JPS61151015A - 部分置換フルオロシランの製造方法 - Google Patents
部分置換フルオロシランの製造方法Info
- Publication number
- JPS61151015A JPS61151015A JP27074584A JP27074584A JPS61151015A JP S61151015 A JPS61151015 A JP S61151015A JP 27074584 A JP27074584 A JP 27074584A JP 27074584 A JP27074584 A JP 27074584A JP S61151015 A JPS61151015 A JP S61151015A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- partially substituted
- fluorosilane
- reaction
- chlorosilane
- zinc fluoride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は部分置換フルオロシランの製造方法に関する。
さらに詳しくは、ハロゲン交換法によるフルオロシラン
（モノフルオロモノシラン、ジフルオロモノシラン、ト
リフルオロモノシラン）の製造方法の改良に関する。
（モノフルオロモノシラン、ジフルオロモノシラン、ト
リフルオロモノシラン）の製造方法の改良に関する。
（従来技術及びその問題点）
部分ｉ 換フルオロシランは、フッ素化アモルファスシ
リコン薄膜を形成させる場合等に有用な化合物である。
リコン薄膜を形成させる場合等に有用な化合物である。
部分置換フルオロシラン類の製造方法としては、対応す
るクロロシランをフッ素化剤でフッ素化するいわゆるハ
ロゲン交換法が知られている。
るクロロシランをフッ素化剤でフッ素化するいわゆるハ
ロゲン交換法が知られている。
その際使用されるフッ素化剤としては、モノフルオロモ
ノシラン、ジフルオロモノシランに関してはＳｂ Ｆ、
（触媒としてｓｂ ｃｔ５を共存させる場合もある）
が、またトリフルオロモノシランに関してはＳｂＦ３、
Ａｓ Ｆ８、ＴｉＦ４．５ｎＦ４などが知られている。
ノシラン、ジフルオロモノシランに関してはＳｂ Ｆ、
（触媒としてｓｂ ｃｔ５を共存させる場合もある）
が、またトリフルオロモノシランに関してはＳｂＦ３、
Ａｓ Ｆ８、ＴｉＦ４．５ｎＦ４などが知られている。
この内５ｂＦ８、ＡｓＦ、は毒性の強い物質であるため
、その取扱いに厳重な注意を要するという技術的な難点
をもっており、又ＴｉＦ４、Ｓｎ Ｆ４は吸湿性の為上
記の目的に用いるには特別の取扱いを要するどい５難点
をもっている。
、その取扱いに厳重な注意を要するという技術的な難点
をもっており、又ＴｉＦ４、Ｓｎ Ｆ４は吸湿性の為上
記の目的に用いるには特別の取扱いを要するどい５難点
をもっている。
一方、部分置換物ではないパークロロジシランたるヘキ
サクロロジシランをヘキサフルオロジシランに交換する
際には、Ｚｎ Ｆｌをフッ素化剤として用いる報告があ
るが、前記のようなＳｂ、 Ａｓ、 ’ｌ’Ｉ及びＳｎ
のフッ化物を使用しうるかについては何も知られていな
℃・０そして部分置換フルオロシラン類は、ヘキサフル
オロジシランなどのようなパーフルオロシランに比べて
はるかに不安定な化合物であり、シラ／の部分塩化物を
対応する部分フッ化物に純度よく変換させる反応に、全
置換物（バニフルオロシラン）の変換反応に用いつるも
のが好適に用いつると単純に考える訳にはゆかない。
サクロロジシランをヘキサフルオロジシランに交換する
際には、Ｚｎ Ｆｌをフッ素化剤として用いる報告があ
るが、前記のようなＳｂ、 Ａｓ、 ’ｌ’Ｉ及びＳｎ
のフッ化物を使用しうるかについては何も知られていな
℃・０そして部分置換フルオロシラン類は、ヘキサフル
オロジシランなどのようなパーフルオロシランに比べて
はるかに不安定な化合物であり、シラ／の部分塩化物を
対応する部分フッ化物に純度よく変換させる反応に、全
置換物（バニフルオロシラン）の変換反応に用いつるも
のが好適に用いつると単純に考える訳にはゆかない。
（間ＨＡ ｆ解決する為の手段）
本発明は上記問題点に鑑み、ハロゲン交換法によって純
度の高い部分置換フルオロシラン類を製造するにあたり
、取扱いが容易でかつ反応効率の良好なフッ素化剤を探
索することを試み、特にフッ化亜鉛を選択することでそ
の目的を達しうることを見出し、本発明を完成するに至
った。
度の高い部分置換フルオロシラン類を製造するにあたり
、取扱いが容易でかつ反応効率の良好なフッ素化剤を探
索することを試み、特にフッ化亜鉛を選択することでそ
の目的を達しうることを見出し、本発明を完成するに至
った。
すなわち、本発明は一役式Ｓｉ ＨｎＣｊ４、（ｎ ＝
１〜６の整数）で表わされるクロロシランを・・ロダ
ン交換法によって対応するフルオロシランに変換するに
あたり、フッ素化斉ｊとしてフッ化亜鉛を用いることを
特徴とする一般式５ｉＨｎＦ４（ｎ＝１〜３の整数）で
表わされるフルオロシランの製造方法である。
１〜６の整数）で表わされるクロロシランを・・ロダ
ン交換法によって対応するフルオロシランに変換するに
あたり、フッ素化斉ｊとしてフッ化亜鉛を用いることを
特徴とする一般式５ｉＨｎＦ４（ｎ＝１〜３の整数）で
表わされるフルオロシランの製造方法である。
本発明で使用するフッ化亜鉛は無水物であればどのよう
なものでも良く、例えば酸化亜鉛とフッ化水素との反応
、あるいは市販の４水和物を脱水することによって得ら
れるものが好適に使用される。
なものでも良く、例えば酸化亜鉛とフッ化水素との反応
、あるいは市販の４水和物を脱水することによって得ら
れるものが好適に使用される。
クロロシランあるし・はフルオロシランは、水が存在す
れば加水分解する性質をもっている為、反応に使用する
フッ化亜鉛は勿論、使用する器具も使用直前に完全に脱
水しておく必要があるが、フッ化亜鉛の場合゛は例えば
２００℃で４時間加熱処理による脱水で充分である。
れば加水分解する性質をもっている為、反応に使用する
フッ化亜鉛は勿論、使用する器具も使用直前に完全に脱
水しておく必要があるが、フッ化亜鉛の場合゛は例えば
２００℃で４時間加熱処理による脱水で充分である。
なおフッ化亜鉛の毒性は、はとんど問題にならない。
′ クロロシランとフッ化亜鉛の接触方法は、フン化亜鉛充
填層にクロロシランをガス状で通過させる方法が好まし
いが、本発明はこれに限定されるものではない。
′ クロロシランとフッ化亜鉛の接触方法は、フン化亜鉛充
填層にクロロシランをガス状で通過させる方法が好まし
いが、本発明はこれに限定されるものではない。
クロロシランとフッ化亜鉛との反応はかなりの発熱反応
であり、生成した部分置換フルオロシランが熱的に不安
定であることから、生成した熱を有効に除去する配慮が
高い純度を得るためには必要であり、その点からエーテ
ルなどの有機溶媒中にフッ化亜鉛を懸濁して反応を行な
う方法は有効である。
であり、生成した部分置換フルオロシランが熱的に不安
定であることから、生成した熱を有効に除去する配慮が
高い純度を得るためには必要であり、その点からエーテ
ルなどの有機溶媒中にフッ化亜鉛を懸濁して反応を行な
う方法は有効である。
反応温度は一６０℃〜４０℃が好ましく、特に−１゜°
Ｃ〜０℃が好ましい。反応温度が高すぎると生成した部
分置換フルオロシランが熱分解を起こし、したがって反
応収率が低下し、又逆に反応温度が低すぎるとハロゲン
交換反応の反応率が低下する。
Ｃ〜０℃が好ましい。反応温度が高すぎると生成した部
分置換フルオロシランが熱分解を起こし、したがって反
応収率が低下し、又逆に反応温度が低すぎるとハロゲン
交換反応の反応率が低下する。
（実施例）
以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。
尚％は重＠％を示す。
実施例１
２００°Ｃで４時間脱水処理をしたフン化亜鉛２００２
を２００−のガラス製フラスコに仕込み、系内をＮ２で
充分に置換した。その後、Ｎ２気流下で５ｉＨＣｔ８を
０．５ｙ７＝の速度で全量で１００２になるようフラス
コ内に供給した。尚反応中フラスコは氷水の中に浸漬し
反応温度の上昇を防止した。
を２００−のガラス製フラスコに仕込み、系内をＮ２で
充分に置換した。その後、Ｎ２気流下で５ｉＨＣｔ８を
０．５ｙ７＝の速度で全量で１００２になるようフラス
コ内に供給した。尚反応中フラスコは氷水の中に浸漬し
反応温度の上昇を防止した。
フラスコから発生したガスは、ドライアイスアセトンラ
ップで不純物を除去したのち、液体窒素トラップ中に回
収した。回収量は２７２、ＳｉＨＦ３として収率は４２
％であり、（純度９７％）この回収物はＩｎの吸収特性
値より５ｉＨＦａと同定された。
ップで不純物を除去したのち、液体窒素トラップ中に回
収した。回収量は２７２、ＳｉＨＦ３として収率は４２
％であり、（純度９７％）この回収物はＩｎの吸収特性
値より５ｉＨＦａと同定された。
実施例２
２００℃で４時間脱水処理をしたフッ化亜鉛２０ｊｌグ
を、１ｔの攪拌機付きガラスフラスコに入れ、４００−
の無水エーテルに懸濁させた。
を、１ｔの攪拌機付きガラスフラスコに入れ、４００−
の無水エーテルに懸濁させた。
系内をＮ２で充分に置換したのち、攪拌しなから５ｉＨ
Ｃ１Ｂ（Ｄ １００ ？ ヲ０．５１７ｍ Ｉ）速度テ
フラスコ内ニ供給した。尚反応中フラスコは氷水の中に
浸漬し反応温度の上昇を防止するとともに、リフラクス
コンデンサーを取りつけてエーテルの蒸発を防止した。
Ｃ１Ｂ（Ｄ １００ ？ ヲ０．５１７ｍ Ｉ）速度テ
フラスコ内ニ供給した。尚反応中フラスコは氷水の中に
浸漬し反応温度の上昇を防止するとともに、リフラクス
コンデンサーを取りつけてエーテルの蒸発を防止した。
フラスコから発生した反応ガスはドライアイスアセトノ
トラップで不純物を除去したのち、液体窒素トラップ中
に回収した。回収量は３６１でＳ ｉ ＨＦａ（純度９
９％）として収率５３％であった。この回収物はＩＲの
吸収特性値からＳ ｉ トＩＰａと同定された。
トラップで不純物を除去したのち、液体窒素トラップ中
に回収した。回収量は３６１でＳ ｉ ＨＦａ（純度９
９％）として収率５３％であった。この回収物はＩＲの
吸収特性値からＳ ｉ トＩＰａと同定された。
実施例６
実施例２と同様な方法で５ｉＨ２ＣＬ２から５ｉＨｚＦ
ｚの製造を行なった。収率は６０％で（純度９９％）で
あった。尚生成物はＩＲ吸収特性値よりＳｉＨ２Ｆ２と
同定された。
ｚの製造を行なった。収率は６０％で（純度９９％）で
あった。尚生成物はＩＲ吸収特性値よりＳｉＨ２Ｆ２と
同定された。
比較例１
フン化亜鉛のかわりＫ ５ｂＦａを用い、実施例２と同
様な方法で反応を行なったとこｈ 、 Ｓ ｉＨＦａ
の生成収率は１７％にすぎなかった。
様な方法で反応を行なったとこｈ 、 Ｓ ｉＨＦａ
の生成収率は１７％にすぎなかった。
Claims (1)
- （１）一般式ＳｉＨ＿ｎＣｌ＿４＿−＿ｎ（ｎ＝１〜３
の整数）で表わされる部分置換クロロシランをハロゲン
交換法によって対応する部分置換フルオロシランに変換
するにあたり、フッ素化剤としてフッ化亜鉛を用いるこ
とを特徴とする一般式ＳｉＨ＿ｎＦ＿４＿−＿ｎ（ｎ＝
１〜３の整数）で表わされる部分置換フルオロシランの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27074584A JPS61151015A (ja) | 1984-12-24 | 1984-12-24 | 部分置換フルオロシランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27074584A JPS61151015A (ja) | 1984-12-24 | 1984-12-24 | 部分置換フルオロシランの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61151015A true JPS61151015A (ja) | 1986-07-09 |
Family
ID=17490383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27074584A Pending JPS61151015A (ja) | 1984-12-24 | 1984-12-24 | 部分置換フルオロシランの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61151015A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61232215A (ja) * | 1985-04-09 | 1986-10-16 | Central Glass Co Ltd | 部分フツ素化シランの製造法 |
| EP0599278A1 (en) * | 1992-11-27 | 1994-06-01 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Process for the preparation of partially-substituted fluorosilane |
| US5496713A (en) * | 1992-09-09 | 1996-03-05 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Process for producing 20 kD human growth hormone |
| CN107207541A (zh) * | 2015-11-09 | 2017-09-26 | 瓦克化学股份公司 | 用于生产氰基烷基氟硅烷的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56167693A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Preparation of fluorosilane |
-
1984
- 1984-12-24 JP JP27074584A patent/JPS61151015A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56167693A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Preparation of fluorosilane |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61232215A (ja) * | 1985-04-09 | 1986-10-16 | Central Glass Co Ltd | 部分フツ素化シランの製造法 |
| US5496713A (en) * | 1992-09-09 | 1996-03-05 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Process for producing 20 kD human growth hormone |
| EP0599278A1 (en) * | 1992-11-27 | 1994-06-01 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Process for the preparation of partially-substituted fluorosilane |
| US5346682A (en) * | 1992-11-27 | 1994-09-13 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Process for the preparation of partially-substituted fluorosilane |
| CN107207541A (zh) * | 2015-11-09 | 2017-09-26 | 瓦克化学股份公司 | 用于生产氰基烷基氟硅烷的方法 |
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