JPS61152673A - ジベンズ〔ｂ，ｅ〕オキセピン誘導体の製造法 - Google Patents
ジベンズ〔ｂ，ｅ〕オキセピン誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPS61152673A JPS61152673A JP27992984A JP27992984A JPS61152673A JP S61152673 A JPS61152673 A JP S61152673A JP 27992984 A JP27992984 A JP 27992984A JP 27992984 A JP27992984 A JP 27992984A JP S61152673 A JPS61152673 A JP S61152673A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は抗アレルギー作用を有する化合物の合成中間体
またはそれ自体医薬品の有効成分として有用な式（１） 〔式中、Ｒ１は低級アルキル基を表す。〕で表されるジ
ベンズ（ｂ、ｅ）オキセピン誘導体〔以下、化合物（Ｉ
）という。他の式番号の化合物についても同様〕の製造
法に関する。
またはそれ自体医薬品の有効成分として有用な式（１） 〔式中、Ｒ１は低級アルキル基を表す。〕で表されるジ
ベンズ（ｂ、ｅ）オキセピン誘導体〔以下、化合物（Ｉ
）という。他の式番号の化合物についても同様〕の製造
法に関する。
従来の技術
従来、化合物（Ｉ）の製造法は米国特許第４、２８２．
３６５号等に開示されている。しかしながら、これらの
製造法は多数の工程を要し、収率も低いものであった。
３６５号等に開示されている。しかしながら、これらの
製造法は多数の工程を要し、収率も低いものであった。
発日が解決しようとする問題点
従来法に比べ短工程で収率よく化合物（Ｉ）を製造する
方法が見出された。
方法が見出された。
問題点を解決するための手段
本発明はフタリドと式（Ｉｔ）
〔式中、Ｒ１は低級アルキル基を表し、Ｍはアルカリ金
属あるいはアルカリ土類金属を表す。〕で表される化合
物とを反応させた後、酸を加えて式（Ｉ） 〔式中、Ｒ１は前記と同意義を表す。〕で表される化合
物を得、ついで式（Ｉ［Ｉ＞で表される化合物と縮合剤
とを反応させることを特徴とする化合物（Ｉ）の製造法
に関する。
属あるいはアルカリ土類金属を表す。〕で表される化合
物とを反応させた後、酸を加えて式（Ｉ） 〔式中、Ｒ１は前記と同意義を表す。〕で表される化合
物を得、ついで式（Ｉ［Ｉ＞で表される化合物と縮合剤
とを反応させることを特徴とする化合物（Ｉ）の製造法
に関する。
次に本発明についてさらに詳しく説明する。
式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の定義中、低級アルキル基として
は炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基等があげられる。アルカリ金属としては
、例えばリチウム、ナトリウム。
は炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基等があげられる。アルカリ金属としては
、例えばリチウム、ナトリウム。
カリウム等があげられる。アルカリ土類金属としては、
例えばマグネシウム、カルシウム等があげられる。本発
明で使用する縮合剤としては無水トリフルオロ酢酸、無
水トリクロロ酢酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸
、トリフルオロメタンスルホニルクロリド等あるいはポ
リリン酸等が用いられる。
例えばマグネシウム、カルシウム等があげられる。本発
明で使用する縮合剤としては無水トリフルオロ酢酸、無
水トリクロロ酢酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸
、トリフルオロメタンスルホニルクロリド等あるいはポ
リリン酸等が用いられる。
本発明の製造法においては、まず、化合物（Ｉｆ）と１
〜２当量の７タリドとを無溶媒で、もしくはＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、
ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリ
アミド等の不活性溶媒中、必要に応じ水溶性の塩、例え
ば塩化ナトリウム。
〜２当量の７タリドとを無溶媒で、もしくはＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、
ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリ
アミド等の不活性溶媒中、必要に応じ水溶性の塩、例え
ば塩化ナトリウム。
塩化カリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム。
ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、塩化アンモニウム
、硫酸アンモニウム等を適量存在させて、室温から２０
０℃までの適宜な温度で、好ましくは１００〜１８０℃
の温度で２〜１２時間反応させた後、酸、例えば塩酸、
硫酸、硝酸、リン酸等の鉱酸、あるいはギ酸、酢酸等の
有機酸を加えて中和して化合物（Ｉ［Ｉ）を得る。
、硫酸アンモニウム等を適量存在させて、室温から２０
０℃までの適宜な温度で、好ましくは１００〜１８０℃
の温度で２〜１２時間反応させた後、酸、例えば塩酸、
硫酸、硝酸、リン酸等の鉱酸、あるいはギ酸、酢酸等の
有機酸を加えて中和して化合物（Ｉ［Ｉ）を得る。
ついで、縮合剤として無水トリフルオロ酢酸。
無水トリクロロ酢酸、無水トリフルオロメタンスルボッ
酸１）！ｊフルオロメタンスルホニルクロリド等を用い
る場合には化合物（Ｉ［Ｉ）と１〜１．５当量の縮合剤
とを塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、テトラクロロエタン等の不活性溶媒中、０〜
１００℃もしくは０℃から用いた溶媒の沸点の間の適宜
な温度で３０分〜３時間反応させた後、さらに必要に応
じ触媒量のルイス酸、例えば三フフ化ホウ素エチルエー
テル複合体、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化アルミニ
ウム等を加え、同温度で３０分〜７２時間反応させるこ
とにより化合物（Ｉ）を得る。また、上記でルイス酸を
あらかじめ縮合剤と同時に加えて同温度で３０分〜３時
間反応させることによっても化合物（Ｉ）を得ることが
できる。
酸１）！ｊフルオロメタンスルホニルクロリド等を用い
る場合には化合物（Ｉ［Ｉ）と１〜１．５当量の縮合剤
とを塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、テトラクロロエタン等の不活性溶媒中、０〜
１００℃もしくは０℃から用いた溶媒の沸点の間の適宜
な温度で３０分〜３時間反応させた後、さらに必要に応
じ触媒量のルイス酸、例えば三フフ化ホウ素エチルエー
テル複合体、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化アルミニ
ウム等を加え、同温度で３０分〜７２時間反応させるこ
とにより化合物（Ｉ）を得る。また、上記でルイス酸を
あらかじめ縮合剤と同時に加えて同温度で３０分〜３時
間反応させることによっても化合物（Ｉ）を得ることが
できる。
また、縮合剤としてポリリン酸等を用いる場合には化合
物（ＩＩＩ）と化合物（Ｉ［［）の重量に対して１〜２
０倍の間の適宜な量の縮合剤とを必要に応じスルホラン
、Ｎ−メチルピペリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド等の非プロトン性極性溶媒を加えて、室温から２００
℃までの適宜な温度、好ましくは６０〜１５０℃で２〜
６時間反応させることにより化合物（１）を得ることが
できる。
物（ＩＩＩ）と化合物（Ｉ［［）の重量に対して１〜２
０倍の間の適宜な量の縮合剤とを必要に応じスルホラン
、Ｎ−メチルピペリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド等の非プロトン性極性溶媒を加えて、室温から２００
℃までの適宜な温度、好ましくは６０〜１５０℃で２〜
６時間反応させることにより化合物（１）を得ることが
できる。
上記各反応の目的物（中間体も含む）の反応液からの単
離精製は濾過１機溶媒、例えば酢酸エチルによる抽出、
濃縮、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、乾燥
等の公知の手法により行うことができる。また、出発原
料として用いられる化合物（Ｉｒ）は式（ＩＶ） 〔式中、Ｒ１は前記と同意義を表す〕 で表される化合物とナトリウムメトキシドあるいはナト
リウムエトキシド等の金属アルコキシドとをメタノール
、エタノール等の溶媒中で反応させた後、溶媒を留去す
る等の方法により容易に１４４ことができる。
離精製は濾過１機溶媒、例えば酢酸エチルによる抽出、
濃縮、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、乾燥
等の公知の手法により行うことができる。また、出発原
料として用いられる化合物（Ｉｒ）は式（ＩＶ） 〔式中、Ｒ１は前記と同意義を表す〕 で表される化合物とナトリウムメトキシドあるいはナト
リウムエトキシド等の金属アルコキシドとをメタノール
、エタノール等の溶媒中で反応させた後、溶媒を留去す
る等の方法により容易に１４４ことができる。
次に本発明の実施例を示す。
実施例１゜
ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチルのナトリウム塩３７６、
３ ｇ 、フタリド４０２．４ ｇおよび塩化ナトリウ
ム２００ｇを１５０℃で６時間攪拌する。反応終了後、
室温まで冷却した後、１０％酢酸水溶液４ｊ！を加え、
室温で一晩放置する。室温で３時間攪拌した後、結晶を
炉別する。結晶に水６１を加え、室温で３０分間攪拌し
た後、結晶をＦ別する。結晶にトルエン３１を加え室温
で１時間攪拌を行い、結晶をＰ別後、減圧加熱乾燥する
ことにより、２−（４−エトキシカルボニルフェノキシ
）メチル安息香酸４１３．２ｇを得る。
３ ｇ 、フタリド４０２．４ ｇおよび塩化ナトリウ
ム２００ｇを１５０℃で６時間攪拌する。反応終了後、
室温まで冷却した後、１０％酢酸水溶液４ｊ！を加え、
室温で一晩放置する。室温で３時間攪拌した後、結晶を
炉別する。結晶に水６１を加え、室温で３０分間攪拌し
た後、結晶をＦ別する。結晶にトルエン３１を加え室温
で１時間攪拌を行い、結晶をＰ別後、減圧加熱乾燥する
ことにより、２−（４−エトキシカルボニルフェノキシ
）メチル安息香酸４１３．２ｇを得る。
ＩＲ（ＫＢｒ錠剤） ： ３４００．１７００．１６１
０．１２６０゜１２３５ｃｍ−鳳 ＮＭＲ（ＣＤＣｊ！３ ＋ＤＭＳＯ−ｄ、、δｐｐｍ）
：１．４２ （ｔ、 ３）１）、 ４Ｊ６ （Ｑ、 ２
Ｈ）、 ５．５５ （ｓ、 ２Ｈ）。
０．１２６０゜１２３５ｃｍ−鳳 ＮＭＲ（ＣＤＣｊ！３ ＋ＤＭＳＯ−ｄ、、δｐｐｍ）
：１．４２ （ｔ、 ３）１）、 ４Ｊ６ （Ｑ、 ２
Ｈ）、 ５．５５ （ｓ、 ２Ｈ）。
６．９１−８．２０ （ｍ、 ８）１）このようにして
得られた２−（４−エトキシカルボニルフェノキシ）メ
チル安息香酸４１２．０ｇを塩化メチレン５．Ｏｌに懸
濁させ、無水トリフルオロ酢酸２６６．０ ｇを加え、
室温で１時間攪拌した後、三フッ化ホウ素エチルエーテ
ル複合体１９．４ｇを加え室温で２時間攪拌する。反応
液を氷水中に注ぎ、分岐後、有機層を希カセイソーダ水
溶液。
得られた２−（４−エトキシカルボニルフェノキシ）メ
チル安息香酸４１２．０ｇを塩化メチレン５．Ｏｌに懸
濁させ、無水トリフルオロ酢酸２６６．０ ｇを加え、
室温で１時間攪拌した後、三フッ化ホウ素エチルエーテ
ル複合体１９．４ｇを加え室温で２時間攪拌する。反応
液を氷水中に注ぎ、分岐後、有機層を希カセイソーダ水
溶液。
水で洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に濃縮し１１−オキソジベンズ（ｂ、 ｅ）オキセピン
−２−カルボン酸エチル３５２．９ｇを白色結晶として
得る。
に濃縮し１１−オキソジベンズ（ｂ、 ｅ）オキセピン
−２−カルボン酸エチル３５２．９ｇを白色結晶として
得る。
融 点 ： １０６．５〜１０７℃（イソプロピルエ
ーテルより再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ錠剤） ： １７１０．１６５０．１
６１０．１２５０゜１０１１０１Ｏ’ ＮＭＲ（ＣＤＣｊ２．、δｐｐｒｎ ） ： １．
３８ （ｔ、 ３Ｈ）。
ーテルより再結晶） ＩＲ（ＫＢｒ錠剤） ： １７１０．１６５０．１
６１０．１２５０゜１０１１０１Ｏ’ ＮＭＲ（ＣＤＣｊ２．、δｐｐｒｎ ） ： １．
３８ （ｔ、 ３Ｈ）。
４．３４ （ｑ、 ２）１）、 ５．１３ （ｓ、 ２
ｔｌ）、 ６．９５ （ｄ、 ＬＨ）。
ｔｌ）、 ６．９５ （ｄ、 ＬＨ）。
７．１２−８．１０ （ω、 ５Ｈ）、 ８．７６ （
ｄ、 ＬＨ）実施例２゜ 実施例１と同様な方法によりｍ−ヒドロキシ安息香酸メ
チルのナトリウム塩５．７ｇとフタリド６．６ｇから、
２−（３−メトキシカルボニルフェノキシ）メチル安息
香酸３．１ ｇを得る。
ｄ、 ＬＨ）実施例２゜ 実施例１と同様な方法によりｍ−ヒドロキシ安息香酸メ
チルのナトリウム塩５．７ｇとフタリド６．６ｇから、
２−（３−メトキシカルボニルフェノキシ）メチル安息
香酸３．１ ｇを得る。
ＩＲ（ＫＢｒ錠剤） ： ３１５０．１６９０．１５９
０．１２３０゜１０４５ｃａ＋−’ このようにして得られた２−（３−メトキシカルボニル
フェノキシ）メチル安息香酸２゜Ｏｇを塩化メチレン５
０＋＋＋１に懸濁させ、無水トリフルオロ酢酸１．７ｇ
を加え室温で４時間攪拌させた後、三フッ化ホウ素エチ
ルエーテル複合体０．１ｇを加え、１０時間還流させる
。冷却後反応液を氷水にあけ、分岐した後、を機層を希
カセイソーダ水溶液、水で洗った後、無水硫酸マグネン
ウムで乾燥し減圧下に濃縮を行い、１１−オキソジベン
ズ（ｂ、 ｅ）オキセピン−３−カルボン酸メチル０．
４５ ｇを得る。
０．１２３０゜１０４５ｃａ＋−’ このようにして得られた２−（３−メトキシカルボニル
フェノキシ）メチル安息香酸２゜Ｏｇを塩化メチレン５
０＋＋＋１に懸濁させ、無水トリフルオロ酢酸１．７ｇ
を加え室温で４時間攪拌させた後、三フッ化ホウ素エチ
ルエーテル複合体０．１ｇを加え、１０時間還流させる
。冷却後反応液を氷水にあけ、分岐した後、を機層を希
カセイソーダ水溶液、水で洗った後、無水硫酸マグネン
ウムで乾燥し減圧下に濃縮を行い、１１−オキソジベン
ズ（ｂ、 ｅ）オキセピン−３−カルボン酸メチル０．
４５ ｇを得る。
ＩＲ（ＫＢｒ錠剤） ： １６８０．１６２５．１４
３５．１２９０Ｉｌ−Ｉ ＮＭＲ（ＣＤＣ１＊、δｐｐｍ ） ： ３．８７
（ｓ、 ３）１）。
３５．１２９０Ｉｌ−Ｉ ＮＭＲ（ＣＤＣ１＊、δｐｐｍ ） ： ３．８７
（ｓ、 ３）１）。
５゜１３ （ｓ、 ２Ｈ）、 ７．０１−８．３３ （
ｍ、 ７Ｈ）実施例３゜ 実施例１で得られる２−（４−エトキシカルボニルフェ
ノキシ）メチル安息香酸エチル１．５ｇを塩化メチレン
２５＋１に懸濁させ、無水トリフルオロメｉンスルホン
酸１．７ ｇを加え、室温で１時間攪拌する。三フッ化
ホウ素エチルエーテル複合体０、１ ｇを加え１０時間
還流する。反応液をＩＮ−水酸化ナトリウム水溶液つい
で水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃
縮を行う。得られた粗結晶をイソプロピルエーテルより
再結晶Ｍ！ｌ！を行い、１１−オキソ−６，１１−ジヒ
ドロジベンズ（ｈ、 ｅ）オキセピン−２−カルボン酸
エチル０．５ｇを得る。このものの物理化学的性質は実
施例１で得られた化合物と一致する。
ｍ、 ７Ｈ）実施例３゜ 実施例１で得られる２−（４−エトキシカルボニルフェ
ノキシ）メチル安息香酸エチル１．５ｇを塩化メチレン
２５＋１に懸濁させ、無水トリフルオロメｉンスルホン
酸１．７ ｇを加え、室温で１時間攪拌する。三フッ化
ホウ素エチルエーテル複合体０、１ ｇを加え１０時間
還流する。反応液をＩＮ−水酸化ナトリウム水溶液つい
で水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃
縮を行う。得られた粗結晶をイソプロピルエーテルより
再結晶Ｍ！ｌ！を行い、１１−オキソ−６，１１−ジヒ
ドロジベンズ（ｈ、 ｅ）オキセピン−２−カルボン酸
エチル０．５ｇを得る。このものの物理化学的性質は実
施例１で得られた化合物と一致する。
実施例４゜
実施例１で得られる２−（４−エトキシカルボニルフェ
ノキシ）メチル安息香酸３．０ｇを塩化メチレン７０ｍ
ｌに懸濁させ、無水トリクロロ酢酸４．６ｇを加え室温
で１時間半攪拌する。さらに三フッ化ホウ素エチルエー
テル複合体０．１ｇを加え室温で一晩攪拌する。反応液
を氷水中に注ぎ、振とう後、分液し水層を棄却する。有
機層をＩＮ−水酸化ナトリウム水溶液、ついで水で洗い
、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮を行い、
１１−オキソ−６，１１−ジヒドロジベンズ（ｂ、 ｅ
〕オキセピン−２−カルボン酸エチルの粗結晶２．８ｇ
を得る。粗結晶をイソプロピルエーテルより再結晶精製
を行い精製品２．１ｇを得る。このものの物理化学的性
質は実施例１で得られた化合物のものと一致した。
ノキシ）メチル安息香酸３．０ｇを塩化メチレン７０ｍ
ｌに懸濁させ、無水トリクロロ酢酸４．６ｇを加え室温
で１時間半攪拌する。さらに三フッ化ホウ素エチルエー
テル複合体０．１ｇを加え室温で一晩攪拌する。反応液
を氷水中に注ぎ、振とう後、分液し水層を棄却する。有
機層をＩＮ−水酸化ナトリウム水溶液、ついで水で洗い
、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮を行い、
１１−オキソ−６，１１−ジヒドロジベンズ（ｂ、 ｅ
〕オキセピン−２−カルボン酸エチルの粗結晶２．８ｇ
を得る。粗結晶をイソプロピルエーテルより再結晶精製
を行い精製品２．１ｇを得る。このものの物理化学的性
質は実施例１で得られた化合物のものと一致した。
実施例５゜
実施例１で得られる２−（４−エトキシカルボニルフェ
ノキシ）メチル安息香酸３．Ｏｇｔｌ、１．２゜２−テ
トラクロルエタン７０ｍ１に懸濁させ、無水トリフルオ
ロ酢酸２．５ｇを加え２０時間加熱還流を行う。放冷後
、反応液をＩＮ−水酸化ナトリウム水溶液、ついで水で
洗い、無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥後、減圧下に濃縮
を行う。得られた粗結晶をイソプロピルエーテルから再
結晶精製を行い、１１−オキソ−６，１１−ジヒドロジ
ベンズ（ｂ、 ｅ）オキセピン−２−カルボン酸エチル
０．７ｇを得る。
ノキシ）メチル安息香酸３．Ｏｇｔｌ、１．２゜２−テ
トラクロルエタン７０ｍ１に懸濁させ、無水トリフルオ
ロ酢酸２．５ｇを加え２０時間加熱還流を行う。放冷後
、反応液をＩＮ−水酸化ナトリウム水溶液、ついで水で
洗い、無水硫酸す） ＩＪウムで乾燥後、減圧下に濃縮
を行う。得られた粗結晶をイソプロピルエーテルから再
結晶精製を行い、１１−オキソ−６，１１−ジヒドロジ
ベンズ（ｂ、 ｅ）オキセピン−２−カルボン酸エチル
０．７ｇを得る。
このものの物理化学的性質は実施例１で得られた化合物
のものと一致した。
のものと一致した。
実施例６゜
実施例１で得られる２−（４−エトキシカルボニルフェ
ノキシ）メチル安息香酸２、Ｏｇにポリリン酸２０．０
ｇとスルホラン２０．０ ｇを加え、８０〜９０℃で
３時間加熱攪拌を行う。反応混合物を氷水に加え酢酸エ
チルで抽出を行う、ｌｒ機層を水。
ノキシ）メチル安息香酸２、Ｏｇにポリリン酸２０．０
ｇとスルホラン２０．０ ｇを加え、８０〜９０℃で
３時間加熱攪拌を行う。反応混合物を氷水に加え酢酸エ
チルで抽出を行う、ｌｒ機層を水。
飽和重ソウ水、水、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧下に濃縮を行い、１１−オキソ−６
，１１−ジヒドロジベンズ（ｂ、 ｅ〕オキセピン−２
−カルボン酸エチルの粗結晶１．２ｇを得る。イソプロ
ピルエーテルより再結晶精製を行い、０．４ｇの精製品
を得る。このものの物理化学的性質は実施例１で得られ
た化合物のものと一致した。
ウムで乾燥後、減圧下に濃縮を行い、１１−オキソ−６
，１１−ジヒドロジベンズ（ｂ、 ｅ〕オキセピン−２
−カルボン酸エチルの粗結晶１．２ｇを得る。イソプロ
ピルエーテルより再結晶精製を行い、０．４ｇの精製品
を得る。このものの物理化学的性質は実施例１で得られ
た化合物のものと一致した。
実施例７゜
実施例１で得られる２−（４−エトキシカルボニルフェ
ノキシ）メチル安息香酸２．０ｇとポリリン酸を８０〜
９０℃で３時間加熱攪拌を行う。反応混合物を氷水に加
え、酢酸エチルで抽出を行う。
ノキシ）メチル安息香酸２．０ｇとポリリン酸を８０〜
９０℃で３時間加熱攪拌を行う。反応混合物を氷水に加
え、酢酸エチルで抽出を行う。
有機層を飽和型ソウ水、水、飽和食塩水で洗い、無水硫
酸す）ＩＪウムで乾燥後減圧下に濃縮を行い、１１−オ
キソ−６，１１−ジヒドロジベンズ（ｂ、 ｅ）オキセ
ピン−２−カルボン酸エチルの粗結晶１．０ｇを得る。
酸す）ＩＪウムで乾燥後減圧下に濃縮を行い、１１−オ
キソ−６，１１−ジヒドロジベンズ（ｂ、 ｅ）オキセ
ピン−２−カルボン酸エチルの粗結晶１．０ｇを得る。
イソプロピルエーテルより再結晶精製を行い、精製品０
．３ｇを得る。このものの物理化学的性質は実施例１で
得られた化合物のものと一致した。
．３ｇを得る。このものの物理化学的性質は実施例１で
得られた化合物のものと一致した。
発明の効果
本発明によって従来法に比べ短工程で収率よく化合物（
Ｉ）が製造される。
Ｉ）が製造される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 フタリドと式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｒ＾１は低級アルキル基を表し、Ｍはアルカリ
金属あるいはアルカリ土類金属を表す。〕で表される化
合物とを反応させた後、酸を加えて中和して式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔式中、Ｒ＾１は前記と同意義を表す。〕 で表される化合物を得、ついで式（III）で表される化
合物と縮合剤とを反応させることを特徴とする式（ I
） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１は前記と同意義を表す。〕 で表される化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27992984A JPS61152673A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | ジベンズ〔ｂ，ｅ〕オキセピン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27992984A JPS61152673A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | ジベンズ〔ｂ，ｅ〕オキセピン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61152673A true JPS61152673A (ja) | 1986-07-11 |
| JPH0522709B2 JPH0522709B2 (ja) | 1993-03-30 |
Family
ID=17617877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27992984A Granted JPS61152673A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | ジベンズ〔ｂ，ｅ〕オキセピン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61152673A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4994463A (en) * | 1987-12-14 | 1991-02-19 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic thromboxane A2 antagonists |
| US4999363A (en) * | 1988-06-09 | 1991-03-12 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic compounds |
| US5010087A (en) * | 1987-10-14 | 1991-04-23 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic compounds and TXA2 antagonistic compositions thereof |
| US5242931A (en) * | 1988-06-09 | 1993-09-07 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic compounds as TXA2 antagonists |
| EP2286811A1 (en) | 2001-11-21 | 2011-02-23 | Millennium Pharmaceuticals, Inc. | Chemokine receptor antagonists and methods of use thereof |
-
1984
- 1984-12-26 JP JP27992984A patent/JPS61152673A/ja active Granted
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5010087A (en) * | 1987-10-14 | 1991-04-23 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic compounds and TXA2 antagonistic compositions thereof |
| US5010104A (en) * | 1987-10-14 | 1991-04-23 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic compounds |
| US4994463A (en) * | 1987-12-14 | 1991-02-19 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic thromboxane A2 antagonists |
| US5143922A (en) * | 1987-12-14 | 1992-09-01 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic thromboxane A2 antagonists |
| US5302602A (en) * | 1987-12-14 | 1994-04-12 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic thromboxane A2 antagonists |
| US4999363A (en) * | 1988-06-09 | 1991-03-12 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic compounds |
| US5118701A (en) * | 1988-06-09 | 1992-06-02 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic compounds as txa2 antagonists |
| US5242931A (en) * | 1988-06-09 | 1993-09-07 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic compounds as TXA2 antagonists |
| US5302596A (en) * | 1988-06-09 | 1994-04-12 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Tricyclic compounds as TXA2 antagonists |
| EP2286811A1 (en) | 2001-11-21 | 2011-02-23 | Millennium Pharmaceuticals, Inc. | Chemokine receptor antagonists and methods of use thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0522709B2 (ja) | 1993-03-30 |
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