JPS61182619A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS61182619A JPS61182619A JP2224985A JP2224985A JPS61182619A JP S61182619 A JPS61182619 A JP S61182619A JP 2224985 A JP2224985 A JP 2224985A JP 2224985 A JP2224985 A JP 2224985A JP S61182619 A JPS61182619 A JP S61182619A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- thin
- thin film
- substrate
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）あるいはＤ
ＡＴ （デジタルオーディオテープ）等の高周波信号の
記録再生に適した磁気ヘッドに係シ、特に高保磁力記録
媒体に対して好適な薄膜磁気ヘッドに関する。
ＡＴ （デジタルオーディオテープ）等の高周波信号の
記録再生に適した磁気ヘッドに係シ、特に高保磁力記録
媒体に対して好適な薄膜磁気ヘッドに関する。
従来の技術
高密度磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体の保
磁力Ｈ・ｅを大きくすれば有利であることはよく知られ
ているが、高保磁力の磁気記録媒体に情報を記録するた
めには、強い１揚が必要となる。ところが現在磁気ヘッ
ドに用いられているフェライト材は、その飽和磁束密度
ＢＳが４０００〜５０００ガウス程度であるため、得ら
れる記録磁界の強さに限界があり、磁気記録媒体の保磁
力Ｈｅが１ｏＯｏエルステツドを越える場合には、記録
が不十分になるという欠点がある。
磁力Ｈ・ｅを大きくすれば有利であることはよく知られ
ているが、高保磁力の磁気記録媒体に情報を記録するた
めには、強い１揚が必要となる。ところが現在磁気ヘッ
ドに用いられているフェライト材は、その飽和磁束密度
ＢＳが４０００〜５０００ガウス程度であるため、得ら
れる記録磁界の強さに限界があり、磁気記録媒体の保磁
力Ｈｅが１ｏＯｏエルステツドを越える場合には、記録
が不十分になるという欠点がある。
一方、金属磁性材料で総称されるＦ＠ −Ａｌ−８ｔ合
金（センダストと称されている） 、 Ｎｉ−Ｆｅ合金
（パーマロイ）等の結晶質磁性合金、あるいは、非晶質
薄帯合金を用いた磁気ヘッドは、一般にフェライト材よ
り飽和磁束密度の高いものがあり、かつ摺動ノイズが低
いという優れた特徴を有するが、一般に使用されるトラ
ック幅（１０μｍ以上）の厚みでは渦電流損失により、
高周波領域での実効透磁率がフェライトより低下し再生
能率が低くなる欠点を有する。そこで上記のような欠点
を解決するため、真空蒸着あるいはスパッタ等の薄膜プ
ロセスを用いて金属あるいは非晶質合金磁性材と絶縁材
を交互に積層させることにより渦電流損を低下させ、高
周波特性を改善した磁気ヘッドが考案されている（第３
図）。〔例えば、第８回日本応用磁気学会講演予稿集１
９８４ 、１１月、Ｐ２Ｓ５またはＰ１６ｏ〕 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、このような薄膜積層構造のヘッドにおい
ては、膜厚がトラック幅となるため、数１０μの厚さに
積層する必要があるが、このような厚みを持つ薄膜は、
薄膜内部の歪みのために基板から剥離し易く加工性に難
点を有している。
金（センダストと称されている） 、 Ｎｉ−Ｆｅ合金
（パーマロイ）等の結晶質磁性合金、あるいは、非晶質
薄帯合金を用いた磁気ヘッドは、一般にフェライト材よ
り飽和磁束密度の高いものがあり、かつ摺動ノイズが低
いという優れた特徴を有するが、一般に使用されるトラ
ック幅（１０μｍ以上）の厚みでは渦電流損失により、
高周波領域での実効透磁率がフェライトより低下し再生
能率が低くなる欠点を有する。そこで上記のような欠点
を解決するため、真空蒸着あるいはスパッタ等の薄膜プ
ロセスを用いて金属あるいは非晶質合金磁性材と絶縁材
を交互に積層させることにより渦電流損を低下させ、高
周波特性を改善した磁気ヘッドが考案されている（第３
図）。〔例えば、第８回日本応用磁気学会講演予稿集１
９８４ 、１１月、Ｐ２Ｓ５またはＰ１６ｏ〕 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、このような薄膜積層構造のヘッドにおい
ては、膜厚がトラック幅となるため、数１０μの厚さに
積層する必要があるが、このような厚みを持つ薄膜は、
薄膜内部の歪みのために基板から剥離し易く加工性に難
点を有している。
問題点を解決するための手段
本発明は、前記問題点を解決するために、ガラスまたは
セラミック基板上に、Ｃｒ 膜を形成し、その上にヘ
ッド用磁性膜を形成したことを特徴とするものである。
セラミック基板上に、Ｃｒ 膜を形成し、その上にヘ
ッド用磁性膜を形成したことを特徴とするものである。
作 用
この技術的手段の作用は次のようになる。
すなわち、Ｏｒ 薄膜はきわめて酸化され易く、ガラス
あるいはセラミック基板に蒸着されたＣｒ膜は、基板の
陰イオンと結合して極めて薄い酸化層を形成し、一方Ｃ
ｒ表面上にさらに形成された金属磁性膜は、 Ｃｒ と
金属結合をし、直接基板上に磁性薄膜を形成した場合よ
りもはるかに優れた基板への接着性を示す。
あるいはセラミック基板に蒸着されたＣｒ膜は、基板の
陰イオンと結合して極めて薄い酸化層を形成し、一方Ｃ
ｒ表面上にさらに形成された金属磁性膜は、 Ｃｒ と
金属結合をし、直接基板上に磁性薄膜を形成した場合よ
りもはるかに優れた基板への接着性を示す。
実施例
以下実施例を示す。
（実施例１）
第１図は、本発明の薄膜磁気ヘッドのへラドコア部の模
式断面図である。第１図において、ガラスまたは、セラ
ミック基板１上にまずＣｒ膜２をスパッタ蒸着により着
膜する。この時のＣｒ膜厚は、付着力を減少せしめない
程度に薄いことが望ましい。更にその上にアモルファス
金属（例えばＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ合金など）膜３を必要と
されるトラック幅の厚みにスパッタ法によシ積層する。
式断面図である。第１図において、ガラスまたは、セラ
ミック基板１上にまずＣｒ膜２をスパッタ蒸着により着
膜する。この時のＣｒ膜厚は、付着力を減少せしめない
程度に薄いことが望ましい。更にその上にアモルファス
金属（例えばＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ合金など）膜３を必要と
されるトラック幅の厚みにスパッタ法によシ積層する。
この時高周波特性を向上させるためには、磁性層が適当
な層厚になるようにＳ Ｒ０２などの絶縁層４を積層す
ることが望ましい。更にその上にＳｌＯ□層６、更に低
温接着ガラス層６をスパッタ法により、積層して、薄膜
磁気ヘッドのへラドコア部（１〜６までの積層部分）７
は完成する。
な層厚になるようにＳ Ｒ０２などの絶縁層４を積層す
ることが望ましい。更にその上にＳｌＯ□層６、更に低
温接着ガラス層６をスパッタ法により、積層して、薄膜
磁気ヘッドのへラドコア部（１〜６までの積層部分）７
は完成する。
このようにして作製された基板１とへラドコア部７から
第２図に示す工程に従ってヘッドを作製する。まず、基
板１と同材質の裏打ち基板８をヘッドコア部７上に重ね
て熱処理を施して低温接着切断され、巻線溝１０を形成
し、ギャップ面に接着用ガラスをスパッタ等により形成
したのち、熱処理を施してギャップ形成を行ないコアパ
ー１１を作製する。コアパー１１は更に基板１，８両面
を適当厚に研摩した後、各チップ毎に切断しヘッドチッ
プ１２となシ、前面研摩２巻線を施し薄膜磁気ヘッドが
得られる。
第２図に示す工程に従ってヘッドを作製する。まず、基
板１と同材質の裏打ち基板８をヘッドコア部７上に重ね
て熱処理を施して低温接着切断され、巻線溝１０を形成
し、ギャップ面に接着用ガラスをスパッタ等により形成
したのち、熱処理を施してギャップ形成を行ないコアパ
ー１１を作製する。コアパー１１は更に基板１，８両面
を適当厚に研摩した後、各チップ毎に切断しヘッドチッ
プ１２となシ、前面研摩２巻線を施し薄膜磁気ヘッドが
得られる。
（実施例２）
実施例１で例示したアモルファス金属磁性薄膜３の代り
にＦｅ −Ａｌ−８ｉ合金（センダストと称されている
）薄膜を形成し、他は実施例１と同様の工程により薄膜
磁気ヘッドを得る。
にＦｅ −Ａｌ−８ｉ合金（センダストと称されている
）薄膜を形成し、他は実施例１と同様の工程により薄膜
磁気ヘッドを得る。
発明の効果
以上述べてきたような工程によシ薄膜磁気ヘッドが得ら
れるが、基板と金属磁性薄膜との間にＣｒ膜を形成する
ことにより、前述の工程中での切断。
れるが、基板と金属磁性薄膜との間にＣｒ膜を形成する
ことにより、前述の工程中での切断。
研摩等の加工による衝撃、ストレス等に耐えて基板と金
属磁性薄膜層との剥離を防止し、ヘッド製造呪工程の歩
留シを著しく向上させることができ、実用上極めて有用
である。
属磁性薄膜層との剥離を防止し、ヘッド製造呪工程の歩
留シを著しく向上させることができ、実用上極めて有用
である。
第１図は本発明の実施例におけるヘッドコア部の模式断
面図、第２図は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造工程図、
第３図は薄膜磁気ヘッドの斜視図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・Ｃｒ膜、３・・・
・・・金属磁性膜、４・・・・・・絶縁層、６・・・・
・・５１ｏ２膜、６・・・・・・低温接着ガラス層、７
・・・・・・ヘッドコア部（１〜６）、８・・・・・・
裏打ち基板、９・・・・・・短冊状コア、１ｏ・・・・
・・巻線溝、１１・・・・・・コアパー、１１・・・・
・・ヘッドチップ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ／−−一基板 ６＝−１躯鰹Ｌ１７・ラス７ｉ 第 ２ 図
面図、第２図は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造工程図、
第３図は薄膜磁気ヘッドの斜視図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・Ｃｒ膜、３・・・
・・・金属磁性膜、４・・・・・・絶縁層、６・・・・
・・５１ｏ２膜、６・・・・・・低温接着ガラス層、７
・・・・・・ヘッドコア部（１〜６）、８・・・・・・
裏打ち基板、９・・・・・・短冊状コア、１ｏ・・・・
・・巻線溝、１１・・・・・・コアパー、１１・・・・
・・ヘッドチップ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ／−−一基板 ６＝−１躯鰹Ｌ１７・ラス７ｉ 第 ２ 図
Claims (2)
- （１）ガラス、またはセラミックス基板上にクローム薄
膜を形成し、前記クローム薄膜上にヘッド用金属磁性薄
膜を形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）クローム薄膜はスパッタ蒸着で形成したことを特
徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の薄膜磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2224985A JPS61182619A (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2224985A JPS61182619A (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61182619A true JPS61182619A (ja) | 1986-08-15 |
Family
ID=12077513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2224985A Pending JPS61182619A (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61182619A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5567928A (en) * | 1978-11-13 | 1980-05-22 | Fujitsu Ltd | Forming method for closely contacted layer of thin-film magnetic head |
| JPS57172520A (en) * | 1981-04-17 | 1982-10-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Thin-film type magnetic head |
-
1985
- 1985-02-07 JP JP2224985A patent/JPS61182619A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5567928A (en) * | 1978-11-13 | 1980-05-22 | Fujitsu Ltd | Forming method for closely contacted layer of thin-film magnetic head |
| JPS57172520A (en) * | 1981-04-17 | 1982-10-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Thin-film type magnetic head |
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