JPS61166055A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPS61166055A
JPS61166055A JP645685A JP645685A JPS61166055A JP S61166055 A JPS61166055 A JP S61166055A JP 645685 A JP645685 A JP 645685A JP 645685 A JP645685 A JP 645685A JP S61166055 A JPS61166055 A JP S61166055A
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JP
Japan
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bonding pad
value
takes
bonding pads
bonding
Prior art date
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Pending
Application number
JP645685A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Koseki
修 小関
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP645685A priority Critical patent/JPS61166055A/ja
Publication of JPS61166055A publication Critical patent/JPS61166055A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は半導体基板の大きさを変えることなく、また
、外部取り出し用電極の数を増加させることなしに半導
体製造工程の評価ができる半導体装置に関するものであ
る。
従来の技術 第2図に示す従来の半導体装置では半導体基板(以下単
にチップと云う)1上に形成する複数個の外部取り出し
用電極(以下単に電極と云う)3は、スクライブライン
2とパターン構成要部4との間にパターン配列を行なっ
ている。
発明が解決しようとする問題点 これはチップをパッケージ(外囲器)内に収納し、同パ
ッケージ中のリードとチップとを電気的に接続するボン
ディング工程において、そのIJ−ド線と電極とを再現
性よくボンディングを行なうためである。また、従来の
半導体装置では半導体製造工程の評価のため、主要チッ
プとは別に製造工程の評価用チップを用意しなければな
らず、そのため主要チ、ノブの採れ数が減少するため、
結果的にコスト増加を引きおこす欠点がある。
本発明は、これらの欠点を改良するものであり、主要チ
ップを有効に活用し、かつ電極の数を増加させることな
しに半導体製造面の評価をも可能にした半導体装置を提
供するものである。
問題点を解決するための手段 本発明は、チップ上に形成した論理回路等のパターンを
ボンディングパッドに電極配線を行なった構成において
、各ボンディングパッド間で、スクライブラインの間の
領域に、抵抗、単体トランジスタなどの製造プロセス評
価用のパターンを設置し、且つこの評価パターン電極を
上記ボンディングパッドで兼用した構成の半導体装置で
あり、且つ、拡散抵抗への配線の一部を細くくびれ形成
させることにより、評価後に溶断可能な構成となし得る
作  用 本発明によると、評価用パターンを実際に使用する本来
のパターンとボンディングパッドと共用させるが、チッ
プ上の論理回路の入出力端子等を適当に選ぶことにより
、ボンディングパッドからみたインピーダンスが大きい
ため、外部の評価パターンをモニターとして電気的評価
に使用しても内部回路に電気的破壊などの影響を与える
ことがないよう構成されるものとする。また、評価後は
、評価パターンへの配線の一部を溶断せしめるため、そ
の後、集積回路素子を使用する際になんら影響を及ぼす
ものではない。
実施例 第1図は、本発明による一実施例であり、半導体基板1
1上に、本来使用する論理回路等のパターン配列を行な
う領域17にボンディングパッド13〜16が形成され
、このポンプイングツくラド間及びスクライブライン1
2間の領域に、例えば抵抗18.19がそれぞれボンデ
ィングパッド13と14.15と16簡に形成された例
である。図において、パターン配列17中に一例として
、ボンディングパッド13から入力配線23を経てNA
ND20に接続され、その出力をMOSインバータ21
.22のゲートに入力されその出力側24をボンディン
グパッド14に接続した例である。
本発明によると、ボンディングパッド13からみたNA
ND入力のインピーダンスは大きく、且つ、製造工程中
、又は、パッケージ封止後においても、電源端子等を加
えたとしても、13.14のボンディングパッド間のイ
ンピーダンスはきわめて大である。従って製造工程上に
形成された拡散抵抗等の値が小さいため測定可能である
また、測定評価後は、不要であるので電気的に切りはな
す必要がある。それには、例えば、ボンディングパッド
13と抵抗18間の配線の一部を細く形成しておけばよ
い。例えば通常AI<アルミ)配線の幅を3μmで形成
しておき、一部1μm程度に形成しておけば、測定時以
上の大きい電圧を加えることにより溶断可能である。こ
れにより、主要チップパターンに影響を与えることはな
い。
発明の効果 本発明によると、半導体基板上に主要パターンと評価用
パターンなどチップの大きさを変えることなく、しかも
電気的機能を損なうことなく、素子としての本来の使用
および評価の両方の実施をすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の半導体装置を示す図、第2
図は従来例の半導体装置を示す図である。 11・・・・・・半導体基板(チップ)、12・・・・
・・スクライブライン、13,14,15.16・・・
・・ボンディングパッド、17・・・・・半導体基板の
主要パターン領域、18.19・・・・・プロセス評価
用パターン、20・・・・・・NAND、21.22・
・・・・・MOS)ランジスタ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体基板上に形成する複数個のボンディングパ
    ッド相互間、且つ、主要パターン配列とスクライブライ
    ン間の領域に、該評価用パターンを形成したことを特徴
    とする半導体装置。
  2. (2)ボンディングパッドと評価用パターンとの配線間
    を、一部細く形成して溶断可能になしたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。
JP645685A 1985-01-17 1985-01-17 半導体装置 Pending JPS61166055A (ja)

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