JPS61144641A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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JPS61144641A
JPS61144641A JP26715184A JP26715184A JPS61144641A JP S61144641 A JPS61144641 A JP S61144641A JP 26715184 A JP26715184 A JP 26715184A JP 26715184 A JP26715184 A JP 26715184A JP S61144641 A JPS61144641 A JP S61144641A
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JP
Japan
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alkyl group
photopolymerizable composition
formula
hydrogen
carbon atoms
Prior art date
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Pending
Application number
JP26715184A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Kaji
誠 鍛治
Nobuyuki Hayashi
信行 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP26715184A priority Critical patent/JPS61144641A/ja
Publication of JPS61144641A publication Critical patent/JPS61144641A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は新規な光重合性組成物に関し、更に詳しくは新
規な光開始剤系を含有する光重合性組成物に関する。
(従来技術) 光重合性組成物は一般にUV光源が用いられ凸版用、レ
リーフ像用、フォトレジスト用等に広く適用されている
が、その感度はより高い系が望まれている。従来より、
この分野では感度を増大させるための光開始剤系につい
て多くの研究がなされている。光開始剤としてはベンゾ
インおよびその誘導体、置換または非置換の多核キノン
類等多くの物質が既に知られているが未だ不十分である
(発明の目的) 本発明はこの要請にこたえるためになされたものであり
、チオキサントン化@−物とN−アリール−α−アミノ
酸とを組み合わせた紫外光に対して高い感度を有する光
重合性組成物を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明は。
(1)常圧において100℃以上の沸点を°有する付加
重合性化合物 (2)下記式(1)で表わされるチオキサノトン(式中
、R1,R1,、几3.R4,Rs、R6,R)および
R8は水素、炭素数1〜4のアルキル基またはノ・ロゲ
ン原子であり、 R1,R4,&、 R4,R4,Rs
、 RフおよびR8は同一の場合もある) ならびに (3)下記式(It)で表わされるN−アリール−α−
アミノ酸 (式中+ )Ls 、 R+o + R111RHおよ
びR13は水素、炭素数1〜4のアルキル基またはハロ
ゲン原子であり。
R,4は水素、炭素数1〜8のアルキル基、シフロアR
IO・R11・R12・Rts + R114+ Rt
sおよびFLtsは同一の場合もある) を含有してなる光重合性組成物に関する。
本発明になる光重合性組成物に含まれる付加重合性化合
物は常圧において100℃以上の沸点を有するものが用
いられる。常圧において沸点が100℃より低いような
ものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によって除去する
際または活性光線を照射する際該、付加重合性化合物が
揮散して特性上および作業性上好ましくないからである
。また該付加重合性化合物は光開始剤等と均一な組成物
にするために、用いられる有機溶剤に可溶なものが好ま
しい。
有機溶剤は9例えばアセトン、メチルエチルケトン、ト
ルエン、クロロホルム、メタノール、エタノール、1,
1.1−トリクロロエタン等が用いられる。付加重合性
化合物としては多価アルコールとα、β−不飽和カルボ
ン酸とを縮合して得られるもの1例えばジエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート(ジアクリレートまたは
ジメタアクリレートの意味、以下同じ)、トリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、1.3−7” oパンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、1.3−ブタンジオール
ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート。
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、
2.2’−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル
)プロパン等、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽
和カルボン酸を付加して得られるもの9例えばトリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテルトリ(メタ)ア
クリレート。
ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アク
リレート等、不飽和アミド例えばエチレンビスアクリル
アミド、エチレンビスアクリルアミド。
1.6−へキサメチレンビスアクリルアミド等、ビニル
エステル例えばジビニルサクシネート、ジビニルアジペ
ート、ジビニルフタレート、シヒニルテレフタレート、
ジビニルベンゼン−1,3−ジスルホネートなどがあげ
られる。
付加重合性化合物は、1種または2種以上が用いられる
本発明において用いられるチオキサントンは上記の式〔
I〕で総わされるが、この化合物としては。
例えば、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピル
チオキサントン、チオキサントン、2−エチルチオキサ
/トン、2−クロロチオキサントン。
2.4−ジメチルチオキサントン、ス4−ジエチルチオ
キサントン、2.4−ジイソプロピルチオキサントン、
2−t−ブチルチオキサントン、2−t−ブチル4−メ
チルチオキサントン等がめる。
本発明において用いられるN−アリール−α−アミノ酸
は上記の式[11)で衣わされるが、この化合物として
は9例えば、N−フェニルグリシン。
N−フェニルアラニン、N−フェニルノ(リン、N−フ
ェニルロイシン、N−(p−トリル)グリシ7、N−(
p−クロロフェニル)グリシン、N−(p−7’ロモフ
エニル)クリシン、N−(p−ヨードフェニル)グリシ
ン等がある。更に一般式Ell)においてR14が炭素
数1〜8のアルキル基またはシクロアルキル基であるN
−アルキル化したものは、感度の点で好ましく9例えば
、N−7エ二ルーN−メチルグリシン、N−フェニル−
N−エチルグリシン、N−フェニル−N−(n−プロピ
ル)グリシン、N−フェニル−N−(n−ブチル)グリ
シン、N−フェニル−N−メチルアラニン、N−フェニ
ル−N−メチルバリン、N−フェニル−N−メチルロイ
シン等がある。まタ一般式[1[)において、 Rs 
、 Rto 、 R旧R12およびR13がノ・ロゲン
原子である場合は、化合物の臭気が少なくなり作業上好
ましい。
本発明になる光重合性組成物は、必要に応じて1種以上
の高分子量有機重合体を含有しても良い。
該高分子量有機重合体は熱可塑性であり9分子量は、1
0,000〜700,000を有するものが好ましい。
例えば次のものが用いられる。
囚 コポリエステル 多価アルコール、例えばジエチレングリコール。
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコール等と
多価カルボン酸9例えばテレフタル酸、イソフタル酸、
セバシン酸、アジピン酸等とから製造したコポリエステ
ル。
(B)  ビニルポリマ メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸またはアクリ
ル酸のアルキルエステル例えばメチル(メタ)アクリレ
ート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)ア
クリレート、β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、スチレン、ビニルトルエン、ビニルクロライド、ビ
ニルブチラール等のビニル琳量体のホモポリマまたはコ
ポリマ。
(C)  ポリホルムアルデヒド ■)ポリウレタン (E)  ポリカーボネート (F)  ナイロンまたはポリアミド O)セルロースエステル例工ばメチルセルロース。
エチルセルロース 光重合性組成物に高分子量有機重合体を加えることによ
って基体への接着性、耐薬品性、フィルム性等の特性を
改良することができる。この高分子量有機重合体は該高
分子量有機重合体と前記の付加重合性化合物の合計重量
を基準として80重量%以下の範囲とされる。80重量
%を越えるような量を含有する場合は光硬化が十分に進
まず好ましくない。
上記の付加重合性化合物100重量部、高分子量有機重
合体を用いる場合には上記の付加重合性化合物と高分子
量有機重合体の総量100重量部に対して9式(1)で
示されるチオキサントンを0、1〜5重量部2式〔…〕
で示されるN−アリール−α−アミノ酸を0.1〜10
重量部の範囲で用いることが好ましい。
本発明になる光重合性組成物はまた必要に応じて染料、
顔料等の着色物質を含有してもよい。着色物質は公知の
ものが用いられ9例えばツクシン。
クリスタルバイオレット、メチルオレンジ、ディルプル
−2B、ビクトリアピユアブルー、マラカイトグリーン
、ナイトグリーンB、スビロンブルー等がある。
他に本発明になる光重合性組成物は保存時の安定性を高
めるためにラジカル重合禁止剤またはラジカル重合抑制
剤を含有してもよい。このようなものとしてはp−メト
キシフェノール、ノ1イドロキノン、ピロガロール、ナ
フチルアミノ、フェノチアジン、ピリジン、ニトロベン
ゼン、アリールフォスファイト等がある。
他に本発明になる光重合性組成物は光重合性組成物に用
いることが知られている他の添加物1例えば可塑剤、接
着促進剤等の添加物を含有してもよい。
本発明になる光重合性組成物は支持体上に塗布されて活
性光線に露光されて印刷刷版を製造したり、エツチング
又はメッキにより回路を形成するためのホトレジストと
して使用できる。使用される活性光線源は250 nm
〜550mmの波長の活性光線を発生するものが用いら
れる。
このような光源としてはカーボンアーク灯、水銀灯、キ
セノンアーク灯、アルゴングローランプ。
アルゴンイオンレーザ−等がある。支持体としてはポリ
エチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチ
レンテレフタレートフィルム等の有機重合体フィルム、
銅板、アルミニューム板、鉄板等の金楓板、銅はくを表
面に張った絶縁板(ガラスエポキシ基材1紙エポキシ基
材、厭フェノール基材等)などが用いられる。
(実施例) 本発明の詳細な説明する。ここで1部、%は重量部2重
量%を示す。
実施例 光重合性組成物の調製 アクリルポリマ(メタクリル酸/メチルメタクリレート
/ブチルメタクリレート/2−エチルへキシルアクリレ
ート=23151/6/20 、重量部比の共重合体1
重量平均分子斂約90,000)40チエチルセロソル
ブ溶液     120部テトラエチレングリコールジ
アクリレート。
25部 ハイドロキノン           0.04部光開
始剤(表1の化合物)       4部ビクトリアピ
ュアブルー       0.8部メチルエチルケトン
         20部上記の材料を攪拌溶解し、2
3μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム(東し
■社製、商品名「ルミラー」)上にバーコーターを用い
て塗布し100℃熱風対流式乾燥機で約3分間乾燥して
光重合性エレメントを得た。乾燥した光重合性組成物層
の厚さは30μmであった。
次にゴムロールで加圧・加熱して積層するラミネーター
を用いて清浄な表面を有する1、6薗厚のガラスエポキ
シ銅張積層板上に光重合性組成物層と銅面が接するよう
和光重合性エレメントを積層した(ゴムロール温度16
0℃)。
積層したサンプルのポリエチレンテレフタレートフィル
ム上にステップタブレット(大日本スクリーン■製、商
標グレースケール、光学濃度段差0.15.最小光学濃
度O,OS、最大光学濃度3.05゜21段差のネガフ
ィルム)を密着し、3KWの超高圧水銀灯(オーク製作
所■製、商標フェニックス3000)で15秒間露光を
行なった。■オーク製作所[紫外線照度計UV−Mo1
lで3501mに分光感度極大を有するセンサを使用し
て測定した露光量は5.4 mW/cm”であった。そ
の後ポリエチレンテレフタレートフィルムを除去し30
℃。
2%Na、COs水溶液中に40秒間揺動浸漬すること
によって未硬化部分を溶出させステップタブレットの段
数を光重合性組成物の感度とした(段数が多い程感度が
高い)。表2に感度の比較を示す。
なお、N−フェニル−N−メチルグリシン、N−フェニ
ル−N−エチルグリシンおよびN−(T)−ブロモフェ
ニル)グリシンは次のようにして合成したものを用い、
その他の化合物は市販のものを用いた。
a)N−フェニル−Nメチルグリシンメチルエステルの
合成 N−フェニルグリシン509および炭酸カリウム(10
09,Z22当:)を4つロフラスコに入れ、乾燥テト
ラヒドロフラン700m1!を加え還流させながらヨウ
化エチル(103g、2.2当量)を1時間で滴下し、
更に1時間還流した。反応混合物は、テトラヒドロフラ
ンを減圧留去し、水を加えてエーテルで抽出した。エー
テル層を乾燥し。
溶媒留去してN−フェニル−N−メチルグリシンメチル
エステルを得た。収量379゜これをさらに減圧蒸留に
よシ精製した( b、 I)、 79〜bl印Hg)。
b)  N−フェニル−N−メチルグリシンの合成N−
フェニル−N−メチルグリシンメチルエステルaogと
Na0H(12,3g、 1.1当量)を水/lり/−
ル(1/4重量比) 500 mlに加え。
2時間還流した。反応混合物は、メタノールを減圧留去
し、水を加えて塩化メチレンにて未変の原料を抽出し、
水層へ10%塩酸を加えてpH5付近に調整しエーテル
にて抽出した。エーテル層を乾燥し、溶媒留去してN−
フェニル−N−メチルグリシンを得た。収量27.19
゜ C)N−フェニル−N−エチルグリシンの合成N−フェ
ニル−N−エチルグリシンはヨウ化チメチルをヨウ化エ
チル(113,59,2,2当量)に代えて上記の方法
に従って得た。
d)N−(1)−ブロモフェニル)−グリシンの合成 N−7x=ルグリシ750gを氷酢酸250 mj’中
に加えてよく攪拌しながら臭素(44,69,1当りを
1時間かけて滴下した。反応混合物を氷水中に注ぎ析出
した結晶をf別して集めさらによく水で洗浄し乾燥した
。収量689゜ 表1にIH−NMRデータを示した。
表2 光重合性組成物の感度 表2つづき (発明の効果) 以上の実施例で示したとおり9本発明になる光開始剤系
を用いた光重合性組成物は紫外線九対し商い感度を有す
るものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(1)常圧において100℃以上の沸点を有する付
    加重合性化合物 (2)下記式〔 I 〕で表わされるチオキサントン▲数
    式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5、R
    _6、R_7およびR_8は水素、炭素数1〜4のアル
    キル基またはハロゲン原子であり、R_1、R_2、R
    _3、R_4、R_5、R_6、R_7およびR_8は
    同一の場合もある) ならびに (3)下記式〔II〕で表わされるN−アリール−α−ア
    ミノ酸 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、R_9、R_1_0、R_1_1、R_1_2
    およびR_1_3は水素、炭素数1〜4のアルキル基ま
    たはハロゲン原子であり、R_1_4は水素、炭素数1
    〜8のアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基
    であり、R_1_5およびR_1_6は水素または炭素
    数1〜4のアルキル基であり、R_9、R_1_0、R
    _1_1、R_1_2、R_1_3、R_1_4、R_
    1_5およびR_1_6は同一の場合もある) を含有してなる光重合性組成物。 2、高分子量有機重合体を含有し、高分子量有機重合体
    を該高分子量有機重合体と付加重合性化合物の合計重量
    を基準として80重量%以下とした特許請求の範囲第1
    項記載の光重合性組成物。 3、一般式〔II〕においてR_1_4が炭素数1〜8の
    アルキル基またはシクロアルキル基である特許請求の範
    囲第1項又は第2項記載の光重合性組成物。 4、一般式〔II〕においてR_9、R_1_0、R_1
    _1、R_1_2およびR_1_3がハロゲン原子であ
    る特許請求の範囲第1項又は第2項記載の光重合性組成
    物。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62123450A (ja) * 1985-07-09 1987-06-04 Hitachi Chem Co Ltd 光重合性組成物
JPS6363605A (ja) * 1986-09-05 1988-03-22 Ube Ind Ltd 光重合性歯科材料
US5153236A (en) * 1986-04-23 1992-10-06 Hitachi Chemical Co., Ltd. Photopolymerizable composition

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