JPS61210170A - セラミツク粉体の溶射方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はセラミック粉体の溶射方法に関する。

従来の技術 セラミック粉体を溶射する方法として従来、ガス式ｆｌ
１３１（ガス溶射、爆燃ｗ１１１ｇ）、電気式溶射（プ
ラズマ溶射）等がある。

その−例としてプラズマ溶射を第３図に示すと、図から
も明らかなように、プラズマ溶射は、溶射ガン１の陰極
２と陽極３の間に発生したプラズマジェット４中にセラ
ミック粉体５を送給・溶射するというものである。

ところで、このようなプラズマ溶射あるいは前記ガス式
溶射の何れであっても、溶射皮膜の緻密性・被溶射物と
の結合性を向上させるためにはセラミック粉体の衝突速
度を上げるとともに粉体温度を上げることが不可欠であ
る。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、この両者を満足することは従来技術によ
っては難しい。なぜなら、衝突速度を上げるということ
は、燃焼炎やプラズマジェット４等の加熱媒体中におけ
るセラミック粉体５の飛行速度を上げることになり、セ
ラミック粉体５の加熱媒体中に存在する時間が短くなる
からである。

このことは、セラミック粉体の温度を下げることにつな
がる。

本発明はこのような問題点を解決し、セラミック粉体の
衝突速度を上げることができるとともに粉体温度も高く
保持することができるセラミック粉体の溶射方法を提供
することを目的とする。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するため本発明のセラミック粉体の溶
射方法は、セラミック粉体を溶射すべく燃焼炎やプラズ
マジェット等の加熱媒体中に送給する前に、前記セラミ
ック粉体を予熱するようにした。

作用 すなわち本方法は、セラミック粉体を予熱して、セラミ
ック粉体が加熱媒体中に短時間しか存在しなくても高い
粉体温度が得られるようにし、もって前記問題点を解決
する。

実施例 以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

第１図および第２図において、６はプラズマ溶射ガン、
７．８はその陰極および陽極で、陽極８の先端部にはセ
ラミック粉体送給路９が設けられている。１０はセラミ
ック粉体送給路９に接続して設けられた°左右一対のカ
ーボンルツボで、それぞれのカーボンルツボ１０の周囲
には高周波発振機１１から導かれた水冷銅パイプ１２が
螺旋状に巻回して設けられている。１３はカーボンルツ
ボ１０に充填されたセラミック粉体である。

このような構成で、先ず水冷銅バイブ１２に高周波発１
ｌｉｉ機１１から高周波Ｎ流を流し、カーボンルツボ１
０に高周波誘導電流を誘発させる。そうすると、カーボ
ンルツボ１０が加熱され、熱伝達・熱伝導によりセラミ
ック粉体１３が所定温度まで加熱（予熱）される。そこ
で、この加熱されたセラミック粉体１３を送給路９を通
して陰極７と陽極８の間に発生したプラズマジェット１
４中に送給し、連続的に溶射する。

これによると、セラミック粉体１３が予熱されているの
で、セラミック粉体１３の衝突速度を上げても高い温度
を保持することができる。この場合、セラミック粉体１
３の消費速度が♀く、カーボンルツボ１０内のセラミッ
ク粉体１３の温度上昇が回能となるような場合には、カ
ーボンルツボ１０の長さを大きくするかカーボンルツボ
１０の直径を小さくし、それを多数設置するなどして対
処する。

発明の効果 以上本発明方法によれば、セラミック粉体の衝突速度を
上げても高い温度を保持することができる。したがって
、溶射皮膜の緻密性・結合性を向上させること廊できる
。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は本発明の一実施例を示し、第１図はプ
ラズマ溶射ガン周辺の模式的断面図、第２図は同平面図
、第３図は従来例を示すプラズマｍ制ガンの模式的断面
図である。 ６・・・プラズマ溶射ガン、１１・・・高周波発振機、
１３・・・セラミック粉体、１４・・・プラズマジェッ
ト代理人　　　森　　本　　義　　弘 第１図 第２図 ｔ３　　　　　１３

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、セラミック粉体を溶射すべく燃焼炎やプラズマジェ
   ット等の加熱媒体中に送給する前に、前記セラミック粉
   体を予熱することを特徴とするセラミック粉体の溶射方
   法。