８４の方へトプフに
移動する１１次に基体の第１の端の！！！ｉ填に関して
前に説明した手順が第２の端Ｃも繰返えされる。基体の
この第２の端に苅する装填及び乾燥スデップの完Ｙ後、
クランプ２４は真空コーンこ３２と一結に再ひ浸漬なべ
３０上方のクランプの最１＝万位置にト昇され、そのト
ｈへの運動はリミツ１−スイッチ１６４のために丙び終
結される。その後、真空］−ン３２はクランプ２４から
離脱され、そしでリミッ１〜スイッチ１４５によって規
定された如く、そのホーム位置に戻る。

リミツ１〜スイッチ１６４はまた空気作動器１３０の作
動を生ゼしめＣクランプ２４を再び回転して、基体をそ
の元の位置に戻すのに役立つ。そこぐ、水平な親ねじ１
′１４が古び作動されＣ、クランプを浸漬なべ上方の位
置から棚２２上方の位置に移す。クランプ２４の水平運
動はキャリッジ１０８に適切に取（ｔ　ｔ−Ｊられたリ
ミッ（〜スイッチ１６６がフレーム構造６４に固定され
たカム１６７に係合するときに終結される。第３図及び
第４図参照。

更に、これは垂直な親ねじ１２０を作動してクランプ２
４及び、これとｊＬに、基体をト降するので、クランプ
２４の土万端はその初めの方位に関１〕で棚の方に戻さ
れる。これが行なわれるとき、キャリッジ１１０に取付
けられたリミッ１〜スイッチ１６８（第３図及び第１図
）が、システム２０及びすべてのそのサブシステムへの
電ツノの供給を停止トするのに役立つ−Ｃいるキリッジ
１１０に固定されたカム１７０に係合する。棚２２−ト
に収容された基体のド万端によつて、ガスケツｌ−１０
２への圧力が除去されて、ガスケツ１〜１０２を収縮可
能にし、そして基体との係合から引っ込む。それから作
業壱はコートシた基体をクランプから取外すことができ
、そして他のり一イクルの装填工程のためにコー１〜し
でいない基体を再びクラン−／内に入れる。単一の基体
のコーティングのための既述の如き全手碩は約３０乃至
４０秒の時間がかかる。

本発明の好ましい実施態様が詳細に開示されたが、明り
Ｉｌ書に説明され、且つ添付の特許請求の範囲に規定さ
れた如く、本発明の精神及び範囲から逸１］ｆａするこ
となく例示された実施態様に種々の変更か行ない得ると
当業名において理解されるべきである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の原理を具体化している製造システムの
斜視図ぐある； 第２図は第１図に例示されたシステムの１側部の側部立
面図である、 第３図は児易くするために１部分を切断している；第１
図に例示されたシステムの前部立面図である； 第４図は第２図の例示の反対側から見た製造システムの
側部立面図Ｃある； 第５図は第１図乃至第４図に例示された製造システムの
腕部平面図である； 第６図は本発明のスラリータンク及び循環ｉｊ−７シス
テムの概略的な流れ線図Ｃ′ある；第７図及び第８図は
スラリーｈ１ｍリブシステムの異なる実施態様を例示し
ている、概略的に示したいくつかの部分に関する詳細な
側部立面図Ｃある； 第９図は本発明の製造システムと共に利用されたスラリ
ー浸漬なべの頂部平面図である；第１０図は第９図のほ
ぼ１０〜１０線に沿って見たとぎの断面図である； 第１１図はコーティング工程中の基体ど真空］−ンの作
動的関係を例示している、い（つかの部分を切断し、断
面で示した、詳細な側部立体面図である； 第１２図は第９図及び第１０図の浸漬なべと、これに関
連しているレンリ装胃を例示しでいる詳細な頂部平面図
である； 第１３図は１８０度の円弧を通り基体を回転するための
基体クランプ及び同転インテックスアームを例示してい
る斜視図である； 第１４図は第１３図のけぼ１４−１４線に沿って見たど
ぎの断面図である；そして 第１ｂ図は本発明の原理を具体化している製造システム
を操作する制御システムの概略図である。 ２０・・・システム ２１・・・基体 ２２・・・棚 ２８・・・制御盤 ３　（）・・・　浸　？貞　な　べ ３２・・・内空コーン ３４・・・スラリータンク ３ｂ・・・循噸リブシステム ３６・・・ジャケラ１〜 １６・・・脈動ダンパー ４８・・・スラリー１吊（Ｊ−ｉシステム５５０・・・
袋 ５２・・・バランスアーム ６６・・・釣り合いおもり ７０・・・１−１−ドレル ７３・・・取り入れライン ７５△・・・空気ライン ７８・・・コンビコータ ８０・・・ｈ１闇ポンプ ８４・・・くぼみ ９２・・・インデックスアーム １０２・・・ガスケラ（へ １８０．１１Ｑ・・・キャリッジ １１８・・・リーボモータ １２６・・・レグメン１〜歯車 １３０・・・空気作動器 １３２・・・突　起 １３４・・・ストツヅ部材 １４７・・・レンリシステム １４８・・・信号光１源 １５０・・・検　出　器 特許出願人　■ンゲルハード・コーポレ−丁ｓＧ、（２
，。 −ＦＩＧ、５゜

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、所定量の触媒を中空基体の内表面に塗布する方法に
   おいて、 所定量の触媒スラリーを底部を有する浸漬なべのくぼみ
   内に導入すること； 第１の開口端及び第２の開口端と、コートされるべき内
   表面とを有している中空基体であって、第１の端が該浸
   漬なべのくぼみ内に収容され、そしてスラリー内に完全
   に浸たされるように該中空基体を下降すること； 該基体をその該第１の端が該浸漬なべ内のくぼみの底部
   上方の所定の距離のところに配置されるような高さに維
   持すること； 該浸漬なべ内に含まれるすべての該スラリーを、該基体
   の該内表面をコーティングするために、該基体内に上方
   に吸引するように真空を源から該基体の該第２の端に加
   えること； 該スラリーのすべてが該浸漬なべから、該基体内に吸引
   された後該基体上に形成されたコーティングを乾燥する
   ために該基体の該第２の端に所定の時間期間の間真空を
   加えつづけること； とを特徴とする方法。 ２、該基体の端が、それぞれ、該浸漬なべ及び真空源を
   離れるような一時休止高さまで該基体を上昇すること； 該基体をその該第１の端及び該第２の端の相対的位置が
   逆になるように回転すること； 再び所定量のスラリーを該浸漬なべのくぼみ内に導入す
   ること； 該第２の端が該浸漬なべのくぼみ内に収容され、そして
   該スラリー内に浸たされること； 該基体をその該第１の端が該浸漬なべ内の該くぼみの底
   部上方の所定の距離のところに配置されるような高さに
   維持すること； 該浸漬なべ内のすべてのスラリーを該基体の内表面をコ
   ーティングするために該基体内に上方に吸引するように
   真空を源から該基体の該第１の端に加えること； 該スラリーのすべてが該浸漬なべから該基体内に吸引さ
   れた後該基体上に形成されたコーティングを乾燥するた
   めに該基体の該第２の端に所定の時間期間の間真空を加
   えつづけること、 の追加のステップを含んでいる特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 ３、該真空の該源を該基体の該第２の端から引っ込める
   こと； 該基体の端が、それぞれ、該浸漬なべ及び該真空の源か
   ら離れるように該基体を一時休止高さまで再び上昇する
   こと； 該基体の該第１の端及び該第２の端をそれ等の初めの相
   対的方位に戻すために該基体を回転すること、 の追加のステップを含んでいる特許請求の範囲第２項記
   載の方法。 ４、所定量の触媒を中空基体の内表面に塗布する方法に
   おいて、 所定量の触媒スラリーを底部を有する浸漬なべのくぼみ
   内に導入すること； 第１の開口端及び第２の開口端と、コートされるべき内
   表面とをを有している中空基体であって、第１の端が該
   浸漬なべのくぼみ内に収容され、そしてスラリー内に完
   全に浸たされるように該中空基体を下降すること； 該基体をその該第１の端が該浸漬なべ内のくぼみの底部
   上方の所定の距離のところに配置されるような高さに維
   持すること； 該浸漬なべ内に含まれるすべてのスラリーを該基体の内
   表面にコーティングするために該基体内に上方に吸引す
   るように低い初期の真空及び次に高真空を源から該基体
   の第２の端に加えること；そして 該スラリーのすべてが該浸漬なべから該基体内に吸引さ
   れた後該基体上に形成されたコーティングを乾燥するた
   めに該基体の該第２の端に所定の時間期間の間高真空を
   加えつづけること； のステップを含むことを特徴とする方法。 ５、所定量の触媒を中空基体の内表面に塗布する方法に
   おいて： 第１の開口端及び第２の開口端と、コートされるべき内
   表面とを有している中空基体であって、該第１の端が、
   浸漬なべのくぼみ内に導入された触媒スラリー内に該第
   １の端を完全に浸すために該浸漬なべ内に収容するよう
   になっている該浸漬なべのくぼみの方に前進するように
   、該中空基体を初期の位置から移すこと； 該基体の該第１の端が該くぼみの上方に位置づけされた
   平面を通過し、且つ該基体の走行路を横切るときに、該
   浸漬なべに対する該基体の方位を検知すること； 該基体が該第１の端を該スラリー内に浸漬するために正
   しく該くぼみ内に入れることができないように方向づけ
   された場合に、該浸漬なべの該くぼみの方への該基体の
   移動を妨げること；そして該浸漬なべのくぼみの方への
   該基体の移動を中断後該基体を初期の位置に戻すこと； のステップを含むことを特徴とする方法。 ６、所定量の触媒を中空基体の内表面に塗布する方法に
   おいて： 所定量の触媒スラリーを底部を有する浸漬なべのくぼみ
   内に導入すること； 第１の開口端及び第２の開口端と、コートされるべき内
   表面とを有している中空基体であって、該第１の端が、
   触媒スラリー内に該第１の端を完全に浸たすために該第
   １の端を浸漬なべ内に収容するようになっている該浸漬
   なべのくぼみの方に前進するように該中空基体を初期の
   位置から移すこと； 該基体の該第１の端が該くぼみ上方に位置づけされた平
   面を通過し、且つ該基体の走行路を横切って置かれてい
   るときに、該基体の存在を検知すること； 該基体の該第１の端が該くぼみの底部上方の所定の距離
   の作動位置に達し、且つ該触媒スラリー内に完全に浸た
   されたときに該基体の運動を終ること； のステップを含むことを特徴とする方法。 ７、所定量の触媒を中空基体の内表面に塗布する方法に
   おいて； 第１の所定量の触媒スラリーを浸漬なべのくぼみ内に導
   入すること； 第１の開口端及び第２の開口端と、コートされるべき内
   表面とを有している中空基体であって、該第１の端が該
   浸漬なべのくぼみ内に収容され、且つ該スラリー内に完
   全に浸たされるように該中空基体を下降すること； 該浸漬なべ内に含まれている該スラリーのすべてを該基
   体の該内表面コーティングするために該第１の端を通り
   該基体内に上方に吸引するように真空を該基体の該第２
   の端に加えること； 該真空源を該基体の該第２の端から引っ込めること； 該基体の端が、それぞれ、該浸漬なべ及び該真空源から
   離れるような一時休止高さまで該基体を上昇すること； 該基体を該基体の第１の端及び第２の端の相対的位置を
   逆にするように回転すること； 第２の所定量のスラリーを該浸漬なべの該くぼみ内に導
   入すること； 該基体の該第２の端が該浸漬なべの該くぼみ内に収容さ
   れ、且つ該スラリー内に完全に浸たされるように該基体
   を下降すること； 該浸漬なべ内に含まれている該スラリーのすべてを該基
   体の内表面にコーティングするために該第２の端を通り
   該基体内に上方に吸引するように該基体の該第１の端に
   真空を加えること； のステップを含むことを特徴とする方法。 ８、所定量の触媒スラリーを中空基体の内表面にコーテ
   ィングするのに使用するための浸漬なべ内に導入する方
   法において： 貯蔵器から袋手段内に該スラリーの流れを生ぜしめるこ
   と； 該スラリーが該袋手段内に収容されるとき、該袋手段を
   連続的に計量すること； 該袋手段内の該スラリーの重量が所定の量に達するとき
   該袋手段内への該スラリーの流れを終ること； 次に該袋手段内のすべての該スラリーを解放して、そし
   て該スラリーを該基体の内表面にコーティングするため
   に用意された該浸漬なべ内に流入せしめること； のステップを含むことを特徴とする方法。 ９、所定量の触媒スラリーを中空基体の内表面にコーテ
   ィングするのに使用するための浸漬なべ内に導入する方
   法において： 貯蔵器から袋手段内に該スラリーの流れを生ぜしめるこ
   と； 該袋手段内の該スラリーの容積が所定の量に達するとき
   該袋手段内への該スラリーの流れを終ること；そして 次に該袋手段内のすべての該スラリーを解放し、そして
   該スラリーを該基体の内表面にコーティングするために
   用意された該浸漬なべ内に流入せしめること； のステップを含むことを特徴とする方法。 １０、該触媒スラリーを該浸漬なべの該くぼみ内に導入
   するステップにおいて必要とする所定量が該スラリーの
   所定容積である特許請求の範囲第１項記載の方法。 １１、該触媒スラリーを該浸漬なべの該くぼみ内に導入
   するステップにおいて必要とする所定量が該スラリーの
   所定重量である特許請求の範囲第１項記載の方法。 １２、所定量の触媒を中空基体の内表面に塗布する方法
   において： コートされるべき基体を、該基体を確実に係合し、且つ
   支持するように選択的に作動可能なクランプの範囲内の
   プラットフォーム上に置くこと； 該基体を確実に係合し、且つ支持するために該クランプ
   を作動すること； 該プラットフォーム上の該クランプ及び支持された該基
   体を第１の一時休止位置へ上昇すること；該クランプ及
   び支持された該基体を、真空コーン及び触媒スラリーを
   収容するためのくぼみをその中に有している浸漬なべに
   垂直方向に整合しており、且つ該真空コーンと該浸漬な
   べとの間にある第２の一時休止位置に移すこと； 所定量の該触媒スラリーを該浸漬なべの該くぼみ内に導
   入すること； 該支持された基体の第１の端が該浸漬なべの該くぼみ内
   に収容されるように該クランプを下降すること； 該基体の該第１の端が該くぼみ上方に位置づけされた平
   面を通過し、且つ該基体の走行路を横切って置かれてい
   るときに該基体の存在を検知すること； 該基体の該第１の端が該くぼみの底部上方の所定の距離
   にある作動位置に達し、且つ該触媒スラリー内に浸たさ
   れているときに該クランプの運動を終ること； 該クランプの下降ステップと同時に、該第１の端が該作
   動位置にあるとき、該基体の該第１の端の反対の該基体
   の第２の端と密封係合するように該真空コーンを下降す
   ること； 該くぼみ内の該触媒スラリーを該第１の端に最も近い該
   基体の該内表面にコートするために該基体の該第１の端
   内に完全に吸引するように真空を該真空コーンに加える
   こと； 該クランプ、該基体、及び該真空コーンを１つのユニッ
   トとして第２の一時休止位置へ上昇している間、所定の
   期間の間該真空コーンに真空を加え続けること、 但し該第２の一時休止位置において該第１の端は該浸漬
   なべによる障害から離れ、これによって該基体の該内表
   面上の該触媒スラリーの該コーティングを乾燥する； 該真空コーンへの真空を加えるのを切ること； 該真空コーンを該クランプ及び該基体から離れた後退位
   置に引っ込めること； 該基体の該第１の端及び該第２の端のそれぞれの位置に
   移すように該クランプを軸線の周りに回転すること； 再び所定量の触媒スラリーを該浸漬なべの該くぼみ内に
   導入すること； 該基体の該第２の端が該浸漬なべの該くぼみ内に収容さ
   れるように該クランプを下降すること；該基体の該第２
   の端が該くぼみ上方に位置づけされた平面を通過し、且
   つ該基体の走行路を横切るとき該基体の存在を検知する
   こと； 該基体の該第２の端が該基体の底部上方の所定の距離に
   ある作動位置に達し、且つ該触媒スラリー内に完全に浸
   されるとき該クランプの運動を終ること； 該クランプを小降するステップと同時に、該第２の端が
   作動位置にあるとき該基体の該第１の端と密封係合して
   該真空コーンを再び下降すること； 該くぼみ内の該触媒スラリーを該第２の端に最も近い該
   基体の内表面にコートするために該基体の該第２の端内
   に完全に吸引するように真空を該真空コーンに加えるこ
   と； 該クランプ、該基体、及び該真空コーンを１ユニットと
   して第２の一時休止位置に上昇し、これによって該基体
   の該内表面上の該触媒スラリーのコーティングを乾燥す
   る間、真空を所定の期間の間該真空コーンに加え続ける
   こと； 該真空コーンに真空を加えるのを切ること； 該クランプ及び該基体から離れた後退位置に該真空コー
   ンを引っ込めること； 該基体の該第１の端及び該第２の端のそれぞれの位置を
   移すように該クランプを軸線の周りに再び回転すること
   ； 該クランプ及び支持された該基体を該第１の一時休止位
   置へ戻すために移動すること； 該第１の端が再び該プラットフォーム上に静置されるよ
   うに該クランプを下降すること； 該クランプを該基体から離脱すること； のステップを含むことを特徴とする方法。 １３、所定量の触媒を中空基体の内表面に塗布する装置
   において： 対向して開いている第１の端及び第２の端を有している
   中空基体を確実に係合し、且つ支持するクランプ手段と
   、 底部を備えており、所定量の触媒スラリーをその中に保
   持するため、且つ該基体の端をその中に収容するように
   なっているくぼみを有している浸漬なべと； 該浸漬なべの該くぼみに整合したほぼ直立の路に沿って
   、該クランプ手段を上下に動かすための第１の駆動手段
   と；そして 該直立の路に沿って該第１の駆動手段の運動を制御し、
   且つ該クランプ及び支持された該基体が該直立の路に沿
   って下方に動かされるとき該基体が該浸漬なべに接近す
   るに従って該基体の第１の端の存在検出するための検出
   手段を含んでいる制御手段とを具備しており、 該制御手段は該基体の該第１の端が該スラリー内に完全
   に浸たされ、且つ該浸漬なべの底部上方の所定の距離に
   位置づけされた位置に達するとき該第１の駆動手段の下
   方への運動を終るように作動可能である ことを特徴とする装置。 １４、真空コーンと、該真空コーンを真空源に作動的に
   連結している導管とを含んでおり、該真空コーンが該基
   体の該第２の端から離れた後退位置と、該基体の該第１
   の端が該スラリー内に浸たされたとき該基体の第２の端
   を密封式に包むための伸長した位置との間を可動な開放
   端を有している特許請求の範囲第１３項記載の装置。 １５、該真空コーンが該基体の該第２の端を密封式に包
   むために該クランプに係合可能であり、且つ該真空コー
   ン及び該クランプが係合されたとき該真空コーンと該ク
   ランプとの間のインターフエースを有効に密封するため
   の密封手段を含んでいる特許請求の範囲第１４項記載の
   装置。 １６、該真空コーンが鐘状であり、且つリムで終ってお
   り、該密封手段が該リムに取付けられており、且つ該ク
   ランプに係合する連続するガスケットであり、これによ
   って広範囲の該基体の大きさに適応されることができる
   特許請求の範囲第１５項記載の装置。 １７、該真空コーンを該後退した位置と該伸長した位置
   との間に動かすための第２の駆動手段を含んでおり、該
   制御手段は、該クランプ上の該基体が該浸漬なべ内のス
   ラリー内に入ると実質的に同時に該真空コーンが該基体
   の該第２の端を密封式に包むように、該第１の駆動手段
   及び該第２の駆動手段を作動するのに効力がある特許請
   求の範囲第１４項記載の装置。 １８、該真空源が低レベルの真空及び高レベルの真空に
   おいて選択的に交互に作動可能であり、そして該制御手
   段は、該真空コーンが初期において最初に該基体を密封
   式に包む時に該低レベルで、そして該真空コーンが所定
   時間期間の間該基体を密封式に包んだ後該高レベルに該
   源を作動するのに効力がある特許請求の範囲第１４項記
   載の装置。 １９、該制御手段は、該真空コーンが初期において該基
   体を密封式に包むとき該真空コーンに低真空を選択的に
   加えるために作動可能であり、それから該真空コーンが
   所定の時間期間の間該基体を密封式に包んだ後該真空コ
   ーンに高真空を加えるために作動可能であり、そして該
   真空コーンが該基体から引っ込んだとき該真空コーンへ
   該高真空を加えるのを妨げるために作動可能である特許
   請求の範囲第１８項記載の装置。 ２０、該制御装置は、該所定の時間期間の間該基体を密
   封式に包んだ後該真空コーンに高真空を選択的に加える
   ために作動可能であり、且つ該真空コーンが該基体から
   引っ込んだとき該真空コーンに該高真空を加えるのを終
   結するために作動可能である特許請求の範囲第１８項記
   載の装置。 ２１、該制御装置は、該真空コーンがなお該基体の該第
   ２の端を密封式に包んでいる間該クランプ及び該真空コ
   ーンを１つのユニットとして一時休止位置に動かして、
   該基体が該浸漬なべから離れるように作動可能であり、
   そして他の所定時間期間の経過後該第２の駆動手段を作
   動して該真空コーンを該基体の該第２の端から引っ込め
   、且つ該真空コーンを後退位置に動かすために作動可能
   である特許請求の範囲第２０項記載の装置。 ２２、該制御手段は、該基体の端が該後退位置において
   該真空コーン及び該浸漬なべから離れるように該クラン
   プを一時休止高さに動かすために作動可能であり、且つ
   該クランプを回転するための手段を含んでいて、これに
   よって該基体の該第１の端及び該第２の端の相対的位を
   逆にし、該制御手段は該クランプが該一時休止高さに達
   するとき該クランプを回転するために作動可能である特
   許請求の範囲第２１項記載の装置。 ２３、該真空源が速度の関数として広範囲の真空を発生
   するために広範囲の速度に亘って運転可能な真空ポンプ
   と、該真空ポンプを駆動するための可変速モータとを含
   んでおり、これによって低速度における該モータの運転
   が該真空ポンプに低真空を発生せしめ、そして高速度に
   おける該モータの運転が該真空ポンプに高真空を発生せ
   しめる特許請求の範囲第１８項記載の装置。 ２４、所定量の触媒を対向して開いた第１の端と第２の
   端とを有している中空基体に塗布する装置において： 該中空基体に確実に係合し、且つ保持するクランプ手段
   と； 所定量の触媒スラリーをその中に保持するための底部を
   備えたくぼみを有しており、且つ該スラリー内に浸たす
   ための該基体の端をその中に収容するようになっている
   浸漬なべと； 該浸漬なべの該くぼみに整合したほぼ直立の路に沿って
   該クランプ手段を上下に動かすための第１の駆動手段と
   ； 該直立の路に沿って該第１の駆動手段の運動を制御し、
   且つ該基体の端が該くぼみ上方に位置づけされた平面を
   通り下方に通過し、且つ該基体の走行路を横切るとき該
   浸漬なべに対する該基体の存在及び方位を検知するため
   の検知手段を含んでいる制御手段とを具備しており、 該基体の方位が該基体の端が該浸漬なべの該くぼみ内に
   正しく収容されるのを保証されるようなときに、該制御
   手段は該クランプの連続運動を許容するように作動可能
   であり、該制御手段は該基体の端が該くぼみの底部の上
   方の所定の距離にある作動位置に達し、且つ該スラリー
   内に完全に浸たされたとき、該制御手段は該第１の駆動
   手段の作動、従って該基体の下方への運動を終結するた
   めに作動可能であることを特徴とする装置。 ２５、該基体の方位が、該基体が該スラリー内に浸たす
   ために該浸漬なべの該くぼみ内に正しく収容されないよ
   うなとき、該制御手段は該クランプを該浸漬なべの方に
   下方に動かす該第１の駆動手段の作動を妨げる特許請求
   の範囲第２４項記載の装置。 ２６、該検知手段が少くとも１つの信号発生源と、該源
   から間隔をへだてた少くとも１つの関連した検出器とを
   含んでおり、且つ該直立の路が該源と該検出器との中間
   にあるように位置づけされており、該源と該検出器との
   間の該基体の通路が該源からの信号を妨げるのに有効で
   あり、これによって該基体の存在を指示する特許請求の
   範囲第２４項記載の装置。 ２７、該検知手段が第１及び第２の信号発生源と、そこ
   から間隔をへだてた第１及び第２の関連した第１及び第
   ２の検出器とを含んでいて、該検知手段の各々によって
   発生され、且つ受けとられた信号が互に、且つ該直立の
   路に交差するようになっており、該検知手段は該直立の
   路が該源及び検出器の各々の中間にあり、基体の通路が
   該源の各々からの信号を同時に妨げるのに有効であり、
   これによって該基体の存在を指示し、且つ該源の各々か
   らの信号を順次に妨げるのに有効であってこれによって
   該基体の不適正な方位を指示する特許請求の範囲第２４
   項記載の装置。 ２８、該浸漬なべからへだてられており、且つ基体をそ
   の上に支持的に収容するようになっている棚と；そして 該クランプを該棚に整合した位置と、該浸漬なべに整合
   した位置との間に横に移動するために該制御手段によっ
   て作動可能な第３の駆動手段とを含んでおり、 該制御手段が、シーケンスで、該第１の駆動手段によっ
   て該クランプを該浸漬なべの上方にあり、且つそこから
   へだてられた一時休止位置へ上方に動かし、それから第
   ３の駆動手段によって該クランプを該棚に整合した該位
   置へ横に移動し、次に該第１の駆動手段によって該基体
   を該棚上に置くために該クランプを下方に移動する特許
   請求の範囲第２５項に記載の装置。 ２９、所定量の触媒を対向する開放端を有している中空
   基体の内表面に塗布する装置において、所定量の触媒ス
   ラリーをその中に保持するために底部及び側部を備えた
   くぼみを有している浸漬なべと； 該浸漬なべからへだてた位置における該触媒スラリーを
   入れるための貯蔵器と； 該触媒スラリーを該貯蔵器から該浸漬なべに導くための
   該貯蔵器と該浸漬なべとの間に延びている導管手段と、
   そして該触媒スラリーの流れを該貯蔵器から該浸漬なべ
   に生ぜしめるために選択的に作動可能である排出手段と
   を具備することを特徴とする装置。 ３０、該排出手段が所定容積の触媒スラリーを該浸漬な
   べに排出するために調整可能な計量ポンプを含んでいる
   特許請求の範囲第２９項記載の装置。 ３１、該排出手段が所定重量の触媒スラリーを該浸漬な
   べに選択的に排出するために袋状手段を含んでいる特許
   請求の範囲第３０項記載の装置。 ３２、所定のシーケンス及びタイミングに従って該装置
   の複数の機能を作動するための制御手段を含んでおり、
   該排出手段が： 最終的に該浸漬なべ内に導入するために、該触媒スラリ
   ーの装填量をその中に収容するようになっている袋と； 該袋内への該スラリーの流れを制御するための第１の常
   時閉ソレノイド弁と； 但し該第１のソレノイド弁は該袋内への該スラリーの流
   れを可能にするために所定の時間期間の間開放位置に動
   かすように該制御手段によって作動可能である； 該袋内にスラリー量を計量し、且つ該制御手段に該袋内
   の該触媒スラリーの重量を表わす信号を連続的に発生し
   、且つ伝えるための信号手段を含んでいる測定手段と；
   そして 該袋から及び該浸漬なべ内への該スラリーの流れを制御
   するための第２の常時閉ソレノイド弁とを具備しており
   、 該第２のソレノイド弁は、該袋内の該スラリー量が所定
   の重量に達するとき、開放位置に動かし、これによって
   該袋から該浸漬なベへの該スラリーの流れを許容するよ
   うに該制御手段に応答することを特徴とする装置。 ３３、該測定手段がプラットフォームを含んでおり、そ
   の上に受けとった負荷を表わす信号を発生し、そして該
   排出手段が該袋を支持するためのハウジングを含んでお
   り、該プラットフォームがその上に該ハウジングを収容
   するようになっている特許請求の範囲第３２項記載の装
   置。 ３４、該排出手段が： 該触媒スラリーの装填量を最後に該浸漬なべに導入する
   ためにその中に収容するようになっている袋と； 所定のシーケンス及びタイミングに従つて該装置の複数
   の機能を作動するための制御手段と；ベース部材及びそ
   れを通り延びている穴を有しているハウジングと、該ハ
   ウジング内のロードセルと、該ベース部材に対する制限
   された運動のために該ロードセルに取付けられている弾
   性手段と、該穴を通り延びており、且つ１端を該ロード
   セルにそして他端を該袋に固定された実質的に垂直に配
   置された接合棒と、該穴内にあり該ベース部材上にあっ
   て該ベース部材に対して該接合棒の軸線方向の運動を許
   容している保持手段と含んでいる該袋のための支持手段
   と； 但し該ロードセルは該袋内の該スラリーの重量に応答し
   、且つ該袋内の該スラリーの重量を表わす信号を該制御
   手段に連続的に発生し、伝えるための信号手段を含んで
   いる、 該袋内への該スラリーの流れを制御するための第１の常
   時閉ソレノイド弁とを具備しており、該第１のソレノイ
   ド弁が該袋内へ該スラリーの流れを可能にするために該
   制御手段によって開放位置に動くように作動可能であり
   、且つ該袋内の該スラリーが所定の重量に達したとき該
   袋内えの該スラリーの流れをストップするために該制御
   手段に応答して閉じた位置に動くように作動可能である
   特許請求の範囲第２９項記載の装置。 ３５、該排出手段が： 最後に該浸漬なべ内に導入するために、該貯蔵器から該
   触媒スラリーの正確な装填量をその中に収容するように
   なっている袋と； 所定のシーケンス及びタイミングに従って該装置の複数
   の機能を作動するための制御手段と；上方に向けられた
   固定ナイフエッジと、第１及び第２の反対の端を有して
   おり該端の中間の該ナイフエッジ上に旋回可能に取付け
   られている細長いバランスアームと、該第１の端に隣接
   し、且つ該袋をその上に取付けるための該袋上の相互に
   係合する手段と； 該袋の空重量を相殺するために該バランスアームの該第
   ２の端をバイアスする釣り合いおもりと； 該スラリーが該袋内に導入されるとき該スラリーの重量
   を検出するために該バランスアームの該第２の端に係合
   可能であり、且つ該袋内の該スラリーの重量を表わす信
   号を該制御手段に連続的に発生し、且つ伝えるための信
   号手段を含んでいるロードセルと； 該袋内への該スラリーの流れを制御するための第１の常
   時閉供給弁とを具備しており、 該第１の供給弁が該袋内に該スラリーの流れを可能にす
   るために該制御手段によって開放位置に動くように作動
   可能であり、且つ該袋内の該スラリーが該ロードセルに
   よって検出された如く所定の重量に達したとき該袋内へ
   の該スラリーの流れをストップするために、該制御手段
   に応答して閉じた位置に動くように作動可能である特許
   請求の範囲第２９項記載の装置。 ３６、該釣り合いおもり手段が該第２の端に取外し可能
   に取付けられた少くとも１つの釣り合い重りを含んでい
   る特許請求の範囲第３５項記載の装置。 ３７、該袋の重心とナイフエッジとの間の直線距離が該
   ナイフエッジと該ロードセルが該バランスアームの該第
   ２の端に係合する位置との間の直線距離よりもより大き
   い特許請求の範囲第３５項記載の装置。 ３８、該袋が上部端と、該上部端に連結された該スラリ
   のための取り入れラインとを含み、該第１の供給弁が該
   貯蔵器から該取り入れラインを経て該袋内えの該スラリ
   ーの流れを制御するために作動可能であり、そして該袋
   が下方端と、該下方端に取付けられており、該浸漬なべ
   え該スラリーの流れを導くための出口ラインとを有して
   おり；該制御手段からの信号により該袋からの該スラリ
   ーの流れを制御するために該出口ライン内に第２の常時
   閉供給弁を含んでいる 特許請求の範囲第３５項記載の装置。 ３９、該相互に係合する手段が該第１の端に隣接する規
   定された凹部と、該袋上に取付けられ、且つその表面か
   ら間隔をへだてた拡大した部分を備えたファスナーとを
   有しており、該拡大した部分が該凹部内に係合可能に収
   容されており、これによって該袋を該バランスアームか
   ら懸垂している特許請求の範囲第３５項記載の装置。 ４０、該ファスナーが該袋にねじ係合されているねじで
   あり、該ねじが該凹部内に係合可能に収容されるヘッド
   を有していて、これによって該袋を該バランスアームか
   ら懸垂している特許請求の範囲第３９項記載の装置。 ４１、該袋は、該ファスナーが取付けられている頂部端
   と、下方端とを有しており、該支持手段が該バランスア
   ームに取付けられており、且つ該第１の端に隣接し該バ
   ランスアームから下がっているブラケットと、該第１の
   端から離れて該ブラケットに固定されており、且つその
   上に該下方端をルーズに支持して収容するようになって
   いる支持リングとを含んでいる特許請求の範囲第３９項
   記載の装置。 ４２、該貯蔵器がタンクであり、該タンクが底部を含み
   、且つ該導管手段に連結された該底部内に出口を有して
   おり、該底部が該出口の方向に傾斜していて、該スラリ
   ーの流れを該導管手段の方に導いている特許請求の範囲
   第２９項記載の装置。 ４３、該浸漬なべ、該貯蔵器及び該誘導手段が実質的に
   非湿潤材料で契約されている特許請求の範囲第２９項記
   載の装置。 ４４、該貯蔵器がその中に収容された該スラリーの温度
   を制御するための流体を収容する冷却ジャケットを含ん
   でいる特許請求の範囲第２９項記載の装置。 ４５、該触媒スラリー内の固形物の均一な懸濁を維持す
   るために該貯蔵器内に攪拌器を含んでいる特許請求の範
   囲第２９項記載の装置。 ４６、所定量の触媒を中空基体の内表面に塗布する装置
   において： 対向して開いた第１の端と第２の端を有している中空基
   体をしっかりと係合し、且つ支持しているクランプ手段
   と； 所定量の触媒スラリーをその中に保持するための底部を
   備えたくぼみを有しており、且つ該基体の端をその中に
   収容するようになっている浸漬なベと； 該浸漬なべの該くぼみに整合したほぼ直立の路に沿って
   該クランプを上下に動かすための駆動手段と； 該基体の該第１の端が該スラリー内に完全に浸たされる
   ように該駆動手段が該基体を前進したときに真空を該基
   体の該第２の端に加えるため、且つ該基体の該第２の端
   が該スラリー内に完全に浸漬されるように該駆動手段が
   該基体を前進したとき真空を該基体の該第１の端に加え
   るための真空手段と； 該クランプ手段を回転して、これによって該基体の該第
   １の端及び第２の端の相対的位置を逆にするためのイン
   デクス手段と を具備することを特徴とする装置。 ４７、該クランプ手段が貫通して延びている基体を収容
   する開口を有している本体と、該本体に密封式に取付け
   られており、且つ該開口を囲んでいる膨張可能なガスケ
   ット部材と、該開口を通り延びている基体に係合するた
   めに加圧ガスを該ガスケット内に選択的に導入するため
   の金員とを含んでおり；そして 該インデックス手段が、該駆動手段上に固定されており
   、且つほぼ該浸漬なべの方向にそこから上方に延びてい
   る回転インデックスと、該クランプ手段と一体であり、
   そして該浸漬なべ上方に該クランプ手段を位置づけする
   ための該インデックスアームに回転可能に取付けられて
   いて、且つ該クランプ手段によって支持された該基体の
   該第１の端が該浸漬なべの該くぼみ内に収容可能である
   １方の位置と、該基体の該第２の端が該浸漬なべの該く
   ぼみ内に収容可能である他の位置との間で回転可能であ
   る延長部材と； 該延長部材の該１方の位置及び該他方の位置を規定する
   ための、それぞれ、該インデック上の、及び該延長部材
   上の制限手段と；そして 該制限手段によって規定された該位置間に該クランプ手
   段を回転するために該インデックスアーム上に取付けら
   れた作動手段とを含む特許請求の範囲第４６項記載の装
   置。 ４８、該延長部材が円筒状であり、そして該制限手段が
   そこから半径方向外方に延びている突起と、該延長部材
   のいづれかの側に対して直径方向に対向した位置におい
   て該インデックスアームに固定された１対のストップ部
   材とを含んでおり、該突起が該クランプ手段の該１方の
   位置を規定するために該ストップ部材の１方と係合可能
   であり、そして該クランプ手段の該他方の位置を規定す
   るために該ストップ部材の他方に係合する特許請求の範
   囲第４７項に記載の装置。 ４９、該クランプ手段が貫通して延びている基体を収容
   する開口を有している本体と、該基体に解放可能に係合
   する手段とを含み；そして 該インデックス手段が該駆動手段上に固定されており、
   且つ該浸漬なべの方向にそこから外方に延びている回転
   インデックスアームと、該クランプ手段と一体であり、
   そして該浸漬なべ上方に該クランプ手段を位置ずけする
   ために該インデックスアーム上に回転可能に取付けられ
   ており、且つ該クランプ手段によって支持された基体の
   該第１の端が該浸漬なべの該くぼみ内に収容可能である
   １方の位置と該基体の第２の端が該浸漬なべの該くぼみ
   内に収容可能である他方の位置との間に回転可能である
   延長部材と； 該延長部材の該１方の位置及び該他方の位を規定するた
   めに、それぞれ、該インデックスアーム上及び該延長部
   材上の制限手段と；そして 該制限手段によって規定された該位置間に該クランプ手
   段を回転するために該インデックスアーム上に取付けら
   れている作動手段とを含む特許請求の範囲第４６項記載
   の装置。