JPS61229912A - 往復動ピストン型内燃機関のための弁制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、往復動ピストン型内燃機関のための弁制御装
置であって、内燃機関の燃焼室弁と燃焼室弁の駆動カム
との間に少なくとも１つの運動伝達構造グループが配置
されていて、該運動伝達構造グループが、圧力媒体を充
てん可能でかつ放圧導管を介して放圧可能な圧力室を有
しており、駆動カムの駆動運動から燃焼室弁を連結・遮
断するために放圧導管を遮断ないしは開放する電気制御
式の遮断弁が、放圧導管に配置されている形式のものに
関する。

従来の技術 このような形式の公知の弁制御装置（ドイツ連邦共和国
特許出顧公開第３１３５６５０号明細書）では遮断弁は
、圧力媒体室における圧力によってその端面を負荷され
る弁スプールを有している。弁スプールは締付は舌状片
を有していて、この締付は舌状片はアノビルと締付はう
ε　　　　ムとの間を貫通案内されている。締付はラム
は端部に、積層されたピエゾ円板から成るコラムを有し
ていて、このコラムには制御電圧が印加されるようにな
っている。制御電圧が印加されていない場合には、締付
はラムは弁スプールの締付は舌状片をアンげルに押し付
けて、同締付は状片を弁スプールの閉鎖位置において緊
定する。コラムに制御電圧が印加されると、コラムは縮
められて締付は舌状片を解放する。この結果圧力媒体室
における圧力下で弁スプールが開き、圧力媒体戻し路に
通じる放圧導管が開放する。このような圧電式制御部材
の欠点は約７００Ｖの比較的高い制御電圧を必要とする
ことにある。

発明の課題 ゆえに本発明の課題は、自動車の塔′ａ？！圧のような
比較的低い電圧しか必要とせず、しかも十分確実に働（
弁制御装置を提供することである。

課題を解決するための手段 この課題を解決するために本発明の構成でｒよ、遮断弁
が、電磁制御式の２ポ一ト２位置方向切換弁として構成
されている。

発明の効果 本発明のように構成された弁制御装置には公知のものに
比べて、自動車において通常の１２Ｖの搭載電圧によっ
て直接運転することができるという利点がある。制御出
力を減じるために本発明による２ポート２位置方向切換
え弁は、圧力媒体室からの圧縮力によって助成されて作
動し、かつ小さな流過横断面しか有していない。

この結果必要な小さな電磁操作力は、電磁石の小型でか
つ短行程の構成を可能にする。従ってインダクタンスは
かなり低（、極めて短い切換え時間が得られる。

実施例 第１図には往復動ピストへ燃機関の吸気弁１１とシリン
ダヘッド１０とが縦断面図で示されている。吸気弁１１
は、内燃機関のカム軸１３に設けられた駆動カム１２に
よって制御される。駆動カム１２と吸気弁１１の弁突き
棒１４との間には弁制御装置の、機械・油圧式の運動伝
達構造グループ１５が配置されている。

略示された構造グループ１５は上位のリストア１６及び
下位のピストン１７を有しており、両ぎストン１６，１
７は、弁突き棒１４に対して同、軸的な共通のケーシン
グ室１８内に軸方向摺動可能に案内されている。下位の
ピストン１７は、ケーシング室１８の底部に支持された
ばね１９によって負荷されている。上位のピストン１６
は、下位のピストン１７に支持されたばね２０によって
カム軸１３の駆動カム１２に接触させられる。上位及び
下位のピストン１６゜１７は圧力室２１を制限しており
１．この圧力室２１は該圧力室から延びた孔２２を介し
て液圧を充てん可能並びに放圧可能である。孔区分はこ
の場合放圧導管２３として働き、この放圧導管２３はば
ね蓄圧器２４に通じていて、放圧導管２３には、電磁制
御式の２ポート２位置方向切換え弁２５として構成され
た遮断弁が接続されている。２ポート２位置方向切換え
弁２５の遮断時には、液体を満たされた圧力室２１が上
位のピストン１６と下位のピストン１７との間において
液体クッションとして働くので、上位のピストン１６の
、駆動カム１２によってレリーズされた行程運動は直接
下位のピストン１７に伝達され、そこから弁突き棒１４
に伝達される・２ポート２位置方向切換え弁２５の開放
時には液体は圧力室２１から上位のピストン１６の下降
運動によってか又は、ばね１９によって惹起される下位
のピストン１７の上昇運動によってばね蓄圧器２４のな
かに押し出される。この場合ばね蓄圧器２４において圧
力ビストン２６は戻しばね２７の力に抗して緊張させら
れる。従って２ポート２位置方向切換え弁２５の開放時
には弁突き棒１４は駆動カム１２の駆動運動から遮断さ
れており、吸気弁１１は駆動カム１２のその時の位置に
もかかわらず閉鎖Ｌ”（いる。上位のピストン１６が再
び第１図に示された上位の出発位置に戻し運動させられ
ると、液体は再びばね蓄圧器２４から開放しｆｃ２ポー
ト２位置方向切換え弁２５を介して圧力室２１に流入す
る。圧力室２１の充てん中２ポート２位置方向切換え弁
２５は閉鎖位置に保たれねばならないので、２ポート２
位置方向切換え弁２５をバイパスする、つまり弁入口及
び弁出口と直接接続された逆止弁２８が設けられている
。

この逆止弁２８は、その遮断方向が圧力室２１からばね
蓄圧器２４に向かって方向付けられるように配置されて
いる。選択的に圧力室２１とばね蓄圧器２４との間で往
復移動させられる密閉された液体量における漏れ損失は
、機関圧力オイル供給部から別の逆止弁２９を介して補
充される。この逆止弁２９の貫流方向は孔２２に向かっ
て方向付けられている。図示されていない貯えタンクへ
の接続は第１図にねいて矢印で一ト２位置方向切換え弁
２５は油圧作動式の縦長のスプール弁３０と、このスプ
ール弁３０の制御室３３に接続された電磁式の制御弁３
４とを有している。スプール弁３０は、弁入口３１に対
して同心的なケーシング孔３５を有しており、このケー
シング孔３５において制御ピストン３６が、制御室３３
内に配置された弁閉鎖ばね３７の力に抗して軸方向摺動
可能に案内されている。制御ピストン３６はタンデムピ
ストン３８として構成されており、この場合タンデムピ
ストン３８の、弁入口３１に向けられた前方のぎストン
部分３８ａには、軸方向の貫通孔３３が設けられ℃おり
、後方のピストン部分３８１）は、ケーシング孔３５に
対して半径方向に延び念弁出口３２と協働する制御Ｒ４
０を有している。タンデムピストン３８の後方のピスト
ン部分３８ｂには絞り４１が配置されている。

この絞り４１は制御室３３を軸方向の貫通孔３３を介し
て弁入口３１と接続している。

電磁式の制御弁３４は座付き弁４２として構成されてお
り、この座付き弁４２の弁入口４３はスプール弁３０の
制御室３３と接続され、その弁出口４４はスプール弁３
０の弁出口３２と、つまりスプール弁３０の出口側にお
いて放圧導管２３と接続されている。座付ぎ弁４２は弁
部材４５を有していて、この弁部材４５は弁出口４４を
同軸的に取り囲む弁座４６に閉鎖ばね４７によって保持
される。弁部材４５は操作棒４８を介して電磁石５０の
可動子４９と連結されている。電磁石５０の励磁時に座
付き弁４２は開放する。

上に述べた２ポート２位置方向切換え弁２５の゛作用形
式は以下の通っである： 座付き弁４２の閉鎖時に制御室３３は軸方向の貫通孔３
３と絞り４１とを介して圧力室２１と接続されている。

制御室３３における弁閉鎖ばね３７はタンデムピストン
３８を閉鎖位置に保つ。電磁石５０が励磁されると、可
動子４９が引き付けられて、弁部材４５は弁座４６から
持ち上げられる。従って座付き弁４２は解放し、スプー
ル弁３０の制御室３３における圧力は急激に低下する。

座付き弁４２の流れ横断面は絞り４１の横断面よりも著
しく大きいので、制御ピストン又はタンデムピストン３
８において圧力室２１とばね蓄圧器２４との間における
全圧力が降下する。この結果生じる圧力によってタンデ
ムピストン３Ｂは迅速に右に向かって移動させられる。

制御縁４０は弁出口３２をばね蓄圧器２４に向かって開
放する。圧力室２１とばね蓄圧器２４との間の圧力がバ
ランスされると、タンデムピストン３８は再び閉鎖位置
にもたらされる。この動作を座付き弁４２の閉、調時に
行いたい場合には、絞り４１の寸法は、弁閉鎖ばね３７
のばね力存在時にタンデムピストン３８が次の作業サイ
クル開始前になお閉鎖しているように、設定されていな
くてはならない。操作棒４８のための案内孔内で座付き
弁４２において生じる漏れ損失は、可動子４９を取り囲
む可動子室５１に達し、そこから戻し孔５２を介して貯
えタンクに戻される。

第２図に示された２ポート２位置方向切換え弁２５の変
化実施例では、ケーシング孔３５において軸方向移動可
能な制御ピストン３６の端面側が座付き弁５４の弁部材
５３として構成されており、この弁部材５３は、弁入口
３１に対して同心的に配置された弁座５５と協働する。

弁閉鎖ばね３７を有する制御室３３と弁入口３１との間
には同様に絞り４１が設けられており、この絞り４１は
制御ピストン３６に設けられた、制御室３３から延びた
軸方向の袋孔５６に開口している。その他の点では第２
図に示された２ポート２位置方向切換え弁２５は第１図
に示されたものと同じに構成されているので、同一の構
成部材は同一の符号で示されている。

特にこの実施例においても制御室３３には、第１図の場
合と同じに構成された制御弁３４の弁入口４３が接続さ
れている。

第６図に示された２ポート２位置方向切換え弁２５の変
化実施例では第１図及び第２図のものに比べて制御弁３
４の構成が異なっている。

第３図に示され念制御弁３４では弁部材４５と協働する
弁座４６は、スプール弁３０の制御室３３と接続され友
邦入口４３に同軸的に配置されている。閉鎖ばね４７の
戻し力に抗して弁部材４５を操作する電磁石５０は、制
御弁３４に軸方向で取り付けられている。弁出口４４は
この実施例では第１図のようにスプール弁３０の弁出口
３２とつまり放圧導管２３と接続されているのではなく
、無圧の貯えタンクと直接接続されている。これによっ
て、漏れ１以外にも制御弁３４を介して流出する液体量
も貯えタンクからの戻し行程時に詩ｌ補充されることが
保証され、このことは熱的な理由から大きな意味がある
。その他の点では制御弁３４Ｆｉ第１図におけると同様
に構成されているので、同一構成部材は同一符号で示さ
れている。

第４図に示された２ポート２位置方向切換え弁６０が第
１図に示された２ポート２位置方向切換え弁２５０代わ
りに同一箇所において放圧導管２３に接続されていても
よい。この場合同様に弁入口６１は圧力室２１とかつ弁
出口６２はばね蓄圧器２４と接続されている。

２ポート２位置方向切換え弁６０は、電磁弁６３によっ
て操作されるスプール弁６４として構成されており、こ
のスプール弁６４の、電磁石６３の可動子６５と連結さ
れた制御スプール６６は、ケーシング孔６７において軸
方向摺動可能である。ケーシング６８には制御スプール
６６を取り囲む２つの環状溝６９，７０が配置されてお
り、両環状＠６９，７０はそれぞれ、ケーシング６８に
おいて半径方向孔として構成された弁入口６１ないしは
弁出口６２と接続されている。制御スプール６６は公知
の形式でリング状の制御溝８０を有しており、この制御
溝８０の１つの溝側面は、弁入口６２と接続された環状
溝６９と協働する制御縁７１を形成している。

制御スプール６６は端面側において、弁座７４と協働す
る座付き弁７３の弁部材７２として構成されている。弁
座７４は座付ぎ弁７３の、制御スプール６６の端面の前
に配置された出口室７５と、弁入口６１に接続された入
口室７６とを隔てている。出口室７５は、内部に絞り７
８が配置されていて制御スプール６６の横孔７９に開口
している軸方向に延びた分岐孔７１を介して、環状溝７
０ひいては弁出口６２と接続されている。弁部材７２は
電磁石６３の消磁時には戻しばね８１によって弁座７４
に押し付けられる。このために戻しばね８１は軸方向、
（取り付けられた電磁石６３の可動子６５と磁百−ケー
シング８２とに支持されている。制御スプール６６とこ
れに一体の可動子６５との間において制御スプール６６
にはリング状の外側溝８３が旋削されており、この外側
溝８３はケーシング６Ｂにおける孔８４を介して弁出口
６２と接続されている。

弁制御装置への上記２ポート２位置方向切換え弁６０の
油圧接続形式は第５図に示されている。圧力室２１は孔
２２及び放圧導管２３を介してばね蓄圧器２４と接続さ
れている。放圧導管２３には２ポート２位置方向切換え
弁６０が接続され℃いて、この弁６０は逆止弁２８によ
ってバイパスされている。第１図の実施例とは異なりこ
の場合逆止弁２９は逆止弁２８に対して直列に接続され
ている。この接続形式には、各１つの弁制御装置を備え
た往復動ピストン型内燃機関の複数の弁において逆止弁
２９がただ１つだけ設げられていればよいとい５　ｆｉ
１点がある。

第４図て示された電磁制御式の２ポート２位置方向切換
え弁６０の作用形式は以下の通りである： 電磁石１３の無電流時には２ポート２位置方向切換え弁
６０は第４図に示された位置を占めている。この場合ス
プール弁６４も座付き弁７３も閉じられている。弁入口
６１ひいては環状室６９及び座付き弁７３０入ロ室７６
には、圧力室２１における圧力が存在する。弁出口６２
ひいては環状室７０、制御溝８０及び外側溝８３には、
蓄圧器圧が存在する。外側溝８３における圧力と制御溝
８０における圧力とが互いに逆向きに作用するので、制
御スプール６６には軸方向の力成分は作用し得ない。絞
り７８の横断面寸法は、座付き弁７３がわずかに非密で
あっても制御スプール６６の制御溝８０において圧力が
形成されないように設定されている。

電磁石６３が励磁されると、制御スプール６６は戻しば
ね８１のばね力に抗して第４図で見て右に向かって移動
する。この結果座付き弁７３が開放し、出口室７５は入
口室７６と接続される。自由になる圧損断面は、絞り７
８の横断面に比べて大きいので、絞り７８においては圧
力室２１とばね蓄圧器２４との間の全圧力差が消滅する
。この結果生じる軸方向力は磁力と協働して制御スプー
ル６６を迅速にその開放終端位置に移動させる。この際
に環状溝６９から環状＠７０へのひいては弁入口６１か
ら弁出口６２への本来の弁貫流路が開放される。

第６図に示された電磁式の２ポート２位置方向切換え弁
９０は主として以下に記載の座付き弁９１から成ってい
る。すなわちこの座付き弁９１の弁部材９２は制御スプ
ール９３として構成されていて、この制御スプール９３
の外側溝９４及びリング状の圧力面９５は、座付き弁９
１のケーシング９６に配置されていて制御スプール９３
を同軸的に取り囲む環状溝９１と協働し、この環状溝９
７自体は弁出口９Ｂと接続されている。弁入口９９は、
同様にケーシング９６内で制御スプール９３を同軸的に
取り囲む環状溝と接続されており、この環状溝は座付き
弁９１の入口室１００を形成している。入口室１００と
、制御スプール９３の端面側に配置された出口室１０１
との間には弁座１０２が配置されており、この弁座１０
２には、端面側に円錐面１０５を備えた制御スプール９
３が弁閉鎖ばね１０３の作用下で接触している。出口室
１０１は、制御スプール９３における外側溝９４と接続
された極めて大きな横断面を備えた軸方向孔１０４を介
して、環状溝９７ひいては弁出口９８と接続可能である
。外側溝９４は、座付き弁９１の閉鎖時に環状室９７に
通じる間隙開口１０６を開放しかつ座付き弁９１の開放
時に環状室９７０幅全体をおおうように、構成されてい
る。制御スプール９３は操作棒１０７を介して、軸方向
に配置された電磁石（図示せず）と連結されている。制
御スプール９３の第６図で見て右側の端面は、ケーシン
グ９６における孔１０８を介して弁出口９８と接続され
た圧力室９８と接続されている。

上に述べた２ポート２位置方向切換え弁９００作用形式
は以下の通りである： 座付ぎ弁９１の閉鎖時には、弁座１０２に載設している
制御スプール９３の円錐面１０５によって、出口室１０
１と入口室１００とは互いに隔てられている。入口室１
００には圧力室２１の圧力が存在する。座付き弁９１の
閉鎖位置において外側溝９４によって開放された間隙開
口１０６を介して、座付き弁９１のわずかな非密時には
漏れ量はばね蓄圧器２４に流出し、この際に制御スプー
ル９３において弁開放方向における軸方向の移動調節力
が形成されることはない。電磁石が励磁されるやいなや
、制御スプール９３は第６図で見て右に向かって移動さ
せられる。座付き弁の開放横断面は正比例的に増大し、
この結果制御スプール９３の左側の端面には圧力室２１
における圧力とばね蓄圧器２４における圧力との間の圧
力差の約半分の圧力差が作用する。この圧力差は制御ス
プール９３の開放運動を助成する。

第７因に断面図で示された電磁式の２ポート２位置方向
切換え弁１１０はほぼ鏡面対称的に構成されており、従
って２つ設けられている構成部材は同一符号で示されて
いて、両者を区別するために一方には符号にダッシュが
付けられている。弁ケーシングは２つの部分から構成さ
れており、この場合側ケーシング部分１１１゜１１１′
は互いに端面側において突き合わされている。各ケーシ
ング部分１１Ｌ１１１’はそれぞれ一方の端面から延び
九ケーシング孔１１２゜１１２’を有しており、両ケー
シング孔はそれぞれ底部側においてホッパ状に先細に構
成され、そこで小径の流出孔１１３，１１３’を介して
他方の端面において開口している。両ケーシング部分１
１１，１１１’が互いに当接している場合同軸的なケー
シング孔１１２，１１２’は制御スプール１１４のため
の案内孔を形成し、制御スプール１１４の端面にはそれ
ぞれ、流出口１１３゜１１３：を貫通する操作棒１１５
，１１５’が作用しており、操作棒１１５，１１５’は
電磁石１１７゜１１７’の可動子１１６，１１６’と結
合されている。

各ケーシング部分１１１，１１１’においてケーシング
孔１１２，１１２’は、それぞれ弁入口１１９．１１９
’と接続された環状溝１１８゜１１８′を有している。

さらに一方のケーシング部分１１１には、ケーシング孔
１１２に別の環状−溝１２０が設けられていて、この環
状溝１２０は弁出口１２１と接続されている。制御スプ
−ル１１４はその外周部に、開制御スプール１１４の幅
方向において極めて幅広の制御溝１３２を備え、この制
御溝１３２の両溝側面は、弁入口１１９．１１９’の環
状溝１１８，１１８’と協働する制御縁１２２，１２２
’として働（。つまり制御スプール１１４は両弁入口１
１９，１１９’及び一方の弁出口１２１と共に２つのス
プール弁１２３，１２３’を形成しており、このスプー
ル弁には入口側において２つの運動伝達構造グループ１
５の２つの圧力室２１（第１図参照）が、かつ出口側に
おいて共通のばね蓄圧器２４が接続されていてもよい。

制御スプール１１４は各端面に、ケーシング孔１１２，
１１２’のホッパ状の先細部に対応する形状をもつ円錐
周面を備えた座付き弁１２５゜１２５′の弁部材１２４
，１２’ｌ’を有している。

弁部材１２４，１２４’は弁座１２６，１２６’と協働
し、この弁座１２６，１２８’は、制御スプール１１４
の外側にリング状に配置された入口室１２７，１２７’
と、制御スプール１１４の端面側に配置された出口室１
２８，１２８’とを互いに隔てている。

入口室１２７，１２７’は弁入口１１９，１１９’とそ
れぞれ接続されている。制御スプール１１４はは＃！真
中に横孔１２９を有し、この横孔１２９には、制御スプ
ール１１４の端面に通じる軸方向孔１３０，１３０’が
開口している。各軸方向１３０．１３０’にはそれぞれ
絞り１３１，１３１’が配置されている。横孔１２９は
制御溝１３２において開口しているので、常に環状溝１
２０ひいては弁出口１２１と接続されている。電磁石１
１７，１１７’は交互に励磁され、抑圧磁石として構成
されているので、励磁時には所属のスプール弁１２３，
１２３’及び座付き弁１２５゜１２５′は閉じられてい
る。

上に述べた２ポート２位置方向切換え弁１１０の作用形
式は以下の通りである： 第７図で見て右側の電磁石１１７が励磁されると、制御
スプール１１４は第７図に示された位置を占め、この位
置ではスプール弁１２３及び座付き弁１２５は閉鎖され
、スプール弁１２３′及び座付き弁１２５′は開放され
ている。電磁石１１７が消磁されて電磁石１１７′が励
磁されると、制御スプール１１４は他方の終端位置に移
動させられ、この位置ではスプール弁１２３′及び座付
き弁１２５′が閉鎖され、スプール弁１２３及び座付き
弁１２５が開放されている。制御スプール１１４がその
両路端位置に移動する場合には、弁入口２３．２３’に
おける圧力が助成的に作用するので、電磁石は比較的小
さな電力で十分である。その他の点ではスプール弁１２
３゜１２３′及び座付き弁１２５，１２５’並びに所属
の構成要素の、閉鎖位置及び開放位置における作用形式
並びに一方の位置から他方の位置への移動時における作
用形式は、第４図に示され九２ポート２位置方向切換え
弁６０の作用形式と同一であるので、同一構成部材には
同一符号がつけられている。

往復動ピストン型内燃機関の２つの弁のための弁制御装
置への、第７図に示された２ポート２位置方向切換え弁
１１０の油圧回路は、第９図に略示されている。運動伝
達構造グループ１５の圧力室２１は、孔として構成され
た導管２２を介して放圧導管２３と接続されている。

内燃機関の別の弁のための第２の運動伝達構造グループ
１５′の圧力室２１′は、同様に導管２２′を介して放
圧導管２３′と接続されている。両放圧導管’２３，２
３’は２ポート２位置方向切換え弁１１０の各１つの弁
入口１１９，１１９’と接続されている。弁出口１２１
は共通のばね蓄圧器２４と接続されている。この場合通
常弁１１０をバイパスする逆上弁（第１図の符号２８参
照）は省（ことができる。導管２２，２２’は第１図に
示されているように逆止弁２９．２９’を介して機関圧
力オイル供給部と接続されている。２ポート２位置方向
切換え弁１１０にＦｉ運動伝達構造グループ１３．１５
’の圧力室２１．２１’が接続されており、同グループ
１３．１５’は、内燃機関の作業サイクルにおいて直接
的には追従しない大口弁１４が配属されている。

第８図に断面図で示された２ポート２位置方向切換え弁
１３３が、第７図に示された２ポート２位置方向切換え
弁１１０と異なっている点は、電磁石１１７０代わりに
、同じ箇所につまり制御スプール１１４の端面に作用す
る押圧ばね１３４が設けられていることである。２ポー
ト２位置方向切換え弁１３３の構造及び作用形式はその
他の点では第７図に示された２ポート２位置方向切換え
弁１１０の構造及び作用形式と合致しているので、同一
構成部材には同一符号がつけられている。

この両ダブル弁構造形式の利点はその構造容積が小さい
ことにある。第７図の２ポート２位置方向切換え弁１１
０にはさらに、一方の電磁石１１５ないしは１１５′の
接続時に他方の電磁石が遮断されることに基づいて、応
動時間が短いという利点がある。この場合遮断電磁石の
エネルギを接続電磁石の磁場形成のために利用すること
も可能である。制御溝１３２は、制御縁１２２．１２２
’が負のオーバラッゾを有していて、停電時に制御スプ
ール１１４が中央位置を占めるように構成されており、
この中央位置では両スプール弁１２３，１２３’は部分
的に開放されていて、相応な圧力室１２１，１２１’が
ばね蓄圧室２４と接続されている。往復動ピストン型内
燃機関の大口弁１１の開放はこの場合もはや不可能であ
り、このことは安全性の理由から望まれていることであ
る。しかしながらまた制御スプール１１４の中央位置は
、制御スプール１１４の端面に支持されていて小さなプ
レロードをかけられた押圧ばねによって強制的に得られ
るようになっていてもよい。

【図面の簡単な説明】

第１図は内燃機関のシリンダヘッドに配置された弁制御
装置の縦断面図、第２図は第１図に示された弁制御装置
の、別の実施例による２ポート２位置方向切換え弁の縦
断面図、第３図は第１図に示された２ポート２位置方向
切換え弁における、別の実施例による電磁式制御弁の縦
断面図、第４図は別の実施例による２ポート２位置方向
切換え弁の縦断面図、第５図は第４図に示された２ポー
ト２位置方向切換え弁の油圧回路を示す図、第６図、第
７図及び第８図は２ポート２位置方向切換え弁のさらに
別の６つの実施例をそれぞれ示す縦断面図、第９図は第
８図に示された２ポート２位置方向切換え弁の油圧回路
を示す図である。 １０・・・シリンダヘッド、１１・・・吸気弁、１２・
・・駆動カム、１３・・・カム軸、１４・・・弁突き棒
、１３．１５’・・・運動伝達構造グループ、１６．１
７・・・ピストン、１８・・・ケーシング室、１９．２
０・・・ばね、２１．２１’・・・圧力室、２２．２２
’・・・孔、２３．２３’・・・放圧導管、２４・・・
ばね蓄圧器、２３．２５’、６０，９０，１１０，１３
３・・・２ポート２位置方向切換え弁、２６・・・圧力
ビストン、２７・・・戻しばね、２８，１２９・・・逆
止弁、３０．６４，１２３，１２３’・・・スプール弁
、３１．４３，６１，９９，１１９，１１９’・・・弁
入口、３２，４４，６２，９８，１２１・・・弁出口、
３３・・・制御室、３４・・・制御弁、３５・・・ケー
シング孔、３６・・・制御ピストン、３７・・・弁閉鎖
ばね、３８・・・タンデムピストン、３３・・・貫通孔
、４０・・・制御縁、４１・・・絞り、４２，５４，７
３゜９１．１２５，１２５’・・・座付き弁、４５，５
３゜７２．９２，１２４，１２４’・・・弁部材、４６
゜５３．７４，１０２，１２６，１２６’・・・弁座、
４７・・・閉鎖ばね、４８・・・操作棒、４９・・・可
動子、５０・・・電磁石、５１・・・可動子室、５２・
・・戻し孔、５６・・・袋孔、６３・・・電磁石、６５
・・・可動子、６６・・・制御スプール、６７・・・ケ
ーシング孔、６８・・・ケーシング、６９，７０・・・
環状溝、７１・・・制御縁、７５・・・出口室、７６・
・・入口室、７７・・・分岐孔、７８・・・絞り、７９
・・・横孔、８０・・・制御溝、８１・・・戻しばね、
８２・・・磁石ケーシング、８３・・・外側溝、８４・
・・孔、９３・・・制御スプール、９４・・・外側溝、
９５・・・圧力面、９６・・・ケーシング、９１・・・
環状溝、１００・・・入口室、１０１・・・出口室、１
０３・・・弁閉鎖ばね、１０４・・・軸方向孔、１０５
・・・円錐面、１０６・・・間隙開口、１０７・・・操
作棒、１０８・・・孔、１０９・・・圧力室、１１１゜
１１１′・・・ケーシング部分、１１２，１１２’・・
・ケーシング孔、１１３，１１３’・・・流出孔、１１
４・・・制御スプール、１１５，１１５’・・・操作棒
、１１６．１１６’・・・可動子、１１７，１１７’・
・・電磁石、１１８，１１８’、１２０・・・環状溝、
１２２゜１２２′・・・制御縁、１２７，１２７’・・
・入口室、１２８．１２８’・・・出口室、１２９・・
・横孔、１３０゜１３０′・・・軸方向孔、１３１・・
・絞り、１３２・・・制御溝、１３４・・・押圧ばね

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．往復動ピストン型内燃機関のための弁制御装置であ
   って、内燃機関の燃焼室弁と燃焼室弁の駆動カムとの間
   に少なくとも１つの運動伝達構造グループが配置されて
   いて、該運動伝達構造グループが、圧力媒体を充てん可
   能でかつ放圧導管を介して放圧可能な圧力室を有してお
   り、駆動カムの駆動運動から燃焼室弁を連結・遮断する
   ために放圧導管を遮断ないしは開放する電気制御式の遮
   断弁が、放圧導管に配置されている形式のものにおいて
   、遮断弁が、電磁制御式の２ポート２位置方向切換え弁
   （２５；６０；９０；１１０；１３３）として構成され
   ていることを特徴とする、往復動ピストン型内燃機関の
   ための弁制御装置。 ２．放圧導管（２３）が、ばね蓄圧器（２４）として構
   成された戻し蓄圧器と接続されていて、２ポート２位置
   方向切換え弁（２５； ６０；９０）が、圧力室（２１）からばね蓄圧器（２４
   ）に向かって方向付けられた遮断方向をもつ逆止弁（２
   ８）によってバイパスされている、特許請求の範囲第１
   項記載の弁制御装置。 ３．２ポート２位置方向切換え弁（２５）が、弁入口（
   ３１）と弁出口（３２）とで放圧導管（２３）に接続さ
   れた、弁閉鎖ばね（３７）を備えた圧力媒体制御式の縦
   長のスプール弁（３０）と、該スプール弁の制御室（３
   ３）に接続された電磁式の制御弁（３４）とを有してお
   り、スプール弁（３０）の制御ピストン（３６）に、制
   御室（３３）を弁入口（３１）と接続する絞り（４１）
   が配置されている、特許請求の範囲第１項又は第２項記
   載の弁制御装置。 ４．制御弁（３４）が座付き弁（４２）として構成され
   ており、該座付き弁の弁入口（４３）がスプール弁（３
   ０）の制御室（３２）と、かつ弁出口（４４）がスプー
   ル弁（３０）の弁出口（３２）と接続されている、特許
   請求の範囲第３項記載の弁制御装置。 ５．制御弁（３４）が座付き弁（４２）として構成され
   ており、該座付き弁の弁入口（４３）がスプール弁（３
   ０）の制御室（３３）と、かつ弁出口（４４）が無圧の
   戻し孔と接続されている、特許請求の範囲第３項記載の
   弁制御装置。 ６．座付き弁（４２）の、弁部材（４５）と協働する弁
   座（４６）が、弁出口（４４）又は弁入口（４３）を同
   軸的に取り囲んでいる、特許請求の範囲第４項又は第５
   項記載の弁制御装置。 ７．座付き弁（４２）が弁部材（４５）と電磁石（５０
   ）とを有していて、該電磁石の可動子（４９）が操作棒
   （４８）を介して弁部材（４５）と結合されており、可
   動子（４９）を取り囲む可動子室（５１）に、操作棒（
   ４８）の滑り案内を介して生じる圧力媒体漏れ量を連行
   する無圧の戻し孔（５２）が設けられている、特許請求
   の範囲．第３項から第６項までのいずれか１項記載の弁
   制御装置。 ８．制御ピストン（３６）がタンデムピストン（３８）
   として構成されており、弁入口（３１）に向いた前方の
   弁部分（３８ａ）に軸方向の貫通孔（３３）が設けられ
   ていて、後方のピストン部分（３８ｂ）が、半径方向に
   延びる弁出口（３２）と協働する制御縁（４０）を有し
   ている、特許請求の範囲第３項から第７項までのいずれ
   か１項記載の弁制御装置。 ９．制御ピストン（３６）の端面が、弁入口（３１）に
   対して同心的に配置された弁座 （５５）と協働する、座付き弁（５４）の弁部材（５３
   ）として構成されている、特許請求の範囲第３項から第
   ７項までのいずれか１項記載の弁制御装置。 １０．２ポート２位置方向切換え弁（６０）が、弁入口
   （６１）と弁出口（６２）との間に配置されていて電磁
   石（６３）によって操作される縦長のスプール弁（６４
   ）を有しており、該スプール弁の、スプール弁制御のた
   めの制御縁（７１）を有する制御スプール（６６）が、
   端面側において座付き弁（７３）の弁部材（７２）とし
   て構成されていて、弁座（７４）と協働し、該弁座が、
   制御スプール（６６）の端面の前に配置された出口室（
   ７５）と、弁入口（６１）に接続された入口室（７６）
   とを互いに隔てており、出口室（７５）が絞り（７８）
   を介して弁出口（６２）と接続されている、特許請求の
   範囲第１項又は第２項記載の弁制御装置。 １１．弁出口（６２）との出口室（７５）の接続が、制
   御スプール（６６）の端面に開口する軸方向孔（７７）
   と、該軸方向孔に接続された少なくとも１つの半径方向
   孔（７９）とによって達成されており、該半径方向孔が
   、制御スプール（６６）を取り囲みかつ弁出口 （６２）に接続された環状室（７０）と接続されている
   、特許請求の範囲第１０項記載の弁制御装置。 １２．弁入口（６１）と接続された第２の環状室（６９
   ）が制御スプール（６６）を取り囲んでおり、制御スプ
   ール（６６）がその周面にリング状の制御溝（８０）を
   有していて、該制御溝の、座付き弁（７３）とは反対側
   の溝側面が、スプール弁（６４）の制御縁（７１）を形
   成している、特許請求の範囲第１１項記載の弁制御装置
   。 １３．制御スプール（６６）が、弁入口（６１）と接続
   された環状室（６９）の、制御溝（６９）とは反対の側
   に、リング状の外側溝（８３）を有しており、該外側溝
   が、弁出口（６２）に接続された環状室（７０）と接続
   されている、特許請求の範囲第１１項又は第１２項記載
   の弁制御装置。 １４．制御スプール（６６）が、弁閉鎖方向に作用する
   押圧ばね（８１）によって負荷されていて、電磁石（６
   ３）の消磁時に、座付き弁（７３）及びスプール弁（６
   ４）を遮断する閉鎖位置を占めるようになっている、特
   許請求の範囲第１０項から第１３項までのいずれか１項
   記載の弁制御装置。 １５．電磁石（６３）が制御スプール（６６）の軸方向
   において直接該制御スプールに取り付けられている、特
   許請求の範囲第１０項から第１４項までのいずれか１項
   記載の弁制御装置。 １６．２ポート２位置方向切換え弁（９０）が、弁部材
   （９２）を有する制御スプール（９３）を備えた座付き
   弁（９１）として構成されていて、制御スプール（９３
   ）が軸方向に取り付けられた操作磁石と連結されており
   、弁部材（９２）が弁座（１０２）と協働し、該弁座が
   、制御スプール（９３）の端面の前に配置された出口室
   （１０１）と、制御スプール（９３）をリング状に取り
   囲みかつ弁入口 （９９）に接続された入口室（１００）とを互いに隔て
   ており、出口室（１０１）が軸方向孔（１０４）を介し
   て、制御スプール（９３）をリング状に取り囲む環状室
   （９７）と接続されていて、該環状室が弁出口（９８）
   と接続されている、特許請求の範囲第１項又は第２項記
   載の弁制御装置。 １７．制御スプール（９３）が、軸方向孔（１０４）と
   接続されたリング状の外側溝（９４）を有しており、制
   御スプール（９３）の閉鎖位置において外側溝（９４）
   と環状室（９７）との間に間隙開口（１０６）が残りか
   つ制御スプール（９３）の開放位置において外側溝 （９４）が環状室（９７）の幅をおおうように、外側溝
   （９４）が配置されており、制御スプール（９３）の、
   座付き弁（９１）とは反対側の端面に、弁出口（９８）
   と接続した圧力室（１０９）が設けられている、特許請
   求の範囲第１６項記載の弁制御装置。 １８．２ポート２位置方向切換え弁（１１０）が、２つ
   の弁入口（１１９，１１９′）の一方と弁出口（１２１
   ）との間にそれぞれ配置された２つの縦長のスプール弁
   （１２３，１２３′）を有していて、該スプール弁が、
   少なくとも１つの電磁石（１１７，１１７′）によって
   操作される共通の制御スプール（１１４）を備えており
   、該制御スプールが、両スプール弁（１２３，１２３′
   ）のそれぞれ一方のために２つの制御縁（１２２，１２
   ２′）を有しており、制御スプール（１１４）が各端面
   において座付き弁（１２５，１２５′）の弁部材 （１２４，１２４′）として構成されていて、各１つの
   弁座（１２６，１２６′）と協働するようになっており
   、該弁座が、制御スプール（１１４）の端面の前に配置
   された各１つの出口室（１２８，１２８′）と、各１つ
   の弁入口（１１９，１１９′）に接続された入口室（１
   ２７，１２７′）とを互いに隔てており、出口室（１２
   ８，１２８′）が各１つの絞り（１３１，１３１′）を
   介して弁出口（１２１）と接続されている、特許請求の
   範囲第１項又は第２項記載の弁制御装置。 １９．弁出口（１２１）との出口室（１２８，１２８′
   ）の接続が、制御スプール（１１４）の端面に開口する
   各１つの軸方向孔（１３０，１３０′）と、該軸方向孔
   に接続された少なくとも１つの半径方向孔（１２９）と
   によって達成されており、該半径方向孔が制御スプール
   （１１４）のいかなる摺動位置においても、制御スプー
   ル（１１４）を取り囲みかつ弁出口（１２１）に接続さ
   れた環状室（１２０）と接続されている、特許請求の範
   囲第１８項記載の弁制御装置。 ２０．弁入口（１１９，１１９′）と接続された各１つ
   の別の環状室（１１８，１１８′）が第１の環状室（１
   ２０）の両側において制御スプール（１１４）を取り囲
   んでおり、該制御スプールがその周面にリング状の制御
   溝（１３２）を有していて、該制御溝の一方の溝側面が
   別の環状室の一方（１１８）とかつ他方の溝側面が別の
   環状室の他方（１１８′）と協働するようになっていて
   、それぞれ、所属のスプール弁（１２３，１２３′）の
   制御縁（１２２，、１２７）を形成している、特許請求
   の範囲第１９項記載の弁制御装置。 ２１．操作電磁石（１１７′）が軸方向の突き棒（１１
   ５′）を介して制御スプール（１１４）の一方の端面に
   作用しており、制御スプール（１１４）の他方の端面に
   押圧ばね（１３４）が支持されている、特許請求の範囲
   第１８項から第２０項までのいずれか１項記載の弁制御
   装置。 ２２．軸方向の突き棒（１１５，１１５′）を介して制
   御スプール（１１４）の各１つの端面に作用する２つの
   操作電磁石（１１７，１１７′）が設けられており、該
   操作電磁石が交互に励磁されるようになっている、特許
   請求の範囲第１８項から第２０項までのいずれか１項記
   載の弁制御装置。 ２３．操作電磁石（１１７，１１７′）が押圧電磁石と
   して構成されている、特許請求の範囲第２２項記載の弁
   制御装置。 ２４．制御縁（１２２，１２２′）を形成する溝側面が
   別の環状室（１１８，１１８′）に対して負のカバーを
   有するように、制御溝（１３２）の寸法が設定されてい
   る、特許請求の範囲第２２項又は第２３項記載の弁制御
   装置。