JPS61192014A - 多素子薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
多素子薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS61192014A JPS61192014A JP3322985A JP3322985A JPS61192014A JP S61192014 A JPS61192014 A JP S61192014A JP 3322985 A JP3322985 A JP 3322985A JP 3322985 A JP3322985 A JP 3322985A JP S61192014 A JPS61192014 A JP S61192014A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- substrate
- layer
- grooves
- thin film
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は多素子薄膜磁気ヘッドに係り、特にアジマス及
びクロストークを改善した多素子薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関する。
びクロストークを改善した多素子薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関する。
多素子薄膜磁気ヘッドはトラック数の多い磁気テープ装
置等に用いられている。磁気テープ装置は外部記憶装置
として、古くから用いられ、特に保存ファイルとして活
躍している。
置等に用いられている。磁気テープ装置は外部記憶装置
として、古くから用いられ、特に保存ファイルとして活
躍している。
装置に装着された磁気テープは２つのリール間でやりと
りされ、その間に磁気ヘッドに接触して情報の書き込み
を行い、直後にその情報を読み出し確認を行っている。
りされ、その間に磁気ヘッドに接触して情報の書き込み
を行い、直後にその情報を読み出し確認を行っている。
この情報の書き込み／読み出しは、通常磁気ヘッドが同
一ブロック上に複数偏行いたマルチトラックヘッドが、
磁気テープのトラックと対向して行われる。
一ブロック上に複数偏行いたマルチトラックヘッドが、
磁気テープのトラックと対向して行われる。
最近は記録する情報量の増大に伴い、次第に高密度化の
要求により、トラック幅が狭くなり、ビット密度が向上
してくると、書込みヘッドと読み出しヘッドのほんの僅
かなずれ、傾きでも、情報が正しく読み出せなくなると
いう問題があり、書込みヘッドと読み出しヘッドのずれ
、傾きのないようなヘッドが要望される。
要求により、トラック幅が狭くなり、ビット密度が向上
してくると、書込みヘッドと読み出しヘッドのほんの僅
かなずれ、傾きでも、情報が正しく読み出せなくなると
いう問題があり、書込みヘッドと読み出しヘッドのずれ
、傾きのないようなヘッドが要望される。
（従来の技術〕
従来の多素子薄膜磁気ヘッドは一般に第３図に示すよう
な薄膜磁気ヘッドＡが第４図に示すように同一基板１上
に複数偏行いている。さらに磁気テープ系の場合は、保
存ファイル等であるので、書いた情報を直後に読み出し
確認を行う為、第４図のように同形状のものをライ゛ト
ヘッドＷ２り一ドヘッドＲとし、近接対向し配置してい
る。なお、一点鎖線はテープのトラックＴを示し、矢印
はテープ走行方向を示す。
な薄膜磁気ヘッドＡが第４図に示すように同一基板１上
に複数偏行いている。さらに磁気テープ系の場合は、保
存ファイル等であるので、書いた情報を直後に読み出し
確認を行う為、第４図のように同形状のものをライ゛ト
ヘッドＷ２り一ドヘッドＲとし、近接対向し配置してい
る。なお、一点鎖線はテープのトラックＴを示し、矢印
はテープ走行方向を示す。
第３図は薄膜磁気ヘッドの断面図を示し、セラ層５を積
層し構成している。そして磁気ギャップ深さを出すため
に、ヘッド先端部ｄを研磨し、記録媒体６に情報の書き
込み／読み出しが行えるようにしている。
層し構成している。そして磁気ギャップ深さを出すため
に、ヘッド先端部ｄを研磨し、記録媒体６に情報の書き
込み／読み出しが行えるようにしている。
従来薄膜磁気ヘッドとしては上記のように非磁性基板１
上に、！膜プロセスによって下部磁性層２、磁気ギャッ
プ７、コイル３、絶縁層５、上部磁性層４等を構成した
ものと、基板ｌを磁性基板を用い、それをそのまま下部
磁性層としたものの２種類がある。
上に、！膜プロセスによって下部磁性層２、磁気ギャッ
プ７、コイル３、絶縁層５、上部磁性層４等を構成した
ものと、基板ｌを磁性基板を用い、それをそのまま下部
磁性層としたものの２種類がある。
従来の前者の非磁性基板１上に、薄膜プロセスによって
下部磁性層２、磁気ギャップ７、コイル３、絶縁層５、
上部磁性層４等を形成する方法は例えば、下部磁性層２
を形成する時、本来第５図（イ）に示すように下部磁性
層２と上部磁性層４により形成された磁気ギャップ７は
テープ走行方向（矢印）に対し直角であるがあるが、と
ころが例えば第５図（ロ）に示すような下部磁性層２に
膜厚分布（磁性膜がテーバに形成）が生じ、その上に上
部磁性層４が形成された場合、第４図のように同形状の
ヘッドがラブドヘッドＷ、リードへラドＲとして対向し
配置されたテープ系ヘッドでは、記録時と再生時で相対
的なアングルが２倍のファクターで出来、即ちアジマス
が生じ、読み取り出力が低下すると云う問題点がある。
下部磁性層２、磁気ギャップ７、コイル３、絶縁層５、
上部磁性層４等を形成する方法は例えば、下部磁性層２
を形成する時、本来第５図（イ）に示すように下部磁性
層２と上部磁性層４により形成された磁気ギャップ７は
テープ走行方向（矢印）に対し直角であるがあるが、と
ころが例えば第５図（ロ）に示すような下部磁性層２に
膜厚分布（磁性膜がテーバに形成）が生じ、その上に上
部磁性層４が形成された場合、第４図のように同形状の
ヘッドがラブドヘッドＷ、リードへラドＲとして対向し
配置されたテープ系ヘッドでは、記録時と再生時で相対
的なアングルが２倍のファクターで出来、即ちアジマス
が生じ、読み取り出力が低下すると云う問題点がある。
又、後者の基板１をそのまま下部磁性層とする方法は、
第６図のように基板１が即、下部磁性層であるので、膜
厚分布は生じないが、各ヘッドＡのコイル３による磁路
は基板が磁性材である為、隣のトラックに対して書き込
みノイズとなる問題点がある。
第６図のように基板１が即、下部磁性層であるので、膜
厚分布は生じないが、各ヘッドＡのコイル３による磁路
は基板が磁性材である為、隣のトラックに対して書き込
みノイズとなる問題点がある。
上記問題点は非敵性基板上に磁性基板をガラス等により
接着し、該磁性基板に対しコアー幅に対応した長さに溝
により区切り、液溝にガラスを充填した後、前記磁性基
板側を平面ラップし、その上に磁気ギャップ、コイル、
絶縁層、上部磁性層を形成した本発明の多素子薄膜磁気
ヘッドの製造方法により達成される。
接着し、該磁性基板に対しコアー幅に対応した長さに溝
により区切り、液溝にガラスを充填した後、前記磁性基
板側を平面ラップし、その上に磁気ギャップ、コイル、
絶縁層、上部磁性層を形成した本発明の多素子薄膜磁気
ヘッドの製造方法により達成される。
即ち、非磁性基板上に磁性基板をガラス等により接着し
、該磁性基板に対しコアー幅に対応した長さに溝により
区切り、液溝にガラスを充填し同一磁性基板を用い、ト
ラック間を完全に分離して薄膜磁気ヘッドを形成したこ
とにより、下部磁性膜に膜厚分布を生じることもないの
で、アジマスを生じなく、かつ各トラック間が溝により
完全に分離しているので、クロストークを生ずることも
ない。
、該磁性基板に対しコアー幅に対応した長さに溝により
区切り、液溝にガラスを充填し同一磁性基板を用い、ト
ラック間を完全に分離して薄膜磁気ヘッドを形成したこ
とにより、下部磁性膜に膜厚分布を生じることもないの
で、アジマスを生じなく、かつ各トラック間が溝により
完全に分離しているので、クロストークを生ずることも
ない。
以下、本発明の要旨を図面により具体的に説明する。
第１図（イ）〜（ハ）は本発明の１実施例を説明する斜
視図、第２図（イ）（ロ）は本発明の薄膜磁気ヘッドの
製造の１例で、（イ）は平面図、（ロ）は断面図である
。なお、企図を通じ同一符号は同一対象物を示す。
視図、第２図（イ）（ロ）は本発明の薄膜磁気ヘッドの
製造の１例で、（イ）は平面図、（ロ）は断面図である
。なお、企図を通じ同一符号は同一対象物を示す。
第１図（イ）は非磁性基板ｌ上にフェライト等の磁性基
板８をガラス接着等により接着した後、第１図（ロ）に
示すようにトラックを分離する為、コア幅（数百ミクロ
ン）に対応しａ９ （実施例では溝幅０．Ｉｎ＋）をス
リッタで加工し下部磁性層１０とし、その溝９に第１図
（ハ）に示すようにガラス１１等を充填し、面１２を平
面研削ラップにより鏡面仕上げをし、磁気ギャップ７の
構成面を作り、その上に、第２図（イ）（ロ）に示すよ
うに、絶縁層により磁気ギャップ７形成、コイル３形成
、絶縁層５形成、上部磁性層４形成を薄膜プロセスによ
り行い、薄膜磁気ヘッドを形成する。
板８をガラス接着等により接着した後、第１図（ロ）に
示すようにトラックを分離する為、コア幅（数百ミクロ
ン）に対応しａ９ （実施例では溝幅０．Ｉｎ＋）をス
リッタで加工し下部磁性層１０とし、その溝９に第１図
（ハ）に示すようにガラス１１等を充填し、面１２を平
面研削ラップにより鏡面仕上げをし、磁気ギャップ７の
構成面を作り、その上に、第２図（イ）（ロ）に示すよ
うに、絶縁層により磁気ギャップ７形成、コイル３形成
、絶縁層５形成、上部磁性層４形成を薄膜プロセスによ
り行い、薄膜磁気ヘッドを形成する。
下部磁性層１０は磁性基板８をスリッタにより、同時加
工され作られるので、厚さの均一が図れ、薄膜プロセス
により下部磁性層を作るものに比べ、膜厚分布の心配が
ない。ギャップ７が第５図（口）の従来のよな斜めに形
成されることもないので、多トラツクにわたりアジマス
の心配はない。
工され作られるので、厚さの均一が図れ、薄膜プロセス
により下部磁性層を作るものに比べ、膜厚分布の心配が
ない。ギャップ７が第５図（口）の従来のよな斜めに形
成されることもないので、多トラツクにわたりアジマス
の心配はない。
又トラックは溝９により完全に分離されているので、各
ヘッドのコイル３の磁路による隣りトラックに対するノ
イズも防げ、記録再生時のクロストークの心配もない。
ヘッドのコイル３の磁路による隣りトラックに対するノ
イズも防げ、記録再生時のクロストークの心配もない。
以上説明したように、本発明によれば同一磁性基板の使
用とトラック間完全分離により、トラック間のクロスト
ークの減少、及び磁気ギャップのアジマス減少の効果が
ある。
用とトラック間完全分離により、トラック間のクロスト
ークの減少、及び磁気ギャップのアジマス減少の効果が
ある。
第１図（イ）〜（ハ）は本発明の１実施例を説明する斜
視図、 第２図（イ）（ロ）は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造の
１例で、（イ）は平面図、（ロ）は断面図、 第３図は従来の薄膜磁気ヘッドを説明する断面図、 第４図は従来の多素子薄膜磁気ヘッドを説明するための
図、 第５図は磁気ギャップとテープ走行方向の関係を示す図
で、（イ）は磁気ギャップ７がテープ走行方向に対し直
角の場合を、（ロ）は斜めの場合を夫々示す図、 第６図は基板１が即、下部磁性層の構成の磁気ギャップ
とテープ走行の関係を示す図である。 図において、 １は非磁性基板、 ３はコイル、 ４は上部磁性層、 ５は絶縁層、 ７は磁気ギャップ、 ８は磁性基板、 ９は溝、 ｌＯは下部磁性層、 １１はガラス、 １２は面を示す。 岑１ ス （イ）
（り隼 ２ ト４ 第５ 閃 茅６図
視図、 第２図（イ）（ロ）は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造の
１例で、（イ）は平面図、（ロ）は断面図、 第３図は従来の薄膜磁気ヘッドを説明する断面図、 第４図は従来の多素子薄膜磁気ヘッドを説明するための
図、 第５図は磁気ギャップとテープ走行方向の関係を示す図
で、（イ）は磁気ギャップ７がテープ走行方向に対し直
角の場合を、（ロ）は斜めの場合を夫々示す図、 第６図は基板１が即、下部磁性層の構成の磁気ギャップ
とテープ走行の関係を示す図である。 図において、 １は非磁性基板、 ３はコイル、 ４は上部磁性層、 ５は絶縁層、 ７は磁気ギャップ、 ８は磁性基板、 ９は溝、 ｌＯは下部磁性層、 １１はガラス、 １２は面を示す。 岑１ ス （イ）
（り隼 ２ ト４ 第５ 閃 茅６図
Claims (1)
- 非磁性基板上に磁性基板をガラス等により接着し、該磁
性基板に対しコアー幅に対応した長さに溝により区切り
、該溝にガラスを充填した後、前記磁性基板側を平面ラ
ップし、その上に磁気ギャップ、コイル、絶縁層、上部
磁性層を形成したことを特徴とする多素子薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3322985A JPS61192014A (ja) | 1985-02-21 | 1985-02-21 | 多素子薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3322985A JPS61192014A (ja) | 1985-02-21 | 1985-02-21 | 多素子薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61192014A true JPS61192014A (ja) | 1986-08-26 |
Family
ID=12380626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3322985A Pending JPS61192014A (ja) | 1985-02-21 | 1985-02-21 | 多素子薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61192014A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108356489A (zh) * | 2018-03-13 | 2018-08-03 | 浙江易锋机械有限公司 | 一种涡轮压缩机str动盘锻件加工方法 |
-
1985
- 1985-02-21 JP JP3322985A patent/JPS61192014A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108356489A (zh) * | 2018-03-13 | 2018-08-03 | 浙江易锋机械有限公司 | 一种涡轮压缩机str动盘锻件加工方法 |
| CN108356489B (zh) * | 2018-03-13 | 2020-02-21 | 浙江易锋机械有限公司 | 一种涡轮压缩机str动盘锻件加工方法 |
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