JP2001332399A - プラズマ発生装置及びこれを用いた表面清掃方法 - Google Patents
プラズマ発生装置及びこれを用いた表面清掃方法Info
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- JP2001332399A JP2001332399A JP2000154993A JP2000154993A JP2001332399A JP 2001332399 A JP2001332399 A JP 2001332399A JP 2000154993 A JP2000154993 A JP 2000154993A JP 2000154993 A JP2000154993 A JP 2000154993A JP 2001332399 A JP2001332399 A JP 2001332399A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電極およびその周辺の温度を高温プラズマ流
が常時正常に生成されるとともに、電極の過熱の発生に
よる焼損を回避できる適正温度に保持できるプラズマ発
生装置及びこれを用いた表面清掃方法を提供する。 【解決手段】 陰極の電極と、該電極を囲み作動流体室
が内部に形成された陽極のノズルとの間に発生させたア
ークにより作動流体を媒体としてプラズマ流を生成する
プラズマ発生装置において、ノズルの外部に水蒸気発生
装置を設け、ノズルの内部には、水蒸気発生装置で生成
された水蒸気を作動流体室に導く水蒸気通路を設けてな
ることを特徴とする。また、前記プラズマ発生装置を、
被清掃表面に近接させて、プラズマ流を前記被清掃表面
に吹き付け、該表面に付着した異物を除去する。
が常時正常に生成されるとともに、電極の過熱の発生に
よる焼損を回避できる適正温度に保持できるプラズマ発
生装置及びこれを用いた表面清掃方法を提供する。 【解決手段】 陰極の電極と、該電極を囲み作動流体室
が内部に形成された陽極のノズルとの間に発生させたア
ークにより作動流体を媒体としてプラズマ流を生成する
プラズマ発生装置において、ノズルの外部に水蒸気発生
装置を設け、ノズルの内部には、水蒸気発生装置で生成
された水蒸気を作動流体室に導く水蒸気通路を設けてな
ることを特徴とする。また、前記プラズマ発生装置を、
被清掃表面に近接させて、プラズマ流を前記被清掃表面
に吹き付け、該表面に付着した異物を除去する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ごみ処理設備用溶
融炉、スクラップ溶解炉、材料の加熱切断装置等に使用
され、陰極に保持された電極と陽極に保持されたノズル
との間にアーク放電を発生させ、該アーク放電により作
動流体を媒体としてプラズマ流を生成するプラズマ発生
装置及び該プラズマ発生装置を用いての表面清掃方法に
関する。
融炉、スクラップ溶解炉、材料の加熱切断装置等に使用
され、陰極に保持された電極と陽極に保持されたノズル
との間にアーク放電を発生させ、該アーク放電により作
動流体を媒体としてプラズマ流を生成するプラズマ発生
装置及び該プラズマ発生装置を用いての表面清掃方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】ごみ処理設備の灰溶融炉、スクラップ溶
解炉や材料の加熱切断装置に、近年多く使用されている
プラズマ発生装置は、陰極に保持された電極と陽極に保
持されたノズルとの間に生成されるアーク放電部の周囲
をガス流あるいは液体流で冷却することにより、エネル
ギー密度が著しく増大した高温のガス流即ちプラズマ流
を生成するものである。図5はごみ処理設備の灰溶融
炉、スクラップ溶解炉に用いられているプラズマ発生装
置100の1例を示す。同図において、1は該プラズマ
発生装置100のノズル、2は該ノズル1の中心部に設
けられた電極で、該ノズル1が陽極、電極2が陰極に保
持されている。53は前記電極2の周囲に形成されたガ
ス通路、4は該ガス通路53の外側に隔壁053を隔て
て形成された冷却水室、54は前記ノズル1中心部の電
極2上部に形成された中央室である。
解炉や材料の加熱切断装置に、近年多く使用されている
プラズマ発生装置は、陰極に保持された電極と陽極に保
持されたノズルとの間に生成されるアーク放電部の周囲
をガス流あるいは液体流で冷却することにより、エネル
ギー密度が著しく増大した高温のガス流即ちプラズマ流
を生成するものである。図5はごみ処理設備の灰溶融
炉、スクラップ溶解炉に用いられているプラズマ発生装
置100の1例を示す。同図において、1は該プラズマ
発生装置100のノズル、2は該ノズル1の中心部に設
けられた電極で、該ノズル1が陽極、電極2が陰極に保
持されている。53は前記電極2の周囲に形成されたガ
ス通路、4は該ガス通路53の外側に隔壁053を隔て
て形成された冷却水室、54は前記ノズル1中心部の電
極2上部に形成された中央室である。
【0003】3は前記ノズル1(陽極)と電極2(陰
極)との間に高周波放電を生起させる直流電源装置で該
ノズル1(陽極)及び電極2(陰極)に結線されてい
る。51はアーク放電部を冷却する窒素、アルゴン等の
作動ガスを生成する作動ガス源で、作動ガス管52によ
り前記ノズル1内のガス通路53に接続されている。5
は前記ノズル1を冷却するための冷却水を供給(あるい
は貯蔵)するための冷却水供給源で、該冷却水供給源5
は水入口管6及び水戻り管7を介して前記ノズル1の冷
却水室4に接続されて、冷却水の循環路を構成してい
る。該水入口管6には冷却水を循環させるための水ポン
プ8及び水入口管6を開閉する水バルブ9が配設されて
いる。また、前記中央室54には冷却用の水、あるいは
非冷却の場合は空気が存する空間となっている。
極)との間に高周波放電を生起させる直流電源装置で該
ノズル1(陽極)及び電極2(陰極)に結線されてい
る。51はアーク放電部を冷却する窒素、アルゴン等の
作動ガスを生成する作動ガス源で、作動ガス管52によ
り前記ノズル1内のガス通路53に接続されている。5
は前記ノズル1を冷却するための冷却水を供給(あるい
は貯蔵)するための冷却水供給源で、該冷却水供給源5
は水入口管6及び水戻り管7を介して前記ノズル1の冷
却水室4に接続されて、冷却水の循環路を構成してい
る。該水入口管6には冷却水を循環させるための水ポン
プ8及び水入口管6を開閉する水バルブ9が配設されて
いる。また、前記中央室54には冷却用の水、あるいは
非冷却の場合は空気が存する空間となっている。
【0004】かかるプラズマ発生装置100において、
前記直流電源装置3から印加される高周波高電圧によ
り、ノズル1(陽極)と電極2(陰極)との間にアーク
放電が発生し、このアーク放電空間にあるガス通路53
に前記作動ガス源51からの作動ガス源を通すことによ
り高温のプラズマ流101が生成され、ノズル噴口1a
からノズル外部に噴出せしめられる。この高温プラズマ
流101を溶融炉内、スクラップ溶解炉内、に供給され
てくる灰スクラップの表面に連続的に放射することによ
り、灰スクラップを溶融せしめる。また、実用化されて
いないが、作動ガスを水蒸気とする事例がある。
前記直流電源装置3から印加される高周波高電圧によ
り、ノズル1(陽極)と電極2(陰極)との間にアーク
放電が発生し、このアーク放電空間にあるガス通路53
に前記作動ガス源51からの作動ガス源を通すことによ
り高温のプラズマ流101が生成され、ノズル噴口1a
からノズル外部に噴出せしめられる。この高温プラズマ
流101を溶融炉内、スクラップ溶解炉内、に供給され
てくる灰スクラップの表面に連続的に放射することによ
り、灰スクラップを溶融せしめる。また、実用化されて
いないが、作動ガスを水蒸気とする事例がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5に
示されるような、従来の、作動ガスに水蒸気を用いるプ
ラズマ発生装置にあっては、次のような問題点を有して
いる。即ち、前記のようなアーク放電がなされる電極2
の周辺はきわめて高温になるため、前記ガス通路53の
外側に隔壁053を隔てて形成された冷却水室4内に冷
却水を供給して該高温部を冷却しているが、かかる冷却
を行っても電極2が過熱し、これが焼損を起こすことが
多々ある。かかる電極2の焼損を回避するため、電極2
の上部に形成された中央室54内に冷却水を導入して、
前記電極2およびその周辺を冷却する手段が用いられて
いる。しかしながら、かかる手段による場合は、冷却水
による冷却度が過大になると、電極2の周辺の温度が過
小となって、作動ガスの結露生成等により、プラズマ流
が発生しなくなることがある。
示されるような、従来の、作動ガスに水蒸気を用いるプ
ラズマ発生装置にあっては、次のような問題点を有して
いる。即ち、前記のようなアーク放電がなされる電極2
の周辺はきわめて高温になるため、前記ガス通路53の
外側に隔壁053を隔てて形成された冷却水室4内に冷
却水を供給して該高温部を冷却しているが、かかる冷却
を行っても電極2が過熱し、これが焼損を起こすことが
多々ある。かかる電極2の焼損を回避するため、電極2
の上部に形成された中央室54内に冷却水を導入して、
前記電極2およびその周辺を冷却する手段が用いられて
いる。しかしながら、かかる手段による場合は、冷却水
による冷却度が過大になると、電極2の周辺の温度が過
小となって、作動ガスの結露生成等により、プラズマ流
が発生しなくなることがある。
【0006】また、前記のような電極2の過熱による焼
損を回避可能な手段として、特開平2−205270号
の技術が提案されている。かかる発明においては、ノズ
ル内の冷却水通路内に冷却水を導入し該ノズルの熱によ
り沸騰点まで加熱して水蒸気を発生させ、該水蒸気をア
ーク放電空間内に噴出させて該水蒸気を作動ガスとする
高温プラズマ流を生成している。しかしながら、かかる
発明の手段においては、ノズル自体の温度により水を加
熱して水蒸気を発生させているため、ノズル温度が低く
なった場合には水蒸気を発生が充分になされず、あるい
は結露を生じてプラズマ流が発生しなくなるという不具
合の発生をみる。
損を回避可能な手段として、特開平2−205270号
の技術が提案されている。かかる発明においては、ノズ
ル内の冷却水通路内に冷却水を導入し該ノズルの熱によ
り沸騰点まで加熱して水蒸気を発生させ、該水蒸気をア
ーク放電空間内に噴出させて該水蒸気を作動ガスとする
高温プラズマ流を生成している。しかしながら、かかる
発明の手段においては、ノズル自体の温度により水を加
熱して水蒸気を発生させているため、ノズル温度が低く
なった場合には水蒸気を発生が充分になされず、あるい
は結露を生じてプラズマ流が発生しなくなるという不具
合の発生をみる。
【0007】本発明はかかる従来技術の課題に鑑み、電
極およびその周辺の温度を高温プラズマ流が常時正常に
生成されるとともに、電極の過熱の発生による焼損を回
避できる適正温度に保持できるプラズマ発生装置及びこ
れを用いた表面清掃方法を提供することを目的とする。
極およびその周辺の温度を高温プラズマ流が常時正常に
生成されるとともに、電極の過熱の発生による焼損を回
避できる適正温度に保持できるプラズマ発生装置及びこ
れを用いた表面清掃方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解
決するため、請求項1記載の発明として、陰極に保持さ
れた電極と、該電極を囲み作動流体が流動する作動流体
室が内部に形成されて陽極に保持されたノズルとの間に
アークを発生させ、該アークにより前記作動流体を媒体
としてプラズマ流を生成するプラズマ発生装置におい
て、前記ノズルの外部に水蒸気を発生させる水蒸気発生
装置を設け、前記ノズルの内部には、前記水蒸気発生装
置に接続され該水蒸気発生装置で生成された水蒸気を前
記作動流体室に導く水蒸気通路を設けてなることを特徴
とするプラズマ発生装置を提案する。
決するため、請求項1記載の発明として、陰極に保持さ
れた電極と、該電極を囲み作動流体が流動する作動流体
室が内部に形成されて陽極に保持されたノズルとの間に
アークを発生させ、該アークにより前記作動流体を媒体
としてプラズマ流を生成するプラズマ発生装置におい
て、前記ノズルの外部に水蒸気を発生させる水蒸気発生
装置を設け、前記ノズルの内部には、前記水蒸気発生装
置に接続され該水蒸気発生装置で生成された水蒸気を前
記作動流体室に導く水蒸気通路を設けてなることを特徴
とするプラズマ発生装置を提案する。
【0009】請求項2記載の発明は、前記プラズマ発生
装置の具体的構成の第1例に係り、請求項1において、
前記水蒸気通路は前記ノズル中心部近傍の、前記電極の
上流側部位に設けられるとともに、前記ノズルには前記
水蒸気通路に連通され水蒸気を前記電極の直上流に流出
せしめる水蒸気穴を設けてなることを特徴とする。
装置の具体的構成の第1例に係り、請求項1において、
前記水蒸気通路は前記ノズル中心部近傍の、前記電極の
上流側部位に設けられるとともに、前記ノズルには前記
水蒸気通路に連通され水蒸気を前記電極の直上流に流出
せしめる水蒸気穴を設けてなることを特徴とする。
【0010】請求項3記載の発明は、前記プラズマ発生
装置の具体的構成の第2例に係り、請求項1において、
前記ノズルの、前記作動流体室の外側に該作動流体室と
隔壁を隔てて冷却水が通流する水冷却室を設けるととも
に、該水冷却室からの冷却水戻り通路に前記作動流体室
に供給された水蒸気の一部を還流させるように構成した
ことを特徴とする。尚、前記水蒸気の一部を前記冷却水
と合流しないで水蒸気の戻りラインを別に設置すること
も可能である。
装置の具体的構成の第2例に係り、請求項1において、
前記ノズルの、前記作動流体室の外側に該作動流体室と
隔壁を隔てて冷却水が通流する水冷却室を設けるととも
に、該水冷却室からの冷却水戻り通路に前記作動流体室
に供給された水蒸気の一部を還流させるように構成した
ことを特徴とする。尚、前記水蒸気の一部を前記冷却水
と合流しないで水蒸気の戻りラインを別に設置すること
も可能である。
【0011】かかる発明によれば、アーク熱により高温
化されている作動流体室内に、前記水蒸気通路を経て水
蒸気穴側から水蒸気を導入することにより、アーク放電
空間に水蒸気のプラズマ流が生成され、ノズルの噴口か
らノズル外部に噴出せしめられ、この高温プラズマ流は
溶融炉内の灰スクラップ溶解炉内のスクラップ溶融等に
供せられる。
化されている作動流体室内に、前記水蒸気通路を経て水
蒸気穴側から水蒸気を導入することにより、アーク放電
空間に水蒸気のプラズマ流が生成され、ノズルの噴口か
らノズル外部に噴出せしめられ、この高温プラズマ流は
溶融炉内の灰スクラップ溶解炉内のスクラップ溶融等に
供せられる。
【0012】従ってかかる発明によれば、ノズル中心部
近傍に設けられた水蒸気通路に水蒸気を通しこれを水蒸
気穴から電極の周囲の作動流体室内に噴出せしめている
ので、アーク放電により高温に加熱されている電極は水
蒸気により適度に冷却され、該電極の過熱による溶融の
発生が回避される。また、水よりも高温の水蒸気によっ
て電極周りを冷却しているので、該電極及びその周りの
部材はプラズマ流を正常に発生し得る温度状態に保持さ
れ、該電極及びその周りの部材が過冷却されて結露が生
じ、プラズマ流が発生しなくなるという不具合の発生が
防止される。
近傍に設けられた水蒸気通路に水蒸気を通しこれを水蒸
気穴から電極の周囲の作動流体室内に噴出せしめている
ので、アーク放電により高温に加熱されている電極は水
蒸気により適度に冷却され、該電極の過熱による溶融の
発生が回避される。また、水よりも高温の水蒸気によっ
て電極周りを冷却しているので、該電極及びその周りの
部材はプラズマ流を正常に発生し得る温度状態に保持さ
れ、該電極及びその周りの部材が過冷却されて結露が生
じ、プラズマ流が発生しなくなるという不具合の発生が
防止される。
【0013】また、請求項3のように構成すれば、プラ
ズマ流の生成に供された後の残存水蒸気を水冷却室から
の冷却水戻り通路に合流させて、水蒸気発生装置に還流
させることにより再利用することができ、水の消費量が
節減される。
ズマ流の生成に供された後の残存水蒸気を水冷却室から
の冷却水戻り通路に合流させて、水蒸気発生装置に還流
させることにより再利用することができ、水の消費量が
節減される。
【0014】請求項4記載の発明は、請求項1ないし3
の発明に係るプラズマ発生装置を使用する方法の発明に
係り、陰極に保持された電極と、該電極を囲み作動流体
が流動する作動流体室が内部に形成されて陽極に保持さ
れたノズルとの間にアークを発生させ、該アークにより
前記作動流体を媒体としてプラズマ流を生成するプラズ
マ発生装置を、壁面等の被清掃表面に近接させて、該プ
ラズマ発生装置にて生成されるプラズマ流を前記被清掃
表面に吹き付け、該表面に付着した異物を除去すること
を特徴とする表面清掃方法にある。
の発明に係るプラズマ発生装置を使用する方法の発明に
係り、陰極に保持された電極と、該電極を囲み作動流体
が流動する作動流体室が内部に形成されて陽極に保持さ
れたノズルとの間にアークを発生させ、該アークにより
前記作動流体を媒体としてプラズマ流を生成するプラズ
マ発生装置を、壁面等の被清掃表面に近接させて、該プ
ラズマ発生装置にて生成されるプラズマ流を前記被清掃
表面に吹き付け、該表面に付着した異物を除去すること
を特徴とする表面清掃方法にある。
【0015】かかる発明において、好ましくは請求項5
のように、前記プラズマ流とともに水蒸気または水を前
記被清掃表面に吹き付ける。また、請求項6のように、
前記プラズマ流とともに過酸化水素水等の酸化促進剤を
前記被清掃表面に吹き付ける。
のように、前記プラズマ流とともに水蒸気または水を前
記被清掃表面に吹き付ける。また、請求項6のように、
前記プラズマ流とともに過酸化水素水等の酸化促進剤を
前記被清掃表面に吹き付ける。
【0016】かかる発明によれば、該プラズマ発生装置
からのプラズマ噴流により被清掃表面上の異物を表面か
ら吹き飛ばすことができるとともに、水蒸気による水ア
ークプラズマによってOHラジカル等の酸化力の強い物
質を生成し、汚染異物の中のカーボンや油等を酸化して
炭酸ガスや水にし、該汚染異物を被清掃表面から完全に
除去できる。
からのプラズマ噴流により被清掃表面上の異物を表面か
ら吹き飛ばすことができるとともに、水蒸気による水ア
ークプラズマによってOHラジカル等の酸化力の強い物
質を生成し、汚染異物の中のカーボンや油等を酸化して
炭酸ガスや水にし、該汚染異物を被清掃表面から完全に
除去できる。
【0017】請求項5のように構成すれば、水蒸気また
は水を、前記プラズマ発生装置からの水アークプラズマ
の吹き付け前または吹き付けと同時に被清掃表面の汚染
異物に向けて吹き付けることにより、水アークプラズマ
の吹き付け時における被清掃表面の過熱を防止できると
ともに、汚染異物を軟化させて容易に剥離させることが
できる。また、請求項6のように構成すれば、酸化促進
剤を、プラズマ発生装置からの水アークプラズマの吹き
付け前または吹き付けと同時に被清掃表面の汚染異物に
向けて吹き付けることにより、汚染異物の中のカーボン
や油等を酸化して炭酸ガスや水にする酸化作用がさらに
促進され、汚染異物の除去効果がさらに向上する。
は水を、前記プラズマ発生装置からの水アークプラズマ
の吹き付け前または吹き付けと同時に被清掃表面の汚染
異物に向けて吹き付けることにより、水アークプラズマ
の吹き付け時における被清掃表面の過熱を防止できると
ともに、汚染異物を軟化させて容易に剥離させることが
できる。また、請求項6のように構成すれば、酸化促進
剤を、プラズマ発生装置からの水アークプラズマの吹き
付け前または吹き付けと同時に被清掃表面の汚染異物に
向けて吹き付けることにより、汚染異物の中のカーボン
や油等を酸化して炭酸ガスや水にする酸化作用がさらに
促進され、汚染異物の除去効果がさらに向上する。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示した実施例
を用いて詳細に説明する。但し、この実施例に記載され
ている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置など
は特に特定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれ
のみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎな
い。
を用いて詳細に説明する。但し、この実施例に記載され
ている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置など
は特に特定的な記載がない限り、この発明の範囲をそれ
のみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎな
い。
【0019】図1は本発明の第1実施例に係るプラズマ
発生装置の構成図、図2は第2実施例を示す図1対応
図、図3は前記プラズマ発生装置の使用方法の第1例を
示す構成図、図4は前記プラズマ発生装置の使用方法の
第2例を示す構成図である。
発生装置の構成図、図2は第2実施例を示す図1対応
図、図3は前記プラズマ発生装置の使用方法の第1例を
示す構成図、図4は前記プラズマ発生装置の使用方法の
第2例を示す構成図である。
【0020】第1実施例を示す図1において、100は
プラズマ発生装置、1は該プラズマ発生装置100のノ
ズル、2は該ノズル1の中心部に設けられた電極で、該
ノズル1が陽極、電極2が陰極に保持されている。13
は前記電極2の周囲に形成された水蒸気室、4は該水蒸
気室13の外側に隔壁053を隔てて形成された冷却水
室である。011は前記ノズル1中心部に設けられた円
筒状の通路壁で、該通路壁の下端部に前記電極2が固定
されている。11は前記円筒状の通路壁011に囲まれ
て形成された水蒸気通路である。12は前記通路壁01
1の下部に穿孔された水蒸気穴である。該水蒸気穴12
は前記通路壁011に円周方向に沿って複数個(この例
では2個。1個でも良い)設けられ、前記水蒸気通路1
1の下端部と前記水蒸気室13とを連通している。1a
は前記ノズル1の中心下部に穿孔されたノズル噴口であ
る。
プラズマ発生装置、1は該プラズマ発生装置100のノ
ズル、2は該ノズル1の中心部に設けられた電極で、該
ノズル1が陽極、電極2が陰極に保持されている。13
は前記電極2の周囲に形成された水蒸気室、4は該水蒸
気室13の外側に隔壁053を隔てて形成された冷却水
室である。011は前記ノズル1中心部に設けられた円
筒状の通路壁で、該通路壁の下端部に前記電極2が固定
されている。11は前記円筒状の通路壁011に囲まれ
て形成された水蒸気通路である。12は前記通路壁01
1の下部に穿孔された水蒸気穴である。該水蒸気穴12
は前記通路壁011に円周方向に沿って複数個(この例
では2個。1個でも良い)設けられ、前記水蒸気通路1
1の下端部と前記水蒸気室13とを連通している。1a
は前記ノズル1の中心下部に穿孔されたノズル噴口であ
る。
【0021】3は前記ノズル1(陽極)と電極2(陰
極)との間に高周波放電を生起させる直流電源装置で該
ノズル1(陽極)及び電極2(陰極)に結線されてい
る。5は前記ノズル1を冷却するための冷却水を供給
(あるいは貯蔵)するための冷却水供給源で、該冷却水
供給源5は水入口管6及び水戻り管7を介して前記ノズ
ル1の冷却水室4に接続されて、冷却水の循環路を構成
している。該水入口管6には冷却水を循環させるための
水ポンプ8及び水入口管6を開閉する水バルブ9が配設
されている。10は水蒸気を生成する水蒸気発生装置
で、前記ノズル1の外部に設けられるとともに、前記冷
却水供給源5に水管05により接続され、水蒸気の原料
水を導入するようになっている。該水蒸気発生装置10
の出口は、水蒸気管15により前記水蒸気室13に接続
されるとともに、該水蒸気管15から分岐された水蒸気
管14により前記水蒸気通路11に接続されている。前
記水蒸気管15には前記水蒸気発生装置10で発生した
水蒸気を前記水蒸気室13及び水蒸気通路11に搬送す
る水蒸気供給装置16及び該水蒸気管15を開閉する水
蒸気弁17が設けられている。
極)との間に高周波放電を生起させる直流電源装置で該
ノズル1(陽極)及び電極2(陰極)に結線されてい
る。5は前記ノズル1を冷却するための冷却水を供給
(あるいは貯蔵)するための冷却水供給源で、該冷却水
供給源5は水入口管6及び水戻り管7を介して前記ノズ
ル1の冷却水室4に接続されて、冷却水の循環路を構成
している。該水入口管6には冷却水を循環させるための
水ポンプ8及び水入口管6を開閉する水バルブ9が配設
されている。10は水蒸気を生成する水蒸気発生装置
で、前記ノズル1の外部に設けられるとともに、前記冷
却水供給源5に水管05により接続され、水蒸気の原料
水を導入するようになっている。該水蒸気発生装置10
の出口は、水蒸気管15により前記水蒸気室13に接続
されるとともに、該水蒸気管15から分岐された水蒸気
管14により前記水蒸気通路11に接続されている。前
記水蒸気管15には前記水蒸気発生装置10で発生した
水蒸気を前記水蒸気室13及び水蒸気通路11に搬送す
る水蒸気供給装置16及び該水蒸気管15を開閉する水
蒸気弁17が設けられている。
【0022】かかる構成からなるプラズマ発生装置10
0において、前記直流電源装置3から印加される高周波
高電圧により、水蒸気室13内のノズル1(陽極)と電
極2(陰極)との間にアーク放電が発生し、該アーク放
電空間の周囲つまり電極2及び前記ノズル1の該電極2
周辺部位はアーク熱により急速に加熱される。次いで、
前記水蒸気弁17を開くと、前記水蒸気発生装置10に
て生成された水蒸気が水蒸気供給装置16により水蒸気
管15を通って水蒸気室13内に導入される。また、前
記水蒸気は、前記水蒸気管15から分岐された水蒸気管
14を通ってノズル1中央の水蒸気通路11に入った
後、通路壁011に設けられた水蒸気穴12を通って前
記水蒸気室13の下部空間つまり前記アーク放電空間に
噴出せしめられる。
0において、前記直流電源装置3から印加される高周波
高電圧により、水蒸気室13内のノズル1(陽極)と電
極2(陰極)との間にアーク放電が発生し、該アーク放
電空間の周囲つまり電極2及び前記ノズル1の該電極2
周辺部位はアーク熱により急速に加熱される。次いで、
前記水蒸気弁17を開くと、前記水蒸気発生装置10に
て生成された水蒸気が水蒸気供給装置16により水蒸気
管15を通って水蒸気室13内に導入される。また、前
記水蒸気は、前記水蒸気管15から分岐された水蒸気管
14を通ってノズル1中央の水蒸気通路11に入った
後、通路壁011に設けられた水蒸気穴12を通って前
記水蒸気室13の下部空間つまり前記アーク放電空間に
噴出せしめられる。
【0023】前記のようにして、アーク熱により高温化
されている水蒸気室13内に、前記水蒸気管15を経て
その上部側から、及び前記水蒸気管14、水蒸気通路1
1を経て水蒸気穴12側から、水蒸気を夫々導入するこ
とにより、前記アーク放電空間に水蒸気のプラズマ流1
01が生成され、ノズル噴口1aからノズル外部に噴出
せしめられる。そして、この高温プラズマ流101を溶
融炉内、スクラップ溶解炉内に供給されてくるスクラッ
プ灰の表面に連続的に放射することにより、スクラップ
灰を溶融せしめる。
されている水蒸気室13内に、前記水蒸気管15を経て
その上部側から、及び前記水蒸気管14、水蒸気通路1
1を経て水蒸気穴12側から、水蒸気を夫々導入するこ
とにより、前記アーク放電空間に水蒸気のプラズマ流1
01が生成され、ノズル噴口1aからノズル外部に噴出
せしめられる。そして、この高温プラズマ流101を溶
融炉内、スクラップ溶解炉内に供給されてくるスクラッ
プ灰の表面に連続的に放射することにより、スクラップ
灰を溶融せしめる。
【0024】かかる実施例において、ノズル1中央部に
設けられた水蒸気通路11に水蒸気を通しこれを水蒸気
穴12から電極2の周囲の水蒸気室13内に噴出せしめ
ているので、前記アーク放電により高温に加熱されてい
る電極2は水蒸気により適度に冷却され、該電極2の過
熱による溶融の発生が回避される。また、水よりも高温
の水蒸気によって電極2周りを冷却しているので、該電
極2及びその周りの部材はプラズマ流を正常に発生し得
る温度状態に保持され、該電極2及びその周りの部材が
過冷却されて結露が生じ、プラズマ流が発生しなくなる
という不具合の発生が防止される。
設けられた水蒸気通路11に水蒸気を通しこれを水蒸気
穴12から電極2の周囲の水蒸気室13内に噴出せしめ
ているので、前記アーク放電により高温に加熱されてい
る電極2は水蒸気により適度に冷却され、該電極2の過
熱による溶融の発生が回避される。また、水よりも高温
の水蒸気によって電極2周りを冷却しているので、該電
極2及びその周りの部材はプラズマ流を正常に発生し得
る温度状態に保持され、該電極2及びその周りの部材が
過冷却されて結露が生じ、プラズマ流が発生しなくなる
という不具合の発生が防止される。
【0025】図2に示されるプラズマ発生装置の第2実
施例においては、前記水蒸気発生装置10にて生成され
た水蒸気を、水蒸気管14を通してノズル中央の水蒸気
通路11に導入し、水蒸気穴12を通して前記水蒸気室
13の下部空間つまり前記アーク放電空間に噴出せしめ
て、プラズマ流101を発生させる一方、該水蒸気室1
3の残存水蒸気を該水蒸気室13から水蒸気戻り管20
を通して前記冷却水室4からの水戻り管7に合流させ
て、冷却水供給源5に戻している。その他の構成は前記
第1実施例と同様であり、これと同一の部材は同一の符
号で示す。
施例においては、前記水蒸気発生装置10にて生成され
た水蒸気を、水蒸気管14を通してノズル中央の水蒸気
通路11に導入し、水蒸気穴12を通して前記水蒸気室
13の下部空間つまり前記アーク放電空間に噴出せしめ
て、プラズマ流101を発生させる一方、該水蒸気室1
3の残存水蒸気を該水蒸気室13から水蒸気戻り管20
を通して前記冷却水室4からの水戻り管7に合流させ
て、冷却水供給源5に戻している。その他の構成は前記
第1実施例と同様であり、これと同一の部材は同一の符
号で示す。
【0026】かかる実施例によれば、プラズマ流101
の生成に供された後の残存水蒸気を冷却水の循環路に合
流させて、冷却水供給源5を経て水蒸気発生装置10に
還流させることにより再利用することができ、水の消費
量が節減される。
の生成に供された後の残存水蒸気を冷却水の循環路に合
流させて、冷却水供給源5を経て水蒸気発生装置10に
還流させることにより再利用することができ、水の消費
量が節減される。
【0027】次に、前記プラズマ発生装置の使用方法の
第1例につき図3を参照して説明すると、この例では、
壁21の壁面22に付着した汚染物23を除去するの
に、前記第1、2実施例に係るプラズマ発生装置100
を使用している。前記プラズマ発生装置100によっ
て、前記水蒸気により生成された水アークプラズマ(プ
ラズマ流)101を前記壁面22の汚染物23に吹き付
けると、該プラズマ噴流により該汚染物23が壁面22
から吹き飛ばされるとともに、前記水アークプラズマ1
01によってOHラジカル等の酸化力の強い物質を生成
し、汚染物23の中のカーボンや油等を酸化して炭酸ガ
スや水にする。これにより、該汚染物23は壁面22か
ら完全に除去される。
第1例につき図3を参照して説明すると、この例では、
壁21の壁面22に付着した汚染物23を除去するの
に、前記第1、2実施例に係るプラズマ発生装置100
を使用している。前記プラズマ発生装置100によっ
て、前記水蒸気により生成された水アークプラズマ(プ
ラズマ流)101を前記壁面22の汚染物23に吹き付
けると、該プラズマ噴流により該汚染物23が壁面22
から吹き飛ばされるとともに、前記水アークプラズマ1
01によってOHラジカル等の酸化力の強い物質を生成
し、汚染物23の中のカーボンや油等を酸化して炭酸ガ
スや水にする。これにより、該汚染物23は壁面22か
ら完全に除去される。
【0028】図4に示される前記プラズマ発生装置の使
用方法の第2例においては、前記第1例に加えて、補助
剤供給手段24により補助剤を供給するようにしてい
る。即ち、図4において24は補助剤供給手段であり、
後述するように、補助剤を前 記壁面22の汚染物23
に向けて吹き付けるように構成されている。該補助剤の
1例として水蒸気または水を用い、補助剤供給手段24
により前記水蒸気または水を、前記プラズマ発生装置1
00からの水アークプラズマ101の吹き付け前または
吹き付けと同時に前記壁面22の汚染物23に向けて吹
き付ける。これにより、水アークプラズマ101の吹き
付け時における壁面22の過熱を防止できるとともに、
汚染物23を軟化させて容易に剥離させることができ
る。
用方法の第2例においては、前記第1例に加えて、補助
剤供給手段24により補助剤を供給するようにしてい
る。即ち、図4において24は補助剤供給手段であり、
後述するように、補助剤を前 記壁面22の汚染物23
に向けて吹き付けるように構成されている。該補助剤の
1例として水蒸気または水を用い、補助剤供給手段24
により前記水蒸気または水を、前記プラズマ発生装置1
00からの水アークプラズマ101の吹き付け前または
吹き付けと同時に前記壁面22の汚染物23に向けて吹
き付ける。これにより、水アークプラズマ101の吹き
付け時における壁面22の過熱を防止できるとともに、
汚染物23を軟化させて容易に剥離させることができ
る。
【0029】該補助剤の他の例として過酸化水素水等の
酸化促進剤を用い、補助剤供給手段24により前記酸化
促進剤を、前記プラズマ発生装置100からの水アーク
プラズマ101の吹き付け前または吹き付けと同時に前
記壁面22の汚染物23に向けて吹き付ける。これによ
り、汚染物23の中のカーボンや油等を酸化して炭酸ガ
スや水にする酸化作用がさらに促進され、汚染物23の
除去効果がさらに向上する。
酸化促進剤を用い、補助剤供給手段24により前記酸化
促進剤を、前記プラズマ発生装置100からの水アーク
プラズマ101の吹き付け前または吹き付けと同時に前
記壁面22の汚染物23に向けて吹き付ける。これによ
り、汚染物23の中のカーボンや油等を酸化して炭酸ガ
スや水にする酸化作用がさらに促進され、汚染物23の
除去効果がさらに向上する。
【0030】
【発明の効果】以上記載の如く請求項1ないし3の発明
によれば、ノズル中心部近傍に設けられた水蒸気通路に
水蒸気を通しこれを水蒸気穴から電極の周囲の作動流体
室内に噴出せしめているので、アーク放電により高温に
加熱されている電極は水蒸気により適度に冷却され、該
電極の過熱による溶融の発生を防止することができる。
また、水よりも高温の水蒸気によって電極周りを冷却し
ているので、該電極及びその周りの部材はプラズマ流を
正常に発生し得る温度状態に保持され、該電極及びその
周りの部材が過冷却されて結露が生じ、プラズマ流が発
生しなくなるという不具合の発生が防止される。
によれば、ノズル中心部近傍に設けられた水蒸気通路に
水蒸気を通しこれを水蒸気穴から電極の周囲の作動流体
室内に噴出せしめているので、アーク放電により高温に
加熱されている電極は水蒸気により適度に冷却され、該
電極の過熱による溶融の発生を防止することができる。
また、水よりも高温の水蒸気によって電極周りを冷却し
ているので、該電極及びその周りの部材はプラズマ流を
正常に発生し得る温度状態に保持され、該電極及びその
周りの部材が過冷却されて結露が生じ、プラズマ流が発
生しなくなるという不具合の発生が防止される。
【0031】また請求項4ないし6の発明によれば、プ
ラズマ発生装置からのプラズマ噴流により被清掃表面上
の異物を表面から吹き飛ばすことができるとともに、水
蒸気による水アークプラズマによってOHラジカル等の
酸化力の強い物質を生成し、汚染異物の中のカーボンや
油等を酸化して炭酸ガスや水にし、該汚染異物を被清掃
表面から完全に除去できる。
ラズマ発生装置からのプラズマ噴流により被清掃表面上
の異物を表面から吹き飛ばすことができるとともに、水
蒸気による水アークプラズマによってOHラジカル等の
酸化力の強い物質を生成し、汚染異物の中のカーボンや
油等を酸化して炭酸ガスや水にし、該汚染異物を被清掃
表面から完全に除去できる。
【図1】 本発明の第1実施例に係るプラズマ発生装置
の構成図である。
の構成図である。
【図2】 第2実施例を示す図1対応図である。
【図3】 前記プラズマ発生装置の使用方法の第1例を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図4】 前記プラズマ発生装置の使用方法の第2例を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図5】 従来技術を示す図1対応図である。
1 ノズル 1a ノズル噴口 2 電極 3 直流電源装置 4 冷却水室 5 冷却水供給源 6 水入口管 7 水戻り管 10 水蒸気発生装置 11 水蒸気通路 011 通路壁 12 水蒸気穴 13 水蒸気室 14、15 水蒸気管 20 水蒸気戻り管 21 壁 22 壁面 23 汚染物 24 補助剤供給手段 053 隔壁 100 プラズマ発生装置 101 プラズマ流
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3B116 AA46 AB51 BB11 BB22 BB32 BB88 BB89 BC01 3B201 AA46 AB51 BB13 BB22 BB32 BB88 BB89 BB92 BB98 BC01 4K063 AA04 AA12 FA52
Claims (6)
- 【請求項1】 陰極に保持された電極と、該電極を囲み
作動流体が流動する作動流体室が内部に形成されて陽極
に保持されたノズルとの間にアークを発生させ、該アー
クにより前記作動流体を媒体としてプラズマ流を生成す
るプラズマ発生装置において、前記ノズルの外部に水蒸
気を発生させる水蒸気発生装置を設け、前記ノズルの内
部には、前記水蒸気発生装置に接続され該水蒸気発生装
置で生成された水蒸気を前記作動流体室に導く水蒸気通
路を設けてなることを特徴とするプラズマ発生装置。 - 【請求項2】 前記水蒸気通路は前記ノズル中心部近傍
の、前記電極の上流側部位に設けられるとともに、前記
ノズルには前記水蒸気通路に連通され水蒸気を前記電極
の直上流に流出せしめる水蒸気穴を設けてなることを特
徴とする請求項1記載のプラズマ発生装置。 - 【請求項3】 前記ノズルの、前記作動流体室の外側に
該作動流体室と隔壁を隔てて冷却水が通流する水冷却室
を設けるとともに、該水冷却室からの冷却水戻り通路に
前記作動流体室に供給された水蒸気の一部を還流させる
ように構成したことを特徴とする請求項1記載のプラズ
マ発生装置。 - 【請求項4】 陰極に保持された電極と、該電極を囲み
作動流体が流動する作動流体室が内部に形成されて陽極
に保持されたノズルとの間にアークを発生させ、該アー
クにより前記作動流体を媒体としてプラズマ流を生成す
るプラズマ発生装置を、壁面等の被清掃表面に近接させ
て、該プラズマ発生装置にて生成されるプラズマ流を前
記被清掃表面に吹き付け、該表面に付着した異物を除去
することを特徴とする表面清掃方法。 - 【請求項5】 前記プラズマ流とともに水蒸気または水
を前記被清掃表面に吹き付けることを特徴とする請求項
4記載の表面清掃方法。 - 【請求項6】 前記プラズマ流とともに過酸化水素水等
の酸化促進剤を前記被清掃表面に吹き付けることを特徴
とする請求項4記載の表面清掃方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000154993A JP2001332399A (ja) | 2000-05-25 | 2000-05-25 | プラズマ発生装置及びこれを用いた表面清掃方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000154993A JP2001332399A (ja) | 2000-05-25 | 2000-05-25 | プラズマ発生装置及びこれを用いた表面清掃方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001332399A true JP2001332399A (ja) | 2001-11-30 |
Family
ID=18660003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000154993A Withdrawn JP2001332399A (ja) | 2000-05-25 | 2000-05-25 | プラズマ発生装置及びこれを用いた表面清掃方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001332399A (ja) |
Cited By (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002276910A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-25 | Univ Chuo | 廃棄物等の処理装置 |
JP2006216468A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Toyohashi Univ Of Technology | プラズマ表面処理方法、プラズマ生成装置及びプラズマ表面処理装置 |
WO2007148470A1 (ja) * | 2006-06-22 | 2007-12-27 | River Bell Co. | 処理装置、処理方法及びプラズマ源 |
JP2008027657A (ja) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Tokyo Institute Of Technology | プラズマ源、処理装置及び処理方法 |
JP2009506892A (ja) * | 2005-09-09 | 2009-02-19 | フロニウス・インテルナツィオナール・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 蒸気プラズマバーナおよび蒸気切断装置を作動させる方法 |
WO2009110697A3 (ko) * | 2008-03-03 | 2009-11-12 | Lee Byeng Chul | 혼합 플라즈마 발생장치 및 방법, 그리고 혼합 플라즈마를 이용한 전열 조리장치 |
WO2011096956A1 (en) * | 2010-02-05 | 2011-08-11 | Micropyretics Heaters International, Inc. | Anti-smudging, better gripping, better shelf-life of products and surfaces |
JP4795241B2 (ja) * | 2003-09-17 | 2011-10-19 | トミオン オイ | 冷却プラズマトーチ及びトーチを冷却するための方法 |
JP2012121069A (ja) * | 2006-10-18 | 2012-06-28 | Komatsu Sanki Kk | プラズマ切断装置およびプラズマトーチの冷却方法 |
JP2012157814A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Imagineering Inc | エンジンの洗浄装置 |
JP2013529352A (ja) * | 2010-03-31 | 2013-07-18 | コロラド ステート ユニバーシティー リサーチ ファウンデーション | 液体−気体界面プラズマデバイス |
KR101379777B1 (ko) * | 2013-10-02 | 2014-03-31 | 지에스플라텍 주식회사 | 플라즈마 토치 |
JP2014532265A (ja) * | 2011-10-07 | 2014-12-04 | 博文 吹越 | プラズマ発生方法およびシステム |
US9288886B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-15 | Colorado State University Research Foundation | Plasma-based chemical source device and method of use thereof |
US9287091B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-15 | Colorado State University Research Foundation | System and methods for plasma application |
US9532826B2 (en) | 2013-03-06 | 2017-01-03 | Covidien Lp | System and method for sinus surgery |
US9555145B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-01-31 | Covidien Lp | System and method for biofilm remediation |
JP2018135774A (ja) * | 2017-02-21 | 2018-08-30 | 株式会社Ihi | 着火装置 |
CN109317922A (zh) * | 2017-08-01 | 2019-02-12 | 大连理工大学 | 一种雾化冷等离子体辅助切削的方法 |
WO2019096885A1 (en) * | 2017-11-16 | 2019-05-23 | Swerim Ab | High temperature furnace |
US10368939B2 (en) | 2015-10-29 | 2019-08-06 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
US10441349B2 (en) | 2015-10-29 | 2019-10-15 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
US10709497B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-07-14 | Covidien Lp | Electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating |
CN111586954A (zh) * | 2020-06-08 | 2020-08-25 | 江苏帕斯玛环境科技有限公司 | 水蒸气等离子体产生的方法 |
CN111795372A (zh) * | 2019-04-09 | 2020-10-20 | 杭州清稞节能环保科技有限公司 | 一种低噪音纳米水离子蒸汽发生装置 |
US10973569B2 (en) | 2017-09-22 | 2021-04-13 | Covidien Lp | Electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating |
US11207124B2 (en) | 2019-07-08 | 2021-12-28 | Covidien Lp | Electrosurgical system for use with non-stick coated electrodes |
US11369427B2 (en) | 2019-12-17 | 2022-06-28 | Covidien Lp | System and method of manufacturing non-stick coated electrodes |
WO2022158083A1 (ja) * | 2021-01-22 | 2022-07-28 | 日立造船株式会社 | 監視装置 |
-
2000
- 2000-05-25 JP JP2000154993A patent/JP2001332399A/ja not_active Withdrawn
Cited By (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002276910A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-25 | Univ Chuo | 廃棄物等の処理装置 |
JP4795241B2 (ja) * | 2003-09-17 | 2011-10-19 | トミオン オイ | 冷却プラズマトーチ及びトーチを冷却するための方法 |
JP2006216468A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Toyohashi Univ Of Technology | プラズマ表面処理方法、プラズマ生成装置及びプラズマ表面処理装置 |
JP2009506892A (ja) * | 2005-09-09 | 2009-02-19 | フロニウス・インテルナツィオナール・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 蒸気プラズマバーナおよび蒸気切断装置を作動させる方法 |
WO2007148470A1 (ja) * | 2006-06-22 | 2007-12-27 | River Bell Co. | 処理装置、処理方法及びプラズマ源 |
JP2008027657A (ja) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Tokyo Institute Of Technology | プラズマ源、処理装置及び処理方法 |
JP2012121069A (ja) * | 2006-10-18 | 2012-06-28 | Komatsu Sanki Kk | プラズマ切断装置およびプラズマトーチの冷却方法 |
WO2009110697A3 (ko) * | 2008-03-03 | 2009-11-12 | Lee Byeng Chul | 혼합 플라즈마 발생장치 및 방법, 그리고 혼합 플라즈마를 이용한 전열 조리장치 |
JP2011513930A (ja) * | 2008-03-03 | 2011-04-28 | ビョン チョル リ | 混合プラズマ発生装置及び方法、並びに混合プラズマを利用した電熱調理装置 |
US9272359B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-01 | Colorado State University Research Foundation | Liquid-gas interface plasma device |
US9287091B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-15 | Colorado State University Research Foundation | System and methods for plasma application |
US9288886B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-15 | Colorado State University Research Foundation | Plasma-based chemical source device and method of use thereof |
WO2011096956A1 (en) * | 2010-02-05 | 2011-08-11 | Micropyretics Heaters International, Inc. | Anti-smudging, better gripping, better shelf-life of products and surfaces |
JP2013529352A (ja) * | 2010-03-31 | 2013-07-18 | コロラド ステート ユニバーシティー リサーチ ファウンデーション | 液体−気体界面プラズマデバイス |
JP2012157814A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Imagineering Inc | エンジンの洗浄装置 |
JP2014532265A (ja) * | 2011-10-07 | 2014-12-04 | 博文 吹越 | プラズマ発生方法およびシステム |
US10524848B2 (en) | 2013-03-06 | 2020-01-07 | Covidien Lp | System and method for sinus surgery |
US9532826B2 (en) | 2013-03-06 | 2017-01-03 | Covidien Lp | System and method for sinus surgery |
US9555145B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-01-31 | Covidien Lp | System and method for biofilm remediation |
KR101379777B1 (ko) * | 2013-10-02 | 2014-03-31 | 지에스플라텍 주식회사 | 플라즈마 토치 |
US11135007B2 (en) | 2015-10-29 | 2021-10-05 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
US11298179B2 (en) | 2015-10-29 | 2022-04-12 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
US10368939B2 (en) | 2015-10-29 | 2019-08-06 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
US10441349B2 (en) | 2015-10-29 | 2019-10-15 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
US11969204B2 (en) | 2015-10-29 | 2024-04-30 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
JP2018135774A (ja) * | 2017-02-21 | 2018-08-30 | 株式会社Ihi | 着火装置 |
CN109317922A (zh) * | 2017-08-01 | 2019-02-12 | 大连理工大学 | 一种雾化冷等离子体辅助切削的方法 |
CN109317922B (zh) * | 2017-08-01 | 2020-08-14 | 大连理工大学 | 一种雾化冷等离子体辅助切削的方法 |
US10709497B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-07-14 | Covidien Lp | Electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating |
US10973569B2 (en) | 2017-09-22 | 2021-04-13 | Covidien Lp | Electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating |
US11432869B2 (en) | 2017-09-22 | 2022-09-06 | Covidien Lp | Method for coating electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating |
WO2019096885A1 (en) * | 2017-11-16 | 2019-05-23 | Swerim Ab | High temperature furnace |
CN111795372A (zh) * | 2019-04-09 | 2020-10-20 | 杭州清稞节能环保科技有限公司 | 一种低噪音纳米水离子蒸汽发生装置 |
US11207124B2 (en) | 2019-07-08 | 2021-12-28 | Covidien Lp | Electrosurgical system for use with non-stick coated electrodes |
US11369427B2 (en) | 2019-12-17 | 2022-06-28 | Covidien Lp | System and method of manufacturing non-stick coated electrodes |
CN111586954B (zh) * | 2020-06-08 | 2022-09-09 | 江苏帕斯玛环境科技有限公司 | 水蒸气等离子体产生的方法 |
CN111586954A (zh) * | 2020-06-08 | 2020-08-25 | 江苏帕斯玛环境科技有限公司 | 水蒸气等离子体产生的方法 |
WO2022158083A1 (ja) * | 2021-01-22 | 2022-07-28 | 日立造船株式会社 | 監視装置 |
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