JPS61230606A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、磁気ヘッドに係り、とくにＶＴＲに用いて好
適な磁気ヘッドに関する。

〔１発明の背景〕 近年高密度磁気記録に対応するため、高飽和磁束密度を
有する金属材料を磁気ヘッドのコア材に用いるものが案
出されている。

金属材料をコア材に用いた磁気ヘッドの従来例として、
特開昭５８−１５５５１３を用い、以下に説明する。

Ｉ）第２図工程（イ）に示す様に高透磁率フェライト等
の基板１上にトラック幅より狭い突起を残してトランク
幅規制用の溝加工２を行なう。

１１）工程（ロ）は、前記工程（イ）で示した基板上に
、フェライト飽和磁束密度の高い金属磁性体膜３を被着
させる工程である。金属磁性体膜としては、Ｃｏ−Ｆａ
−５ｉＢ等のメタル−メタロイド合金や、Ｃｏ　　Ｎｏ
−Ｚｒ　等のメタル−メタル合金が用いられ、通常スパ
ンタリング法を用いて形成される。

１１１）工程（ハ）は、残った溝部をガラス等の非磁性
材料４で充填する工程である。

１ｖ）工程に）は、前工程（ハ）の不要な非磁性材４を
取り除き、作動ギャップ面となる金属磁性膜面な研摩す
る工程である。

■）工程（ホ）は、前工程までのブロックを一対用意し
２少なくとも一方に巻線用溝加工を施こし、ギャップス
ペーサ材、ギャップ接着材を形成し一体化する工程であ
る。

Ｖｉ）　　工程（へ）ではチップカット工程を行ない、
磁気ヘッドを形成する。

前記工程（ハ）では、ガラス充填が行なわれているが、
ガラス充填工程は、ガラス溶融のために４５０“０以上
の高温にする必要がある。このため金属磁性膜へのガラ
スの拡散、不純物の拡散等が心配される。また、基板と
なるフェライト材との熱膨張係数αの差により、大きな
応力が加わり、特性の劣化・膜のはく離等の問題が生じ
やすい。

特に金属磁性膜に非晶質合金を用いた場合には、常に結
晶化温度以下で作業しなければならないという制約があ
るため、ガラスが十分に溶融せず所望の範囲をカバーで
きない、あるいは温度上昇により膜特性の劣化が見られ
る等の問題がある。

更に摺動性、耐摩耗性においても、一般的に低融点ガラ
スには適するものがない。

また、巻線用溝を持っコ字状コアを形成する場合ガラス
充填プロセスでは、巻線溝が充填時溶融ガラスで埋めら
れるため、ガラス充填後再加工して巻線溝を形成せねば
ならず、工程の増加という問題がある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き特性劣化が
少々くがつ安定して製造できる磁気ヘッドを提供するに
ある。

〔発明の概要〕

この目的を達成するために、本発明は、溝部分を高硬度
のセラミック材料で埋め込むよう圧した点に特徴がある
。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を図面でもって説明する。

第１図は本発明による磁気ヘッドの一実施例を示す製造
工程図であって、１は高透磁率フェライトからなる基板
、２はトラック幅規制用溝３は金属磁膜、５はセラミッ
ク系非磁性材料である。このような磁気ヘッドを以下に
製造工程順に説明する。

１）第１図の工程（イ）Ｋ示すように、高透磁率フェラ
イト基板１上にトラック幅より狭い突起を残したＷ型の
トラック幅規制御用の溝加工２を行なう。

ＩＩ）　　工程（ロ）に示すようＫ、フェライトより飽
和磁束密度の高いＣｏ系系非晶質磁性腹膜５スパッタリ
ング法により形成する。

１１１）工程（ハ）に示すように、前工程□（ロ）で形
成した磁性膜上に、電子線蒸着法により、非磁性材料５
としてフォルステライトを形成する。形成条件は堆積速
度２０μｍ／Ａ　で、膜厚はへラドチップ加工後のテー
プ摺動部が該膜で埋まる厚さで十分であり、本実−例で
は５０μｍである。

′勿論、非磁性材料としては、フォルステライトである
必要はなく、他のセラミック材料アルミナ（ＡｌｍＯａ
）、ステアタイト（ＭｙＯ，５ｉｆ２）□等の高融点高
硬度材も蒸着法を用いることによって可能となる。着た
、フォルステライト。

ステアタイトのＭｆ　Ｏ−Ｓｃ　Ｏｔの比が０．５：１
−５．０：１である類似組成も有効であ・る。

また、形成方法につ″いても蒸着法に限ることはなく、
スパッタリ・フグ法等の方法も適用し得る。

１ｖ）非磁性材料を形成した基板上面をラップしギャッ
プ面を形成する（工程に）→。

Ｖ）　　前工程までの一対のブロックのうち少なくとも
一方に巻線用溝加工を施こし、ギャップスペーサ材及び
ギャップ接着材□を形成する。

ギャップ接着材としては鉛ガラスを用い４０口°０で接
着をする（工程（ホ））計” ｖｌ）　　チップ加工をし、磁気ヘッドとなる（工程（
へ））。

この実施例によれば、金属磁性膜が非晶質の場合であっ
てもギャップ接着温度が４００°０以下の比較的低温で
作業′する・ため、結晶化等による特性劣化の心配がな
い。また、ガラス材等を使用する場合に比べて磁性膜内
部への拡散が押えられ、特性劣化の要因を取り除くこと
ができる。

また、材料の熱膨張係数を適当に選択することができ、
かつ作業温度幅を小さく出来るため、膜への応力を減少
することができ、膜剥離等の問題も生じにぐい。さらに
、テープ摺動時の摩耗量も、ガラス材に比べ小さく非磁
性部分の偏摩耗の心配が々い。加えて、コ字状コアの巻
線用溝部に付着する非磁性膜はたかだか数１０μゎであ
るため、溝はそのまま使用でき再加工の必要がない。こ
のため、工程の短縮化が図られ、生産性の向上・歩留り
の向上を図ることができる。

もちろん、本発明を軟磁性フェライトをコア材とする磁
気ヘプトに適用することも可能であり、この場合でも、
耐摩性５摺動性等の効果を得ることができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、磁気ヘッド製造
工程において生じるギャップ部近傍の凹部な比較的低温
において高硬度セラミツクで埋め込むことができ、これ
により耐熱性の低いコア材料を用いることが可能になり
コア材の選択範囲、また特性の向上を図ることができ、
更に非磁性材埋め込みのプロセスを低温で処理するため
、この工程での膜はく離等の問題が解決され生産性の向
上に寄与でき、上記従来技術の欠点を除いて優れた機能
の磁気ヘッドを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気ヘッドの一実施例を説明する
製造工程図、第２図は従来装置を説明する製造工程図で
ある。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性または磁性基板上にトラック幅規制用にＶ字状の
   溝と先端が逆Ｖ字状の凸形を形成し前記基板上に高飽和
   磁束密度を有する金属磁性膜を形成し、前記凸部の頂上
   部をトラック幅相当まで平坦研摩してギャップ面を形成
   した一対のコアブロックをギャップスペーサを介して接
   合して、ヘッドギャップを形成する磁気ヘッドにおいて
   、前記溝部分を高硬度のセラミック材料で埋め込むこと
   を特徴とした磁気ヘッド。