JP2000506889A - ヒドロキシ芳香族化合物のアルキル化及びスマイルス転位の方法 - Google Patents

ヒドロキシ芳香族化合物のアルキル化及びスマイルス転位の方法

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、(1) ヒドロキシ芳香族化合物の塩を含む反応混合物をアルキル化剤で処理し、そして(2) 反応混合物をスマイルス溶媒系で処理しそして反応混合物の温度を上げる段階からなるヒドロキシ芳香族化合物を2−ヒドロキシ−N−アリールアセトアミドに変換する方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 ヒドロキシ芳香族化合物のアルキル化及び スマイルス転位の方法 発明の背景 スマイルス転位は一個のヘテロ原子が芳香族環上で他へ移動することになる分 子内求核芳香族置換を含む反応の型を表す。スマイルス転位は酸素、硫黄及び窒 素を含む種々のヘテロ原子において起こる。縮合環複素環式フェノールを含むフ ェノール類の対応するアニリンへのスマイルス転位はI.G.C.Coutts及びM.R.So uthcottによりJ.Chem.Soc.Perkin Trans.I,1990;767-771に報告されている 。I.G.C.Coutts及びM.R.Southcottにより記述された合成は、場合によりより大 きな環系の中に縮合した芳香族環上のヒドロキシ基をアミノ基で置き換えるもの である。報告書はこの合成をそれぞれの中間物質の精製を伴う別個の3段階の方 法として記述している。第一段階はアルコールの2−アリールオキシアセトアミ ドへのアルキル化である。第二段階はアリールオキシアセトアミドの2−ヒドロ キシ−N−アリールアセトアミドへの実際のスマイルス転位である。最後に、2 −ヒドロキシ−N−アリールアセトアミドは対応する芳香族アミンに加水分解さ れる。ヒドロキシ芳香族化合物から芳香族アミド又はアミンへの既知のスマイル ス転位は2−アリールオキシアセトアミド中間物質の精製を包含する。 フェノールのアニリンへの直接変換の方法は既知であるが、多くは重大な欠点 を有する。例えば、4−クロロ−2−フェニルキナゾリンの変換は高温及び塩基 性条件に抵抗性の基質に限定される。同様に、フェノールのリン酸ジエチルエス テルを経由する変換の方法は液体アンモニア中で有毒なクロロリン酸ジエチル及 びカリウムの使用を必要とする。バチェラー反 応はナフタレン及び関連する複素環化合物に限定される。I.G.C.Coutts及びM.R .Southcott,J.Chem.Soc.Perkin Trans.I,1990;767-771。従って、広範 囲のフェノールに適用でき、有毒な試薬の使用を必要とせず、数段階で足りそし て良好な収量が得られるフェノールからアニリンの一般的合成法が求められてい る。 芳香族アミンは化学及び医薬品工業の両分野において大きな関心の対象である 。例えば、フェナセチン、すなわちアセチル化エトキシアニリンは既知の鎮痛薬 である。その上、芳香族アミンはより複雑な有機分子の製造の有用な中間物質で ある。芳香族アミンは多くの商業的に重要な染料、例えばアジン、アゾ及びアゾ キシ染料の製造に使用される。3−ヒドロキシエストロゲンの対応するアミンへ の変換はCoutts及びSouthcottによる上記文献に記述されている。 発明の要約 本発明はヒドロキシ芳香族化合物の2−ヒドロキシ−N−アリールアセトアミ ドへのアルキル化及びスマイルス転位を達成する改良された方法であり、この場 合アルキル化及びスマイルス転位は2−アリールオキシアセトアミド中間物質を 精製することなく実行される。精製段階の回避は芳香族アミンの合成の際に必要 な時間、費用及び資源を最小にし、そしてそれでもなお良好な総括収量が得られ る点で重要である。 本発明はヒドロキシ芳香族化合物を2−ヒドロキシ−N−アリールアセトアミ ドに変換する方法であって、 (1) ヒドロキシ芳香族化合物の塩を含む反応混合物をアルキル化剤で処理し 、そして (2) 反応混合物をスマイルス溶媒系で処理しそして反応混合物の温度を上げ る 段階からなる。 この方法の別の実施態様は (1) アルキル化溶媒系及びヒドロキシ芳香族化合物からなる反応混合物を処 理して塩を形成させ、 (2) 反応混合物をアルキル化剤で処理し、そして (3) 反応混合物をスマイルス溶媒系で処理しそして反応混合物の温度を上げ る 段階からなる。 発明の詳述 本発明はヒドロキシ芳香族化合物のアルキル化及びスマイルス転位により2− ヒドロキシ−N−アリールアセトアミドへの変換を達成する改良された方法であ り、この場合アルキル化及びスマイルス転移は2−ヒドロキシ−N−アリールア セトアミド中間物質を精製することなく行われるものである。最初に、ヒドロキ シ芳香族化合物の塩をアルキル化溶媒系の存在下で形成させ、これにアルキル化 剤が添加される。最後に、スマイルス溶媒系が2−アリールオキシアセトアミド 中間物質を含む反応混合物に添加され、そして反応混合物を加熱してスマイルス 転位を起こさせそして2−ヒドロキシ−N−アリールアセトアミド生成物を形成 させる。場合により、2−ヒドロキシ−N−アリールアセトアミドを加水分解し て対応する芳香族アミンを形成させる。 本発明の反応に適当なヒドロキシ芳香族化合物はこの技術分野の熟練者によく 知られている。ヒドロキシ芳香族化合物は場合によりオルト、メタ及びパラ位で 置換されている。好ましいオルト置換基はニトロ、及びアルコキシ、メチル及び エチル基のような活性化基を含む。好ましいメタ及びパラ置換基はニトロ、アル コキシ、ハロゲン、C1-20アルキル及びC1-10 アルコキシを含む。好ましいヒドロキシ芳香族化合物は式 (式中、R1、R2及びR3は互いに独立してハロゲン、C1-20アルキル、C1-10 アルコキシである)の化合物である。ヒドロキシ芳香族化合物は単一の芳香族環 を有する簡単なヒドロキシ芳香族化合物、例えばフェノール及び置換されたアル コキシフェノールでありうる。好ましいヒドロキシ芳香族化合物はメタ及びパラ 位で置換されている。R1及びR2又はR2及びR3が共同して種々の飽和の程度の 多炭素縮合環構造を形成しているか、又は環構造が置換基として結合している複 雑なヒドロキシ芳香族化合物も本発明に使用することができる。適当な複雑な環 構造体は全く芳香族で複雑な環構造体の例えばインデン、ナフタレン、アントラ セン、フェナントレン、ベンゾフラン及びジベンゾフラン、並びにそれらの部分 的に及び完全に飽和された対応物、例えばジヒドロインデン、1,2−及び2, 3−ジヒドロナフタレン、ジ−、テトラ−、ヘキサ−及びオクタ−ヒドロアント ラセン、ジ−、テトラ−、ヘキサ−及びオクタ−ヒドロフェナントレン、ジ−及 びテトラ−ヒドロジベンゾフランを含む。好ましい複雑な芳香族環構造体はステ ロイドを含む。本発明において使用するのに適当なステロイドの特定の例は天然 に存在するステロイド及び合成ステロイドを含む。特に好ましいのはエストロゲ ンであり、その中でもエストラジオール、エストロン、6−、7−、8−、9− 、11−、14−、15−デヒドロエストロン、エキレニン及びシクロペンタフェナン トレンが特に好ましい。好ましい合成ステロイド類似体はトリアリールエチレン でありそしてタモキシフェン類似体が特に好ましい。複雑な環構造体においては 、ヒドロキシ芳香族環 以外の環中の炭素原子は場合によりこの技術分野の熟練者に知られている幅広い 種々の置換基により置換されており、この置換基にはNH2、NO2、SH、SO3 H、CO2H、CN、ハロゲン、チオエーテル、アルキル、アルコキシ基並びに その他の官能基例えばカルバメート、エーテル、アミド及びエステルが含まれる 。 ヒドロキシ芳香族化合物の塩はこの技術分野でよく知られた方法により形成さ せることができる。好ましくは、ヒドロキシヘテロ芳香族化合物の塩はアルキル 化剤が添加されたアルキル化溶媒系の存在下で形成される。 アルキル化剤は分子内求核置換、すなわちスマイルス転位を受けることの可能 な置換基のドナーとして働く。本発明に有用なアルキル化剤はこの技術分野の通 常の熟練者によく知られている。一般に、適当なアルキル化剤は次の一般式 (R')(R")(X)−C−C−(O)−NH2 (式中Xは脱離基である)の2個の炭素原子により分離されたアミド及びハロゲ ン官能基を含む。適当な脱離基はハロゲンおよびORを含み、ここでRはp−ト ルエンスルホニルまたはメチルスルホニルである。好ましい脱離基は臭素、塩素 及びヨウ素から選ばれる。特に好ましい脱離基は臭素である。 アルキル化剤のR'及びR"は独立してH又は直鎖もしくは枝分かれ鎖のC1-6 アルキルである。R'又はR"の一つのみが水素であることができる。R'又はR" の一方が水素である場合、他方はより大きなアルキル例えばイソプロピル、第二 ブチル又は第三ブチル又は同等のペンチル又はヘキシル基である。R'又はR"の 一方が水素である場合、他方は第三ブチルであるのが特に好ましい。C1-6アル キルは炭素数1〜6個の直鎖又は枝分かれ鎖であり、メチル、エチル、プロピル 、イソプロピル、n−ブチル、第二 ブチル、第三ブチル、ペンチル及びヘキシルを含む。 好ましいアルキル化剤はXがハロゲンそしてR'及びR"がC1-4アルキルのそ れである。特に好ましいアルキル化剤はXが臭素でありそしてR'及びR"の少な くとも一つがメチル又はエチルである。好ましいアルキル化剤は第二ハロアルキ ルアミド、そして最も好ましいのは第三ハロアルキルアミドで、2−ブロモ−2 −メチルプロパンアミド及び2−ブロモ−2−エチルブタンアミドがとりわけ好 ましい。 アルキル化溶媒系は一般に強塩基、エーテル性溶媒及び大きなアルカリ金属陽 イオンを含む。 強塩基はヒドロキシ芳香族化合物のアルコール性プロトンを引き抜くことがで きる。単一の強塩基を使用してよく、又は2つ又はそれより多くの強塩基を組み 合わせて使用してよい。適当な強塩基は水素化ナトリウム、水素化カリウム、水 素化リチウム、リチウムビストリメチルシリルアミド、ナトリウムビストリメチ ルシリルアミド、カリウムビストリメチルシリルアミド、n−ブチルリチウム、 第二ブチルリチウム、イソ−ブチルリチウム、第三ブチルリチウム、及びそれら の混合物を含む。水素化物塩基、例えば水素化ナトリウム、水素化リチウム、水 素化カリウム及びそれらの混合物が好ましい。水素化ナトリウムが特に好ましい 。 エーテル性溶媒はアルキル化剤及び大きなアルカリ金属陽イオンを含む反応成 分を溶媒和するために使用する。エーテル性溶媒は極性且つ非求核性でなければ ならない。適当なエーテル性溶媒は1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、 テトラヒドロフラン(THF)、ジメトキシエタン(DME)、2−メトキシエチルエーテ ル、プロピルエーテル、イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、第二ブチ ルエーテル、第三ブチルエーテル、n−ブチルメチルエーテル、第三ブチルメチ ルエーテル、n−ブチルエチル エーテル、第二ブチルエチルエーテル、第三ブチルエチルエーテル、n−ブチル プロピルエーテル、第二ブチルプロピルエーテル、第三−ブチルプロピルエーテ ル及びそれらの混合物を含む。好ましいエーテル性溶媒は比較的低沸点である。 1,4−ジオキサン及び1,3−ジオキサンが好ましく、1,4−ジオキサンが 特に好ましい。 大きなアルカリ金属陽イオンは電子移動促進剤として機能すると信じられてい る。より特定的には、大きな金属陽イオンは遊離基アルキル化反応を促進すると 考えられる。無機セシウム化合物が好ましい。大きなアルカリ金属陽イオン源の 適当な例は炭酸セシウム(Cs2CO3)、酢酸セシウム(CsCO2CH3)、重炭酸セシウム (CsHCO3)、臭化セシウム(CsBr)、塩化セシウム(CsCl)、フッ化セシウム(CsF)、 ヨウ化セシウム(CsI)を含む。炭酸セシウムが好ましい。 スマイルス溶媒系はスマイルス転位を促進するため反応混合物に添加される。 スマイルス溶媒系は反応物を溶媒和し、2−アリールオキシアセトアミド中間物 質の陰イオン形態を促進し及び/又は安定化させることにより陰イオン調整剤と して作用し、そして2−アリールオキシアセトアミド中間物質を陰イオンへの変 換により調整するか又はより強い求核物質にし、そしてそれによりスマイルス転 位を促進するように説明される。 スマイルス溶媒系はアミド溶媒、陰イオン調整剤及び強塩基からなる。アルカ リ金属陽イオンに対して少なくともモル当量の陰イオン調整剤の存在が好ましい 。 スマイルス溶媒系は予備混合してよく又は各成分をその後に反応混合物に任意 の順序で添加してよい。 強塩基は2−アリールオキシアセトアミド中間物質のアミドプロトンを引き抜 くことができる。単一の強塩基又は2つ又はそれより多くの強塩基 の組み合わせを本発明に使用することができる。適当な強塩基は水素化ナトリウ ム、水素化カリウム、水素化リチウム、リチウムビストリメチルシリルアミド、 ナトリウムビストリメチルシリルアミド、カリウムビストリメチルシリルアミド 、n−ブチルリチウム、第二ブチルリチウム、イソ−ブチルリチウム、第三ブチ ルリチウム、及びそれらの混合物を含む。水素化物塩基例えば水素化ナトリウム 、水素化リチウム及び水素化カリウムが好ましい。水素化ナトリウムが特に好ま しい。強塩基はアルキル化のための強塩基として使用したのと同じ強塩基でよい 。 アミド溶媒は好ましくは1−メチル−2−ピロリジノン(NMP)、ジメチルホル ムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMA)又はそれらの混合物である。NMP が好ましいアミド溶媒である。 陰イオン調整剤は1,3−ジメチルテトラヒドロピリミジン−2(1H)−オンと しても知られるN,N'−ジメチル−N,N'−プロピレン尿素(DMPU)又はヘキサメ チルリン酸トリアミド(HMPA)又はそれらの混合物でよい。DMPUが好ましい陰 イオン調整剤である。 アミド溶媒の陰イオン調整剤に対する容量比は必要によって約1:1から約4 0:1である。好ましくは、アミド溶媒の陰イオン調整剤に対する比は約5:1 から約15:1である。アミド溶媒の陰イオン調整剤に対する比は約7:1から 約12:1であるのが特に好ましい。アミド溶媒の陰イオン調整剤に対するもっ とも好ましい比は約10:1である。 ヒドロキシ芳香族化合物の塩はアルキル化溶媒系の存在下でヒドロキシ芳香族 化合物を反応させることにより形成される。反応混合物は必要によってヒドロキ シ芳香族化合物の塩が形成されるのに十分な時間撹拌される。好ましくは、水素 化ナトリウムをアルキル化溶媒系において使用する場合、水素ガスの発生はヒド ロキシ芳香族化合物の塩の形成が実質的に完了する まで続く。反応混合物は塩が形成される間加熱するのが好ましい。より高い温度 は一般に塩形成のためのより短い反応時間しか必要とせずそしてより低い温度は より長い反応時間を必要とする。 アルキル化剤は好ましくはヒドロキシ芳香族化合物の塩の形成の後反応混合物 に添加される。より好ましい実施態様においては、反応混合物はアルキル化の実 質的な完了となるまで還流下で撹拌される。アルキル化の反応進行は薄層クロマ トグラフィー(TLC)、ガスクロマトグラフィー(GC)又は高速液体クロマトグラ フィー(HPLC)を含む既知の方法により監視することができる。TLCが好ましい 。アルキル化の後、スマイルス溶媒系は、好ましくはアミド溶媒、陰イオン調整 剤及び強塩基を組み合わせて反応混合物に添加される。 反応混合物の温度はスマイルス転位を引き起こすのに十分な温度に上げられる 。より速い反応時間はより高い温度で予想され、そしてより長い反応時間はより 低い温度で予想される。好ましい反応温度は約65℃から約250℃の間、好まし くは約125℃から200℃の間である。より好ましい反応温度は約125℃から約175℃ の間である。もっとも好ましい反応温度は約150℃である。反応混合物は必要に よってスマイルス転位の間撹拌される。 スマイルス転位の反応進行は必要によって任意の既知の方法、例えば薄層クロ マトグラフィー(TLC)、ガスクロマトグラフィー(GC)又は高速液体クロマト グラフィー(HPLC)により監視することができる。TLCが好ましい。スマイル ス転位の完了後、2−ヒドロキシ−N−アリールアセトアミド生成物は既知の方 法により精製される。 場合により、アシル化芳香族化合物は既知の条件下で加水分解して対応する芳 香族アミンを得ることができる。 実施例1 2−ブロモ−2−メチルプロパンアミドの製造 1リットルのエルレンマイヤーフラスコにブロモイソブチリルブロミド(Aldr ich,23.0mL,42.0g,0.18mol)及びヘキサン(500mL)を添加した。混合物を 0℃で激しく撹拌しそして濃NH4OH水(EM Scientific,80mL)を少しづつ3 0分間にわたって添加した。得られる混合物をさらに30分間、0℃で撹拌し、 次に白色沈殿を吸引濾過しそして氷水で数回洗浄した。漏斗上で約1時間乾燥後 、粗生成物(41.7g,0.25mol,粗収率140%)を200mLのCHCl3及び20mL のヘキサンから再結晶した。光沢のある白色板状物(31.2g,0.18mol,100%) として生成物を得た。m.p.146〜148℃。 実施例2 N−(3−アミノ−1,3,5,(10)−エストラトリエン−17−オン−イル)− 2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオンアミドの製造 ジオキサン(20mL)中のエストロン(1.00g,3.70mmol)の溶液にNaH(Ardri ch,乾燥,300mg,12.2mmol)及びCs2CO3(4.00g,12.2mmol)を添加した。 得られた混合物を室温で約30分間撹拌し、次いで2−ブロモ−2−メチルプロ パンアミド(2.03g,12.2mmol)を添加しそして得られた混合物を還流下で16 時間撹拌した。還流時間の後、NMP(20mL)、DMPU(2mL)、及びNaH( Aldrich,乾燥,100mg,4.07mmol)を添加した。得られた混合物を150℃で72 時間撹拌した。反応を室温に冷却し、そして水(50mL)及びEtOAc(100mL )の間で分配した。水層をEtOAc(100mL)で抽出しそして合わせた有機物 を水(2×50mL)で洗浄し、乾燥(Na2SO4)させ、そして濃縮して約3gの物質 を得た。褐色油状物をシリカ(200mL,直径4cmのカラム)上のクロマトグラフ ィーによ りN−(3−アミノ−1,3,5,(10)−エストラトリエン−17−オン−イル) −2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオンアミドを灰白色固体(770mg,2.17mmol ,収率58.6%)として得た。m.p.159〜160℃。 実施例3 N−(2−ナフチル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオンアミドの製造 ジオキサン(20mL)中の2−ナフトール(533mg,3.70mmol)の溶液にNaH (Ardrich,乾燥,300mg,12.2mmol)及びCs2CO3(4.00g,12.2mmol)を添 加した。得られた混合物を室温で約30分間撹拌し、次いで2−ブロモ−2−メ チルプロパンアミド(2.03g,12.2mmol)を添加しそして得られた混合物を還流 下で16時間撹拌した。還流時間の後、NMP(20mL)、DMPU(2mL)、及びN aH(Aldrich,乾燥,100mg,4.07mmol)を添加した。得られた混合物を150℃ で72時間撹拌した。反応を室温に冷却し、そして水(50mL)及びEtOAc( 100mL)の間で分配した。水層をEtOAc(100mL)で抽出しそして合わせた有 機物を水(2×50mL)で洗浄し、乾燥(Na2SO4)させ、そして濃縮して約3gの 物質を得た。褐色油状物を3:7EtOAc/ヘキサンで溶離するシリカ(200mL,直 径4cm のカラム)上のクロマトグラフィーによりN−(2−ナフチル)−2−ヒドロキ シ−2−メチルプロピオンアミドを白色固体(607mg,2.65mmol,収率71.6%)と して得た。m.p.155〜157℃。 元素分析: 計算値;C73.34,H6.59,N6.11 実測値;C72.97,H6.57,N5.89 実施例 4 N−(2−ジベンゾフラニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオンアミド の製造 ジオキサン(20mL)中の2−ヒドロキシジベンゾフラン(682mg,3.70mmol) の溶液にNaH(Ardrich,乾燥,300mg,12.2mmol)及びCs2CO3(4.00g, 12.2mmol)を添加した。得られた混合物を室温で約30分間撹拌し、次いで2− ブロモ−2−メチルプロパンアミド(2.03g,12.2mmol)を添加しそして得られ た混合物を還流下で18時間撹拌した。還流時間の後、NMP(20mL)、DMPU (2mL)、及びNaH(Aldrich,乾燥,100mg,4.07mmol)を添加した。得られた 混合物を150℃で72時間撹拌した。反応を室温に冷却し、そして水(50mL)及 びEtOAc(100mL)の間で分配した。水層をEtOAc(100mL)で抽出しそ して合わせた有機物を水(2×50mL)で洗浄し、乾燥(Na2SO4)させ、そして濃 縮して約3gの物 質を得た。褐色油状物を3:7EtOAc/ヘキサンで溶離するシリカ(200mL,直径 4cmのカラム)上のクロマトグラフィーによりN−(2−ジベンゾフラニル)− 2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオンアミドを灰白色固体(580mg,2.15mmol ,収率58.1%)として得た。分析用試料を得るためこれをトルエンから再結晶し た。m.p.134〜137℃。 元素分析: 計算値;C71.36,H5.61,N5.20 実測値;C71.43,H5.58,N5.06 実施例5 3−アミノ−1,3,5,(10)−エストラトリエン−17−オール及びN−(3− アミノ−1,3,5,(10)−エストラトリエン−17−オール−イル)−2−ヒド ロキシ−2−メチルプロピオンアミドの製造 ジオキサン(20mL)中のb−エストラジール(1.00g,3.67mmol)の溶液にN aH(Ardrich,乾燥,400mg,16.7mmol)及びCs2CO3(4.00g,12.2mmol)を 添加した。得られた混合物を室温で約30分間撹拌し、次いで2−ブロモ−2− メチルプロパンアミド(2.03g,12.2mmol)を添加しそして得られた混合物を還 流下で16時間撹拌した。還流時間の後、NMP(20mL)、DMPU(2mL)、及び NaH(Aldrich,乾燥.100mg,4.07mmol)を添加した。得られた混合物を150℃ で72時間撹拌した。反 応を室温に冷却し、そして水(50mL)及びEtOAc(100mL)の間で分配した 。水層をEtOAc(100mL)で抽出しそして合わせた有機物を水(2×50mL) で洗浄し、乾燥(Na2SO4)させ、そして濃縮して約3gの物質を得た。褐色油状 物を3:7EtOAc/ヘキサンで溶離するシリカ(200mL,直径4cmのカラム)上の クロマトグラフィーにより、最初に出発物質のエストラジオール(120mg,回収 率12%)、次に3−アミノ−1,3,5,(10)−エストラトリエン−17−オール を灰白色固体(100mg,0.368mml,収率10%)として得た。m.p.75〜77℃。 カラムにEtOAc(700mL)をどっと流してN−(3−アミノ−1,3,5,(10 )−エストラトリエン−17−オール−イル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロ ピオンアミドを褐色半固体(300mg,0.839mmol,収率22.8%)として得た。これ をトルエンから再結晶して灰白色粉末を得た。m,p,175〜177℃。 実施例6 N−(4−エトキシフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオンアミド の製造 ジオキサン(20mL)中の4−エトキシフェノール(511mg,3.70mmol)の溶液 にNaH(Ardrich,乾燥,300mg,12.2mmol)及びCs2CO3(4.00g,12.2mm ol)を添加した。得られた混合物を室温で約30分間撹拌し、次いで2−ブロモ −2−メチルプロパンアミド(2.03g,12.2mmol)を添加しそして得られた混合 物を還流下で16時間撹拌した。還流時間の後、NMP(20mL)、DMPU(2mL) 、及びNaH(Aldrich,乾燥,100mg,4.07mmol)を添加した。得られた混合物 を150℃で72時間撹拌した。反応を室温に冷却し、そして水(50mL)及びEt OAc(100mL)の間で分配した。水層をEtOAc(100mL)で抽出しそして合 わせた有機物を水(2×50mL)で洗浄し、乾燥(Na2SO4)させ、そして濃縮して 約2gの物質を得た。褐色油状物を3:7EtOAc/ヘキサンで溶離するシリカ(2 00mL,直径4cmのカラム)上のクロマトグラフィーによりN−(4−エトキシフ ェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオンアミドを灰白色固体(536mg ,2.40mmol,収率64.8%)として得た。m.p.146〜148℃。 元素分析: 計算値;C64.55,H7.67,N6.27 実測値;C64.16,H7.47,N6.07
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1998年4月14日(1998.4.14) 【補正内容】 請求の範囲 1.(1) ヒドロキシ芳香族化合物の塩を含む反応混合物をアルキル化剤で処理 し、そして (2) 2−アリールオキシアセトアミド中間物質を単離することなく反応混 合物をスマイルス溶媒系で処理しそして反応混合物の温度を上げる 段階からなるヒドロキシ芳香族化合物を2−ヒドロキシ−N−アリールアセト アミドに変換する方法。 2.(1) アルキル化溶媒系及びヒドロキシ芳香族化合物からなる反応混合物を 処理して塩を形成させ、 (2) 反応混合物をアルキル化剤で処理し、そして (3) 2−アリールオキシアセトアミド中間物質を単離することなく反応混 合物をスマイルス溶媒系で処理しそして反応混合物の温度を上げる 段階からなるヒドロキシ芳香族化合物を2−ヒドロキシ−N−アリールアセト アミドに変換する方法。 3.アルキル化溶媒系が強塩基、エーテル性溶媒及び大きなアルカリ金属陽イオ ンからなる請求項2に記載の方法。 4.強塩基が水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム、リチウムビ ストリメチルシリルアミド、ナトリウムビストリメチルシリルアミド、カリウム ビストリメチルシリルアミド、n−ブチルリチウム、第二ブチルリチウム、イソ −ブチルリチウム、第三ブチルリチウム、又はそれらの混合物を含む請求項3に 記載の方法。 5.強塩基が水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム及びそれらの 混合物からなる請求項4に記載の方法。 6.強塩基が水素化ナトリウムからなる請求項5に記載の方法。 7.エーテル性溶媒が1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフ ラン、ジメトキシエタン、2−メトキシエチルエーテル、プロピルエーテル、イ ソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、第二ブチルエーテル、第三ブチルエ ーテル、n−ブチルメチルエーテル、第三ブチルメチルエーテル、n−ブチルエ チルエーテル、第二ブチルエチルエーテル、第三ブチルエチルエーテル、n−ブ チルプロピルエーテル、第二ブチルプロピルエーテル、第三ブチルプロピルエー テル又はそれらの混合物を含む請求項3に記載の方法。 8.エーテル性溶媒が1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフ ラン、ジメトキシエタン又はそれらの混合物からなる請求項7に記載の方法。 9.エーテル性溶媒が1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン又はそれらの混合 物からなる請求項8に記載の方法。 10.大きなアルカリ金属陽イオンが無機セシウム化合物からなる請求項3に記載 の方法。 11.無機セシウム化合物が炭酸セシウム、酢酸セシウム、重炭酸セシウム、臭化 セシウム、塩化セシウム、フッ化セシウム、ヨウ化セシウム又はそれらの混合物 を含む請求項10に記載の方法。 12.無機セシウム化合物が炭酸セシウムからなる請求項11に記載の方法。 13.アルキル化剤が第二ハロアルキルアミド、第三ハロアルキルアミド又はそれ らの混合物からなる請求項2に記載の方法。 14.アルキル化剤が第三ハロアルキルアミドからなる請求項12に記載の方法。 15.第三ハロアルキルアミドが2−ブロモ−2−メチルプロパンアミド、2−ブ ロモ−2−エチルブタンアミド又はそれらの混合物からなる請求項14に記載の 方法。 16.アルキル化剤が2−ブロモ−2−メチルプロパンアミドからなる請求項15 に記載の方法。 17.スマイルス溶媒系がアミド溶媒、陰イオン調整剤及び強塩基からなる請求項 1に記載の方法。 18.アミド溶媒が1−メチル−2−ピロリジノン、ジメチルホルムアミド、ジメ チルアセトアミド、又はそれらの混合物からなる請求項17に記載の方法。 19.アミド溶媒が1−メチル−2−ピロリジノンからなる請求項18に記載の方 法。 20.陰イオン調整剤が1,3−ジメチルテトラヒドロピリミジン−2(1H)−オン 、ヘキサメチルリン酸トリアミド又はそれらの混合物からなる請求項17に記載 の方法。 21.陰イオン調整剤が1,3−ジメチルテトラヒドロピリミジン−2(1H)−オン からなる請求項20に記載の方法。 22.反応混合物の温度が約65℃から約250℃の間である請求項1に記載の方法 。 23.反応温度が約125℃から約175℃の間である請求項22に記載の方法。 24.(a)ヒドロキシ芳香族化合物の塩が無機セシウム化合物からなり、そして( b)スマイルス溶媒系が1,3−ジメチルテトラヒドロピリミジン−2(1H)−オ ン及び1−メチル−2−ピロリジノンを含む請求項1に記載の方法。 25.(a)アルキル化剤が2−ブロモ−2−メチルプロパンアミドからなり、 そして(b)スマイルス溶媒系が1−メチル−2−ピロリジノン、及び1,3−ジ メチルテトラヒドロピリミジン−2(1H)−オンを含む請求項1に記載の方法。 26.アルキル化溶媒系が、(a)水素化ナトリウム、(b)1,4−ジオキサン、1, 3−ジオキサン又はそれらの混合物からなるエーテル性溶媒、及び(c)無機セシ ウム化合物からなる請求項3に記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN, CU,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,G E,HU,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR ,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV, MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,P L,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK ,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,UZ,VN, YU

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.(1) ヒドロキシ芳香族化合物の塩を含む反応混合物をアルキル化剤で処理 し、そして (2) 反応混合物をスマイルス溶媒系で処理しそして反応混合物の温度を上 げる 段階からなるヒドロキシ芳香族化合物を2−ヒドロキシ−N−アリールアセト アミドに変換する方法。 2.(1) アルキル化溶媒系及びヒドロキシ芳香族化合物からなる反応混合物を 処理して塩を形成させ、 (2) 反応混合物をアルキル化剤で処理し、そして (3) 反応混合物をスマイルス溶媒系で処理しそして反応混合物の温度を上 げる 段階からなるヒドロキシ芳香族化合物を2−ヒドロキシ−N−アリールアセト アミドに変換する方法。 3.アルキル化溶媒系が強塩基、エーテル性溶媒及び大きなアルカリ金属陽イオ ンからなる請求項2に記載の方法。 4.強塩基が水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム、リチウムビ ストリメチルシリルアミド、ナトリウムビストリメチルシリルアミド、カリウム ビストリメチルシリルアミド、n−ブチルリチウム、第ブチルリチウム、イソ− ブチルリチウム、第三ブチルリチウム、又はそれらの混合物を含む請求項3に記 載の方法。 5.強塩基が水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム及びそれらの 混合物からなる請求項4に記載の方法。 6.強塩基が水素化ナトリウムからなる請求項5に記載の方法。 7.エーテル性溶媒が1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラ ヒドロフラン、ジメトキシエタン、2−メトキシエチルエーテル、プロピルエー テル、イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、第二ブチルエーテル、第三 ブチルエーテル、n−ブチルメチルエーテル、第三ブチルメチルエーテル、n− ブチルエチルエーテル、第二ブチルエチルエーテル、第三ブチルエチルエーテル 、n−ブチルプロピルエーテル、第二ブチルプロピルエーテル、第三ブチルプロ ピルエーテル又はそれらの混合物を含む請求項3に記載の方法。 8.エーテル性溶媒が1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロ フラン、ジメトキシエタン又はそれらの混合物からなる請求項7に記載の方法。 9.エーテル性溶媒が1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン又はそれらの混 合物からなる請求項8に記載の方法。 10.大きなアルカリ金属陽イオンが無機セシウム化合物からなる請求項3に記載 の方法。 11.無機セシウム化合物が炭酸セシウム、酢酸セシウム、重炭酸セシウム、臭化 セシウム、塩化セシウム、フッ化セシウム、ヨウ化セシウム又はそれらの混合物 を含む請求項10に記載の方法。 12.無機セシウム化合物が炭酸セシウムからなる請求項11に記載の方法。 13.アルキル化剤が第二ハロアルキルアミド、第三ハロアルキルアミド又はそれ らの混合物からなる請求項2に記載の方法。 14.アルキル化剤が第三ハロアルキルアミドからなる請求項12に記載の方法。 15.第三ハロアルキルアミドが2−ブロモ−2−メチルプロパンアミド、2−ブ ロモ−2−エチルブタンアミド又はそれらの混合物からなる請求 項14に記載の方法。 16.アルキル化剤が2−ブロモ−2−メチルプロパンアミドからなる請求項15 に記載の方法。 17.スマイルス溶媒系がアミド溶媒、陰イオン調整剤及び強塩基からなる請求項 1に記載の方法。 18.アミド溶媒が1−メチル−2−ピロリジノン、ジメチルホルムアミド、ジメ チルアセトアミド、又はそれらの混合物からなる請求項17に記載の方法。 19.アミド溶媒が1−メチル−2−ピロリジノンからなる請求項18に記載の方 法。 20.陰イオン調整剤が1,3−ジメチルテトラヒドロピリミジン−2(1H)−オン 、ヘキサメチルリン酸トリアミド又はそれらの混合物からなる請求項17に記載 の方法。 21.陰イオン調整剤が1,3−ジメチルテトラヒドロピリミジン−2(1H)−オ ンからなる請求項20に記載の方法。 22.反応混合物の温度が約65℃から約250℃の間である請求項1に記載の方法 。 23.反応温度が約125℃から約175℃の間である請求項22に記載の方法。 24.(a)ヒドロキシ芳香族化合物の塩が無機セシウム化合物からなり、そして( b)スマイルス溶媒系が1,3−ジメチルテトラヒドロピリミジン−2(1H)−オ ン及び1−メチル−2−ピロリジノンを含む請求項1に記載の方法。 25.(a)アルキル化剤が2−ブロモ−2−メチルプロパンアミドからなり、そし て(b)スマイルス溶媒系が1−メチル−2−ピロリジノン、及び1,3−ジメチ ルテトラヒドロピリミジン−2(1H)−オンを含む請求項 1に記載の方法。 26.アルキル化溶媒系が、(a)水素化ナトリウム、(b)1,4−ジオキサン、1 ,3−ジオキサン又はそれらの混合物からなるエーテル性溶媒、及び(c)無機セ シウム化合物からなる請求項3に記載の方法。
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