JPS61152674A - ジベンズ〔b,e〕オキセピン誘導体の製造法 - Google Patents

ジベンズ〔b,e〕オキセピン誘導体の製造法

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JPS61152674A
JPS61152674A JP27993084A JP27993084A JPS61152674A JP S61152674 A JPS61152674 A JP S61152674A JP 27993084 A JP27993084 A JP 27993084A JP 27993084 A JP27993084 A JP 27993084A JP S61152674 A JPS61152674 A JP S61152674A
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oxidizing
oxidizing agent
oxepine
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Toshiaki Kumazawa
熊沢 利昭
Etsuo Oshima
悦男 大島
Hiroyuki Obase
小場瀬 宏之
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KH Neochem Co Ltd
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Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は抗アレルギー作用を有する化合物の合成中間体
又はそれ自体医薬品の有効成分として有用なジベンズ(
b、e)オキセピン誘導体の製造法に関する。
従来の技術 従来、ジベンズ(b、 e〕オキセピン誘導体の製造法
は米国特許第4.282.365号、特開昭57−14
0781等にT、Yoshio’ka ら、 J、Me
d、CheID、。
21.633 (197B>等に開示されている。
しかしながら、これらの方法は操作面、収率などの面か
らすぐれた方法ではない。
発明を解決しようとする問題点 従来法に比べ短工程で簡便な操作でかつ経済的なジベン
ズ(b、 e)オキセピン誘導体の製造法が見出された
問題1.を解決するための手段 本発明は式(n) 〔式中R1およびR2は一体となって=0を表すか、あ
るいはR1は水素原子を、R2は0R4(式中R4は低
級アルキル基を表す。)を表し、R3は水素原子あるい
はハロゲン原子を表す。〕で表される化合物を酸化剤で
酸化することを特徴とする式(1) 〔式中Rr、R2およびR3は前記と同意義を表し、R
8はCHOもしくはC02Hを表す。〕で表される化合
物の製造法に関する。
次に、本発明についてさらに詳細に説明する。
式(n)の各基の定義中、低級アルキル基としては炭素
数1〜6のアルキル基、例えばメチル基。
エチル基、プロピル基等があげられる。ハロゲン原子と
してはフッ素原子、塩素原子、臭素原子。
ヨウ素原子等があげられる。酸化剤としては4価のセリ
ウム化合物、例えば硝酸第2セリウムアンモニウム、硫
酸第2セリウムアンモニウム、酢酸第2セリウム、硝酸
第2セリウム、硫酸第2セリウム等、ベルオキソニ硫酸
金属塩の金属塩、例えばナトリウム塩、あるいはカリウ
ム塩、ベルオキソニ硫酸アンモニウム等があげられる。
以下、酸化剤によって反応を分けて説明する。
式(n−1) 〔式中R3およびR4は前記と同意義を表す。〕で表さ
れる化合物をメタノール、エタノール等のアルコール中
、2〜5当量の4価のセリウム化合物、好ましくは硝酸
第2セリウムアンモニウムで0℃から用いた溶媒の沸点
の間の適宜な温度で、好ましくは0℃から室温の間の温
度で、1〜3時間酸化することにより式(I−1) 〔式中R3およびR4は前記と同意義を表す。〕で表さ
れる化合物を得ることができる。
又、得られた化合物(I−1)を有機合成反応において
通常用いられる酸化法、例えば酸化クロム(Vl)−酢
酸あるいは酸化クロム(VI)−硫酸等を用いる方法、
具体的には例えば日本化学会線。
新実験化学講座15 酸化と還元Cl−1”IP105
〜156.丸善株式会社に記載の方法により酸化するこ
とにより式(I−2) 〔式中R3およびR4は前記と同意義を表す。〕で表さ
れる化合物を得ることができる。
化合物(II>を水、酢酸、テセトニトリル、メタノー
ル、エタノール、酢酸エチル、エチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、1.4−ジオキサン。
ジメトキシエタン、N、N−ジメチルホルムアミド等の
溶媒の単独もしくは混合物中、必要に応じ1〜5当量の
塩基、例えばピリジン、トリエチルアミン、ジメチルア
ニリン、キノリン、イミダゾール、エチレンジアミン、
1.8−ジアザビシクロ[:5.4.0]−7−ウンデ
セン等の有機塩基、あるいは水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム。
炭酸水素カリウム等の無機塩基の存在下、2〜6当量の
ベルオキソニ硫酸金属塩もしくはベルオキソニ硫酸アン
モニウム、好ましくはベルオキソニ硫酸カリウムと0.
1〜0.5当量の1価の銀化合物、例えば酢酸銀、塩化
銀、過塩素酸銀等、2価の銅化合物、例えば硫酸銅、酢
酸銅、硝酸銅、塩化第二銅等、2価の鉄化合物、例えば
塩化第一鉄、硫酸第一鉄、硝酸第−鉄等、2価のマンガ
ン化合物、例えば塩化マンガン、硫酸マンガン、硝酸マ
ンガン等、3価のセリウム化合物、例えば酢酸第1セリ
ウム、塩化第1セリウム、硫酸第1セリウム。
硝酸第1セリウム等、あるいは3価のチタン化合物、例
えば三塩化チタン等、等の金属化合物の少なくとも1種
とで室温から用いた溶媒の沸点の間の適宜な温度で1〜
6時間酸化させた後、必要jこ応じ塩酸、硫酸、硝酸あ
るいはリン酸等の鉱酸、もしくはギ酸、酢酸等の有機酸
と反応させることにより式(I−3> 〔式中RコおよびRsは前記と同意義を表す。〕で表さ
れる化合物を得ることができる。なお、この際、用いる
ベルオキソニ硫酸金属塩もしくはベルオキソニ硫酸アン
モニウムの当量を選ぶことにより生成物である式(1−
3)で表される化合物の式中のRSがCHOもしくはC
02Hのいずれかであるものを選択的に得ることができ
る。すなわち、例えばベルオキソニ硫酸金属塩もしくは
ベルオキソニ硫酸アンモニウムを2〜3当量用いた場合
はR1がCHOであるものを、また4〜6当量用いた場
合にはR8がCOz Hであるものを選択的に得ること
ができる。
反応終了後の反応液から化合物(I)の単離精製は蒸留
、再結晶、カラムクロマトグラフィー等により行うこと
ができる。
次に本発明の実施例を示す。
実施例1゜ 11−メトキシ−2−メチル−6,11−ジヒドロジベ
ンズ[b、e〕オキセピン30.0 gを無水メタノー
ル68 Qmlに溶解し、硝酸第二セリウムアンモニウ
ム171.1gを加え、室温で2時間攪拌する。減圧濃
縮後、残渣に酢酸エチル700+nlを加え可溶部を溶
解し、有機層を水、飽和重ソウ水、水の順で洗い、無水
硫酸す) IJウムで乾燥した後、減圧濃縮を行う。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:
n−へキサン/酢酸エチル=3/1)に付し、主分画を
濃縮し、11−メトキシ−6,11−ジヒドロジベンズ
(b。
e〕オキセピン−2−カルバルデヒド14.2 gを得
る。
IR(CHCβ3溶液)  : 2900.16g0.
1600゜1490、1060c+r’ NMR(CDCj!3.δppm )  : 3.34
 (s、 3H)。
4.99および6.23 (Q、 2H,ABtype
)、 5.08 (S、 IH)。
6.80−8.08 (m、 7H)、 9.95 (
s、 1)1)実施例2゜ 実施例1と同様な方法により、9−ブロモー11−メト
キシ−2−メチル−6゜11−ジヒドロジベンズ(b、
a)オキセピン0.32 gから9−ブロモ−11−メ
トキシ−6,11−ジヒドロジベンズ(b、e)オキセ
ピン−2−カルバルデヒド0.32gを1与る。
NMR<CDC1,,6119m )  :  3.3
2 (s、 3H)。
4.90および5.89 (q、2H,ABtype)
、 4.97 (s、 1)1)。
6.75−7.86 (m、 6)1)、 9.78 
(s、 IH)実施例3゜ 2−メチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロジベン
ズ(b、e)オキセピン80.0 g 、ベルオキソニ
硫酸カリウム200.0 gおよび硫酸銅11.2gを
アセトニトリル2.01 、水1.21およびピリジン
801111に懸濁させ、3時間おだやかに還流する。
放冷後、酢酸エチル1.Olを加え振とう後分液し、有
機層を水、2N−塩酸、飽和型ソウ水。
水の順に洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮
を行う。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出溶媒酢酸エチル)に付し、主分画を濃縮することに
より、11−オキソ−6,11−ジヒドロジベンズ(b
、e)オキセピン−2−カルバルデヒド48.0 gを
得る。
IR(KBr錠剤) :  1580.1360.12
80.1200 co+−’NMR(CDCj!、、δ
ppm )  : 5.26 (s、 28)。
7.01−8.29 (m、 6H)、 8.74 (
d、 IH)、 10.00 (s、 IH)m  点
: 171−172℃(テトラヒドロフランから再結晶
精製) 実施例4゜ 2−メチル−11−オキソ−6,11−ジヒドロジベン
ズ(b、e)オキセピン10.0 g 、ベルオキソニ
硫酸カリウム24.1 ’gおよび硫酸141.43g
をアセトニトリル20 Qml、水g Q+1およびピ
リジン18m1に懸濁させ、1時間おだやかに還流する
。さらにベルオキソニ硫酸カリウム36.2 gを加え
た後3時間還流する。放冷後、不溶物を枦別し、P液を
塩酸でpH2に調整した後、塩化メチレン500111
1で抽出し、有機層を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、減圧濃縮を行う。残渣に水10 Qmlを加え
、4N−カセイソーダ水溶液を加えpH13に調整し、
可溶物を溶解する。
水層をエーテルで2回洗った後、4N−塩酸を加えp 
H1,5に調整する。析出物を炉別し、水で洗った後、
減圧加熱乾燥を行い11−オキソ−6,11−ジヒドロ
ジベンズ(b、e〕オキセピン−2−カルボン酸5.0
gを得る。
融 点: 250−252℃(酢酸エチルから再結晶精
製)IR(KBr錠剤) : 3600−2400 (
br)、 1700゜1650、1610.1280c
m−’NMR<CDC1,+DMSO−d1.δI)I
)111):5.25 (s、 2)1)、 6.90
−8.33 (Ill、 6)1)、 8.88 (d
、 IH)実施例5゜ 実施例4と同様な方法により、3−メチル−11−オキ
ソ−6,11−ジヒドロジベンズ(b、e)オキセピン
4.0gから、11−オキソ−6、11−ジヒドロジベ
ンズ(b、e)オキセピン−3−カルボン酸2.5gを
得る。
IR(KBr錠剤) : 3600−2900 (br
)、 1700゜1610、1260811−’ NMR(CDCI、+DMSO−cl、、  δppm
>:5.19 (s、 2H)、 6.82−8.27
 (m、 6H)、 8.69 (6,11(>発明の
効果 本発明によれば従来法に比べ短工程で簡便な操作でかつ
経済的にジベンズ(b、 e)オキセピン誘導体が製造
される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中R^1およびR^2は一体となって=Oを表すか
    、あるいはR^1は水素原子を、R^2はOR^4(式
    中R^4は低級アルキル基を表す。)を表し、R^3は
    水素原子あるいはハロゲン原子を表す。〕で表される化
    合物を酸化剤で酸化することを特徴とする式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中R^1、R^2およびR^3は前記と同意義を表
    し、R^5はCHOもしくはCO_2Hを表す。〕で表
    される化合物の製造法。
JP27993084A 1984-12-26 1984-12-26 ジベンズ〔b,e〕オキセピン誘導体の製造法 Granted JPS61152674A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4994463A (en) * 1987-12-14 1991-02-19 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic thromboxane A2 antagonists
US4999363A (en) * 1988-06-09 1991-03-12 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic compounds
US5010104A (en) * 1987-10-14 1991-04-23 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic compounds
US5242931A (en) * 1988-06-09 1993-09-07 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic compounds as TXA2 antagonists

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5010104A (en) * 1987-10-14 1991-04-23 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic compounds
US5010087A (en) * 1987-10-14 1991-04-23 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic compounds and TXA2 antagonistic compositions thereof
US4994463A (en) * 1987-12-14 1991-02-19 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic thromboxane A2 antagonists
US5143922A (en) * 1987-12-14 1992-09-01 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic thromboxane A2 antagonists
US5302602A (en) * 1987-12-14 1994-04-12 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic thromboxane A2 antagonists
US4999363A (en) * 1988-06-09 1991-03-12 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic compounds
US5118701A (en) * 1988-06-09 1992-06-02 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic compounds as txa2 antagonists
US5242931A (en) * 1988-06-09 1993-09-07 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic compounds as TXA2 antagonists
US5302596A (en) * 1988-06-09 1994-04-12 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Tricyclic compounds as TXA2 antagonists

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