JPS6120070B2 - - Google Patents
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- JPS6120070B2 JPS6120070B2 JP56207676A JP20767681A JPS6120070B2 JP S6120070 B2 JPS6120070 B2 JP S6120070B2 JP 56207676 A JP56207676 A JP 56207676A JP 20767681 A JP20767681 A JP 20767681A JP S6120070 B2 JPS6120070 B2 JP S6120070B2
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- thin film
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- magnetic recording
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- Expired
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/726—Two or more protective coatings
- G11B5/7262—Inorganic protective coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属薄膜形の磁気記録媒体の改良に
関し、寿命特性の著しい改善を図ることを目的と
するものである。
関し、寿命特性の著しい改善を図ることを目的と
するものである。
近年、高密度磁気記録に適する磁気記録媒体と
して、Co−Ｐ，Co−Ni−Ｐ，CO，−Ni等のメツ
キ膜、Fe，Co，Ni等の蒸着膜を磁性体として用
いた、いわゆる金属薄膜形磁気記録媒体が注目さ
れ、各方面で検討され、一部デイスク状の磁気記
録媒体が実用化されるに至つている。
して、Co−Ｐ，Co−Ni−Ｐ，CO，−Ni等のメツ
キ膜、Fe，Co，Ni等の蒸着膜を磁性体として用
いた、いわゆる金属薄膜形磁気記録媒体が注目さ
れ、各方面で検討され、一部デイスク状の磁気記
録媒体が実用化されるに至つている。
しかし、テープ状の長尺の磁気記録媒体を実用
化するには解決すべき問題が残つている。
化するには解決すべき問題が残つている。
そのひとつに寿命特性がある。その中で大きな
問題は錆の問題で、これは金属薄膜形の宿命的な
問題であつたが、高分子、無機物等の保護層の開
発によりかなりの見通しを得るに至つている。
問題は錆の問題で、これは金属薄膜形の宿命的な
問題であつたが、高分子、無機物等の保護層の開
発によりかなりの見通しを得るに至つている。
しかし、見逃してはならない問題にテープのく
り返し使用による変形の問題がある。この変形に
よるレベルの低下、変動の問題は深刻で、記録波
長の短波長化が進むほど、重要性の増す点であ
る。
り返し使用による変形の問題がある。この変形に
よるレベルの低下、変動の問題は深刻で、記録波
長の短波長化が進むほど、重要性の増す点であ
る。
本発明者は詳細に検討した結果、基材として広
汎に用いられるポリエチレンテレフタレート二軸
延伸フイルムの機械的強度を増すだけでは解決で
きず、基本構成に解決の道があることを究明して
本発明をうるに至つた。磁性金属薄膜の形成は磁
気記録媒体の製造法としては湿式メツキ法、真空
蒸着法が通常用いられるが、他の薄膜形成法であ
るスパツタリング法、イオンプレーテイング法、
気相成長法等のいずれも可能性を有している。し
かし、いずれの方法によつても、薄膜は大きな内
部応力を有する場合が多く、製造条件の精密な制
御、熱処理等との併用で、平坦な磁気記録媒体を
初期的に得ても、使用時、保存時の環境により、
主に高分子基材の吸湿現象に基づいた、ゆつくり
した変形が避けられず、前述の問題を誘発してい
るのが実態で、この解決にSiO蒸着層が重要な役
割を果たすことを見出したところが本発明の要点
であり、本発明の効果を有効にする構成は、多層
構成の磁気記録媒体で、高分子からなる保護層に
接してSiO蒸着層を構成することである。
汎に用いられるポリエチレンテレフタレート二軸
延伸フイルムの機械的強度を増すだけでは解決で
きず、基本構成に解決の道があることを究明して
本発明をうるに至つた。磁性金属薄膜の形成は磁
気記録媒体の製造法としては湿式メツキ法、真空
蒸着法が通常用いられるが、他の薄膜形成法であ
るスパツタリング法、イオンプレーテイング法、
気相成長法等のいずれも可能性を有している。し
かし、いずれの方法によつても、薄膜は大きな内
部応力を有する場合が多く、製造条件の精密な制
御、熱処理等との併用で、平坦な磁気記録媒体を
初期的に得ても、使用時、保存時の環境により、
主に高分子基材の吸湿現象に基づいた、ゆつくり
した変形が避けられず、前述の問題を誘発してい
るのが実態で、この解決にSiO蒸着層が重要な役
割を果たすことを見出したところが本発明の要点
であり、本発明の効果を有効にする構成は、多層
構成の磁気記録媒体で、高分子からなる保護層に
接してSiO蒸着層を構成することである。
図は本発明による磁気記録媒体の一実施例で、
図において、１は高分子成形物からなる基材で、
ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド等が挙げ
られるが、広汎に用いられているのはポリエチレ
ンテレフタレート二軸延伸フイルムである。この
フイルムは磁気テープのれいめい期に用いられた
アセテートフイルムに比べ吸湿性は低いが後述の
例でも理解されるように完壁ではない。２，３は
非磁性層、４，５は磁性金属薄膜で、図のように
非磁性層２、磁性金属薄膜４、非磁性層３、磁性
金属薄膜５の順序で基板１上に配されている。６
は磁性金属薄膜５の上に形成されたSiO蒸着層で
ある。また７はこのSiO蒸着層６の上に接して形
成された高分子からなる保護層である。そしてこ
れらの層の数については必要な保磁力と残留磁束
をうるために適宜工夫されるものである。
図において、１は高分子成形物からなる基材で、
ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド等が挙げ
られるが、広汎に用いられているのはポリエチレ
ンテレフタレート二軸延伸フイルムである。この
フイルムは磁気テープのれいめい期に用いられた
アセテートフイルムに比べ吸湿性は低いが後述の
例でも理解されるように完壁ではない。２，３は
非磁性層、４，５は磁性金属薄膜で、図のように
非磁性層２、磁性金属薄膜４、非磁性層３、磁性
金属薄膜５の順序で基板１上に配されている。６
は磁性金属薄膜５の上に形成されたSiO蒸着層で
ある。また７はこのSiO蒸着層６の上に接して形
成された高分子からなる保護層である。そしてこ
れらの層の数については必要な保磁力と残留磁束
をうるために適宜工夫されるものである。
後述する実用効果はSiO蒸着層が高分子からな
る保護層と接している場合に明白に見られるもの
で、SiO蒸着層の内部応力の吸湿による変化が他
の蒸着層のそれに比べて特異性があることによる
ものと考えられる。
る保護層と接している場合に明白に見られるもの
で、SiO蒸着層の内部応力の吸湿による変化が他
の蒸着層のそれに比べて特異性があることによる
ものと考えられる。
SiO蒸着層の膜厚は、主に製造条件と、他の層
の構成との関係で選ばれるべきで、一義的に決め
られないが、殆んどの場合1000Å以下で本発明の
効果を発揮できる。また斜め蒸着で得た方がよい
が、必要条件ではない。
の構成との関係で選ばれるべきで、一義的に決め
られないが、殆んどの場合1000Å以下で本発明の
効果を発揮できる。また斜め蒸着で得た方がよい
が、必要条件ではない。
次に具体的な実施例について述べる。
実施例
ポリエチレンテレフタレートフイルム（厚さ７
μ）上でTi層を400Å電子ビーム蒸着し、磁性金
属薄膜としてCo・Ni（Co80％・Ni20％）を600Å
電子ビーム蒸着し（５×10-5Torrの酸素雰囲気
中で）、同様にTi層、Co・Ni層を形成し、SiO蒸
着層を300〜1000Å形成し、保護層としてエポキ
シ系の樹脂層を600〜1400Å形成し、図の断面構
造の磁気テープを製造し評価した。
μ）上でTi層を400Å電子ビーム蒸着し、磁性金
属薄膜としてCo・Ni（Co80％・Ni20％）を600Å
電子ビーム蒸着し（５×10-5Torrの酸素雰囲気
中で）、同様にTi層、Co・Ni層を形成し、SiO蒸
着層を300〜1000Å形成し、保護層としてエポキ
シ系の樹脂層を600〜1400Å形成し、図の断面構
造の磁気テープを製造し評価した。
上記実施例の場合、60℃、90％RHの加湿雰囲
気に保存し、平坦性の終時変化を調べた結果、
500時間後も変形は無視しえた。これに比して
SiO蒸着層をもたぬ場合は磁性金属薄膜を内側に
した変形を起こし、記録波長10μ、１μでそれぞ
れ2dB，6dBの出力低下をきたし、レベル変動も
それぞれ±1.4dB、±2.6dBの値を示した。
気に保存し、平坦性の終時変化を調べた結果、
500時間後も変形は無視しえた。これに比して
SiO蒸着層をもたぬ場合は磁性金属薄膜を内側に
した変形を起こし、記録波長10μ、１μでそれぞ
れ2dB，6dBの出力低下をきたし、レベル変動も
それぞれ±1.4dB、±2.6dBの値を示した。
本発明による金属薄膜形磁気記録媒体は、65
℃、95％RHの過酷な雰囲気で1000時間放置後も
記録波長10μ、１μでの出力低下はそれぞれ
0.3dB以下、0.8dB以下であり、レベル変動もそ
れぞれ±0.4dB以下、±0.5dB以下で全く問題にな
らなかつた。
℃、95％RHの過酷な雰囲気で1000時間放置後も
記録波長10μ、１μでの出力低下はそれぞれ
0.3dB以下、0.8dB以下であり、レベル変動もそ
れぞれ±0.4dB以下、±0.5dB以下で全く問題にな
らなかつた。
本発明は先に述べた例に限定されるものではな
く、広く磁性材料、高分子材料、非磁性材料をポ
リエチレンテレフタレートフイルム以外の基材上
に構成した磁気記録媒体に広く適用できるととも
に、重要なSiO蒸着層の形成についても電子ビー
ム蒸着に限定されるものでないことは勿論であ
る。
く、広く磁性材料、高分子材料、非磁性材料をポ
リエチレンテレフタレートフイルム以外の基材上
に構成した磁気記録媒体に広く適用できるととも
に、重要なSiO蒸着層の形成についても電子ビー
ム蒸着に限定されるものでないことは勿論であ
る。
以上のように本発明によれば、寿命特性の改善
効果は顕著であり、金属薄膜形磁気記録媒体の実
用化に貢献するところ大である。
効果は顕著であり、金属薄膜形磁気記録媒体の実
用化に貢献するところ大である。
図は本発明の金属薄膜形磁気記録媒体の一実施
例の断面図である。 １……高分子成形物からなる基材、２，３……
非磁性層、４，５……磁性金属薄膜、６……SiO
蒸着層、７……高分子からなる保護層。
例の断面図である。 １……高分子成形物からなる基材、２，３……
非磁性層、４，５……磁性金属薄膜、６……SiO
蒸着層、７……高分子からなる保護層。
Claims (1)
- １ 高分子成形物からなる基材の上に少なくとも
磁性金属薄膜を配し、その磁性金属薄膜の上に
SiO蒸着層を配し、さらにそのSiO蒸着層の表面
に接して高分子からなる保護層を形成したことを
特徴とする金属薄膜形磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56207676A JPS57127928A (en) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | Metallic thin film magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56207676A JPS57127928A (en) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | Metallic thin film magnetic recording medium |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4955478A Division JPS54141109A (en) | 1978-04-25 | 1978-04-25 | Thin metal film type magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57127928A JPS57127928A (en) | 1982-08-09 |
| JPS6120070B2 true JPS6120070B2 (ja) | 1986-05-20 |
Family
ID=16543716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56207676A Granted JPS57127928A (en) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | Metallic thin film magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57127928A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60182514A (ja) * | 1984-03-01 | 1985-09-18 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1981
- 1981-12-21 JP JP56207676A patent/JPS57127928A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57127928A (en) | 1982-08-09 |
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