JP2857247B2 - プラズマトーチにおけるプラズマ作動ガス供給方法 - Google Patents

プラズマトーチにおけるプラズマ作動ガス供給方法

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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、加熱装置、切断装置、溶射装置等に用いら
れるプラズマ発生装置に関し、さらに詳しくは雰囲気の
巻き込みの少ないプラズマトーチにおけるプラズマ作動
ガス供給方法に関するものである。
(従来の技術) プラズマは清浄で制御性が良く超高温が比較的容易に
得られるエネルギ源として、近年、加熱装置、切断装
置、溶射装置等に広く使用されるようになっている。
製鋼プロセスにおいても新たな熱エネルギ源として各
プロセスに適用が図られており、例えば、製鋼工場にお
ける連続鋳造設備のタンディッシュ内の溶鋼をプラズマ
によって加熱し、転炉から連続鋳造設備にいたるまでの
温度低下を補償するものとして、その導入が図られてい
るところである。
(『製鉄研究』第331号(1988)) ところで、プラズマ発生装置に用いられているプラズ
マトーチの概略は第5図に示されるように、中心部に電
極51を配設し、この電極51の外周に内部に水冷の循環経
路を有するノズル52を設け、電極51とノズル52の間にプ
ラズマ作動ガス流路53を形成せしめてなり、このプラズ
マ作動ガス流路53からプラズマ作動ガス(以下、単に作
動ガスという)が供給される。
(発明が解決しようとする課題) 前述のプラズマトーチを用いてプラズマによって加熱
するためには、安定的な高出力が必要であり、プラズマ
トーチにおける出力Wは次式で表すことができ、すなわ
ち、 W=VIもしくW=I2R である。ここで、W:出力、V:電圧、I:電流、R:抵抗であ
る。
したがって、高出力を得るためには、上式から電流と
電圧を大きくすればよいことがわかるが、電流値を大き
くするとジュール熱により電極の消耗量を増大させ電極
の寿命低下を招くことになる。このため、一般には作動
ガス中の電気抵抗を大きくして、電流値を小さく抑え、
電圧を大きくとることによって高出力を得ている。
ところが、プラズマトーチから噴出される作動ガスは
超高温・超高速であることから雰囲気との流速差が大き
いため、作動ガスの流れに雰囲気を巻き込むことにな
り、このため、劣悪な雰囲気、例えば溶鋼加熱に使用す
る場合、雰囲気に存在する金属蒸気、フラックスガス、
ダスト、酸素などを作動ガスの流れに巻き込むことにな
る。
したがって、溶鋼への吸収がなく、かつ溶鋼を酸化さ
せないArを、作動ガスに使用していても、金属蒸気、フ
ラックスガス、ダストなどを巻き込むために作動ガス中
のインピーダンス(電気抵抗)を低下させることにな
り、電流値を小さく抑えて電圧を大きくして高出力を得
ることができなくなるという問題がある。
特に、溶鋼面から発生した金属蒸気は、2次アークの
発生を助長するとともに、プラズマアークを移行しやす
くするため、アーク長を大きくしても、トーチ間で金属
蒸気を介して非移行アークが発生するため、電圧を大き
くしにくくしている。また、雰囲気中の酸素は電極にタ
ングステンを使用している場合、500℃以上でタングス
テンを急激に酸化し、酸化タングステンを形成し、この
酸化タングステンは600℃程度で激しく昇華し、電極の
消耗を速めることになる。
(課題を解決するための手段) 本発明は上記の問題点を解決するためのプラズマ作動
ガスと雰囲気との流体剪断抵抗を小さくする方法とその
装置に係わるもので、本発明は、中心部に電極を配置
し、その外周に複数のプラズマ作動ガス供給流路を配設
し、前記複数の供給流路に作動ガスを供給するに際し、
前記供給流路に対するプラズマ作動ガスの流速を外周に
到るにしたがい低流速となるように供給するプラズマト
ーチにおけるプラズマ作動ガス供給方法である。
(作用) 本発明者等は作動ガスによる雰囲気の巻き込み状況が
ノズルと電極の位置関係でどのように変化するか数値解
析を行い、雰囲気の巻き込みやすさの判定基準として、
乱流エネルギを用いて検討した。すなわち、乱流エネル
ギの大きい流れほど、小さな渦を流れの中に多く保有し
ており、雰囲気を巻き込みやすいと言える。数値解析結
果を第4図に示す。第4図は作動ガスの供給における乱
流エネルギ(速度変動成分の平均値)分布を示し、
(a)は従来法(作動ガス供給流路一個)、(b)は作
動ガス供給流路二個のものである。なお、図は中心線を
挟んで上下対象のため、下部は省略してある。また、
(b)(供給流路二個のもの)については、外側の作動
ガス供給流路からの作動ガスの供給速度は内側からの供
給速度の1/2である。
第4図から明らかなように、(b)の乱流エネルギ分
布のピークは(a)のそれよりも低くなっている。この
ことは、外側の作動ガス供給流路からの作動ガスの供給
速度を小さくして雰囲気との相対速度を小さくすること
が、乱流エネルギを小さく抑え、雰囲気の巻き込みを抑
制する緩衝作用を持つことを示している。
したがって、プラズマトーチに複数の作動ガス供給流
路を設けて、作動ガスを複数層にして供給する方法は、
外側の作動ガス供給流路から供給する作動ガスが雰囲気
との緩衝作用を持つことになり、作動ガスの供給による
雰囲気の巻き込みを軽減することができ、かつ、内側の
作動ガス供給流路から供給される作動ガスはより安定し
た流れとなる。なお、作動ガス供給流路からの作動ガス
の供給速度は、雰囲気の巻き込みを抑制する緩衝作用を
持たせるために、内側から外側に到るにしたがい、低速
度にする必要がある。
(実施例) 以下に本発明の実施例について説明する。
第1図は本発明に係わるプラズマトーチの概略図を示
す。図中1は電極、2はノズル、3は隔壁、4は第1の
作動ガス供給流路、5は第2の作動ガス供給流路、6は
作動ガス供給流路、7は速度調節器を示す。ノズル2と
電極1の間に隔壁3を設け、この隔壁3で第1の作動ガ
ス供給流路4と第2の作動ガス供給流路5を分離する。
第1の作動ガス供給流路4と第2の作動ガス供給流路5
は速度調節器7を介して作動ガス供給路6に接続されて
いる。なお、ノズル2の冷却は第5図に示す方法と同様
に循環冷却水で行っている。
作動ガスの供給にあたっては、作動ガス供給流路6か
らの作動ガスを速度調節器7で第1の作動ガス供給流路
4と第2の作動ガス供給流路5の二つに分け、かつ、そ
れぞれの供給速度に調節して、第1の作動ガス供給流路
4と第2の作動ガス供給流路5から供給する。
つぎに、このプラズマトーチにおける供給作動ガスに
よる雰囲気の巻き込み状態について説明する。雰囲気の
巻き込み状態は作動ガスの雰囲気への拡散状態を数値解
析することによって求めた。作動ガスにはArを用い、雰
囲気のAr濃度は0%とした。解析結果を第2図に示す。
第2図は作動ガスの濃度分布を示し、(a)は従来法
(作動ガス供給流路一個)、(b)は本発明法によるも
のである。なお、図は中心線を挟んで上下対象のため、
下部は省略してある。また、本発明法については、第2
の作動ガス供給速度は第1の作動ガス供給速度の1/2で
ある。
第2図から明らかなように、本発明法(b)のArの雰
囲気への拡散濃度は従来法(a)のそれよりも高くなっ
ている。一方、ノズル中心部のAr濃度は従来法(a)の
それよりも高く安定している。すなわち、本発明法の方
が従来法よりも雰囲気の巻き込みが少ないことを示して
いる。
作動ガスにArを用いた溶鋼加熱の実操業では、雰囲気
の巻き込みが少ないため、電流値を小さく抑えた高出力
操業が可能で、ジュール熱による電極の消耗も最小限に
することができた。
第3図に変形実施例のプラズマトーチの概略図を示
す。
第3図は隔壁3をノズル2の先端より引っ込めたもの
で、こうすることによって、第2の作動ガス供給流路5
から供給される作動ガスの流れがノズル2の先端により
内側に向けられ、作動ガスの持つ圧力の解放方向は内向
きとなり、雰囲気の巻き込みをさらに軽減することがで
きる。
(発明の効果) 以上説明したように本発明は、作動ガスの供給による
雰囲気の巻き込みを軽減するために、複数の作動ガスの
供給流路を設けたプラズマトーチを用いて、作動ガスを
多層にして供給し、外側の作動ガスの供給速度を内側の
作動ガスの供給速度よりも小さくして供給する方法であ
る。このプラズマトーチを用いて作動ガスを供給するこ
とによって、金属蒸気、フラックスガス、ダスト、酸素
などの作動ガスおよび電極に悪影響を及ぼす雰囲気にお
いても、電流値を小さく抑えて高出力を得ることがで
き、かつ電極の消耗も最小限にすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係わるプラズマトーチの概略図を示
す。 第2図(a)は従来法の、(b)は本発明方の作動ガス
の濃度分布を示す図である。 第3図は変形実施例のプラズマトーチの概略図を示す図
である。 第4図(a)は従来法の、(b)は作動ガス供給流路二
個のものの乱流エネルギ分布を示す図である。 第5図は従来技術のプラズマトーチの概略図を示す図で
ある。 1……電極、2……ノズル、3……隔壁、4……第1の
作動ガス供給流路、5……第2の作動ガス供給流路、6
……作動ガス供給流路、7……速度調節器、51……電
極、52……ノズル、53……プラズマ作動ガス流路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H05H 1/34 B23K 10/00 C23C 4/12

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】中心部に電極を配置し、その外周に複数の
    プラズマ作動ガス供給流路を配設し、前記複数の供給流
    路に作動ガスを供給するに際し、前記供給流路に対する
    プラズマ作動ガスの流速を外周に到るにしたがい低流速
    となるように供給することを特徴とするプラズマトーチ
    におけるプラズマ作動ガス供給方法。
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