JPS61141591A - カルコゲナイド系酸化物からなる光記録媒体の製造方法 - Google Patents
カルコゲナイド系酸化物からなる光記録媒体の製造方法Info
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- JPS61141591A JPS61141591A JP59264129A JP26412984A JPS61141591A JP S61141591 A JPS61141591 A JP S61141591A JP 59264129 A JP59264129 A JP 59264129A JP 26412984 A JP26412984 A JP 26412984A JP S61141591 A JPS61141591 A JP S61141591A
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光記録媒体、特に光による記録、および消去可
能なカルコゲナイド系酸化物からなる光記録媒体に関す
るものであり、長期間にわたって光記録特性が保持され
る安定性に優れた光記録媒体に関する。
能なカルコゲナイド系酸化物からなる光記録媒体に関す
るものであり、長期間にわたって光記録特性が保持され
る安定性に優れた光記録媒体に関する。
光記録媒体には、レーザー光の熱エネルギーによって小
孔あるいは泡を形成する方式のもの及び膜の光学的特性
を変化する方式の４のが知られている。前者は記録の際
に、記録膜層に凹凸の形状変化を生ずるため、記録膜や
基板が経時的に変質、腐蝕を受けやすく１通常二枚の記
録媒体をエアサンドイッチ構造にして使用されていた。
孔あるいは泡を形成する方式のもの及び膜の光学的特性
を変化する方式の４のが知られている。前者は記録の際
に、記録膜層に凹凸の形状変化を生ずるため、記録膜や
基板が経時的に変質、腐蝕を受けやすく１通常二枚の記
録媒体をエアサンドイッチ構造にして使用されていた。
しかし後者はこの必要はなく、単に二枚の記録媒体を接
着させて使用できる危め製造工程を大巾に簡略化できる
利点が６つ光。後者に使用される材料のうち、感度の高
いもの、即ち一定の入射光強［Ｋ対して光学的特性の変
化の大きい材料としてカルコゲナイド系低酸化物、特に
テルル酸化物ＴｅＯｘが知られておシ、Ｘは０＜Ｘ＜２
．０のものが用いられる。
着させて使用できる危め製造工程を大巾に簡略化できる
利点が６つ光。後者に使用される材料のうち、感度の高
いもの、即ち一定の入射光強［Ｋ対して光学的特性の変
化の大きい材料としてカルコゲナイド系低酸化物、特に
テルル酸化物ＴｅＯｘが知られておシ、Ｘは０＜Ｘ＜２
．０のものが用いられる。
テルル酸化物薄膜の製造法としては、Ｔ・０鵞の粉末を
ＷまたはＭｏのボート製ヒーターにのせ、ヒーターを通
電加熱してＴｅＯ２を一部還元しながら真空蒸着する方
法、 Ｔｏの粉末と各種の還元金属の混合物を石英る
つぼに入れ、これを真空中で加熱蒸着する方法、 Ｔｅ
Ｏ＋と金属Ｔ・とをそれぞれに別の蒸発源として用い、
同時に蒸着する方法等が知られている。
ＷまたはＭｏのボート製ヒーターにのせ、ヒーターを通
電加熱してＴｅＯ２を一部還元しながら真空蒸着する方
法、 Ｔｏの粉末と各種の還元金属の混合物を石英る
つぼに入れ、これを真空中で加熱蒸着する方法、 Ｔｅ
Ｏ＋と金属Ｔ・とをそれぞれに別の蒸発源として用い、
同時に蒸着する方法等が知られている。
しかし、これらの方法のうち、前の２者は簡便な方法で
はあるが、蒸着中にボートるるいは還元金属の還元力が
変化するため、蒸着された膜の膜厚方向の組成の不規則
な変化が生じ易いという欠点がある。
はあるが、蒸着中にボートるるいは還元金属の還元力が
変化するため、蒸着された膜の膜厚方向の組成の不規則
な変化が生じ易いという欠点がある。
２つの蒸着源を用いる方法は組成が膜厚方向で変化せず
、均一な膜を得ることができる。この方法によって製作
されたＴｅＯｘのＸが１未満の膜は。
、均一な膜を得ることができる。この方法によって製作
されたＴｅＯｘのＸが１未満の膜は。
黒化開始温度が低く、また感度が高いという利点を有す
る。しかるに鉄膜は黒化開始温匿以下の比め、主として
膜の安定性の点から、感度は劣るもののＸが１以上の範
囲のＴｅＯｘ９４が一般的に使用されている。又、基板
材料としてアクリル板、ポリカーボネート板等のプラス
チックス材料を用いる場合、これらは気体透過率が比較
的大きいため、経時的に水蒸気や酸素等が侵入し、カル
コゲナイド系低酸化物を酸化し感度を低下させるという
問題があった。
る。しかるに鉄膜は黒化開始温匿以下の比め、主として
膜の安定性の点から、感度は劣るもののＸが１以上の範
囲のＴｅＯｘ９４が一般的に使用されている。又、基板
材料としてアクリル板、ポリカーボネート板等のプラス
チックス材料を用いる場合、これらは気体透過率が比較
的大きいため、経時的に水蒸気や酸素等が侵入し、カル
コゲナイド系低酸化物を酸化し感度を低下させるという
問題があった。
このような、カルコゲナイド系記録媒体の長期にわたる
安定性向上に関してはすでに多くの技術が開示されてお
シ２例えば耐蝕性の良い金属中に分散させるもの（％開
昭５８−１６４０３７ ）、有機物質でコーティングす
るもの（特開昭５６−２１８９２゜特開昭５８−１２５
２４８ ％特開昭５８−２０３６４３）。
安定性向上に関してはすでに多くの技術が開示されてお
シ２例えば耐蝕性の良い金属中に分散させるもの（％開
昭５８−１６４０３７ ）、有機物質でコーティングす
るもの（特開昭５６−２１８９２゜特開昭５８−１２５
２４８ ％特開昭５８−２０３６４３）。
無機物質でコーティングするもの（特開昭５８−１９９
４４９）、表面を強制的に酸化するもの（特開昭５６−
３４４２．４Ｉ開昭５８−９４１４４．特開昭５８−１
８９８５０．特開昭５９−２２４５ ）等を例示するこ
とができるが、操作が繁雑になったシ、かならずしも効
果が十分ではない場合が多かった。
４４９）、表面を強制的に酸化するもの（特開昭５６−
３４４２．４Ｉ開昭５８−９４１４４．特開昭５８−１
８９８５０．特開昭５９−２２４５ ）等を例示するこ
とができるが、操作が繁雑になったシ、かならずしも効
果が十分ではない場合が多かった。
本発明は長期にわたる安定性が向上した光記録媒体を提
供することを目的とする。
供することを目的とする。
かかる本発明の目的は高周波電力によってプラ ・ズマ
化された酸素ガス又は酸素ガスと不活性ガスの混合ガス
中を通過する金属テルル蒸気によって。
化された酸素ガス又は酸素ガスと不活性ガスの混合ガス
中を通過する金属テルル蒸気によって。
ａ）二酸化テルル層（Ｔｅ０２） 、 ｂ）テルル及
び／又はテルル低酸化物（ＴｅＯｘ、 ０≦Ｘ＜２）層
及びＣ）二酸化テルル（Ｔ、ｅＯｚ）層を積層した光記
録媒体によって達成された。本発明によれば特に感度の
高い領域にめるテルル又はテルル低酸化物（ＴｅＯｘ、
０≦Ｘ〈１）からなる記録層でｂっても、安定性に優れ
た光記録媒体が提供される。
び／又はテルル低酸化物（ＴｅＯｘ、 ０≦Ｘ＜２）層
及びＣ）二酸化テルル（Ｔ、ｅＯｚ）層を積層した光記
録媒体によって達成された。本発明によれば特に感度の
高い領域にめるテルル又はテルル低酸化物（ＴｅＯｘ、
０≦Ｘ〈１）からなる記録層でｂっても、安定性に優れ
た光記録媒体が提供される。
以下図面を参照して詳細に説明する。
この発明においては、酸素ガス及び／又は不活性ガス（
以下総称して単にガスということがある。）雰囲気中で
金属テルルがイオンブレーティング法によって基板上に
蒸着される。
以下総称して単にガスということがある。）雰囲気中で
金属テルルがイオンブレーティング法によって基板上に
蒸着される。
すなわち、第２図にその概念図を示すように。
製造装置は真空槽３内に設けられた金属テルルｌをのせ
大加熱ボート２．これに対向して基板７を保持する基板
保持具８及びこの間に配設された高周波励起コイル４か
らなる。
大加熱ボート２．これに対向して基板７を保持する基板
保持具８及びこの間に配設された高周波励起コイル４か
らなる。
真空槽３内はまず酸素ガス及び／又は不活性ガスで充填
される。この際、安定々テルル低酸化物質膜を得るため
Ｋは真空槽内をまず１０−’Ｔｏｒｒｇ度以上の高真空
とした後、高純度酸素ガス及び／又は不活性ガスを導入
し、槽内の真空度をｌ Ｘ ｌ ｏ’ないし９ Ｘ ｌ
Ｏ−”Ｔｏｒｒ、好ましくは２ Ｘ １０−’ないし
５ＸＩＯＴｏｒｒに保つのがよい。なお、不活性ガスと
してアルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガス等を例示す
ることが可能である。
される。この際、安定々テルル低酸化物質膜を得るため
Ｋは真空槽内をまず１０−’Ｔｏｒｒｇ度以上の高真空
とした後、高純度酸素ガス及び／又は不活性ガスを導入
し、槽内の真空度をｌ Ｘ ｌ ｏ’ないし９ Ｘ ｌ
Ｏ−”Ｔｏｒｒ、好ましくは２ Ｘ １０−’ないし
５ＸＩＯＴｏｒｒに保つのがよい。なお、不活性ガスと
してアルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガス等を例示す
ることが可能である。
この状態でスパイラルコイル状の高周波励起コイル４に
５０〜５００ワツトの電圧を印加し、高周波電界をつ＜
シ、ガスを励起してプラズマを生成させる。生成される
プラズマは、コイル形状、大きさ、電界の強さ及び真空
度によって制御されるが、その制御は容易であり、高精
度の制御が可能でるる。
５０〜５００ワツトの電圧を印加し、高周波電界をつ＜
シ、ガスを励起してプラズマを生成させる。生成される
プラズマは、コイル形状、大きさ、電界の強さ及び真空
度によって制御されるが、その制御は容易であり、高精
度の制御が可能でるる。
プラズマ生成後、加熱ボート２に通電し、金属テルル１
を加熱・融解して蒸発させる。加熱温度及び真空槽３内
の圧力によってテルルの蒸気圧が定まり、さらにボート
開口部面積によってテルルの蒸発量が規定される。そし
て、プラズマ内を通過したテルルの蒸発粒子は、第１図
中に模式的に示したように、プラズマ内の酸素イオンや
ラジカルの衝撃によりその一部が酸化され、！化されな
かった蒸発粒子と共に基板面上に沈着する。第１図中５
．５′は酸化したテルルの蒸発粒子を、６゜６′は酸化
されなかった蒸発粒子を示す。ここで。
を加熱・融解して蒸発させる。加熱温度及び真空槽３内
の圧力によってテルルの蒸気圧が定まり、さらにボート
開口部面積によってテルルの蒸発量が規定される。そし
て、プラズマ内を通過したテルルの蒸発粒子は、第１図
中に模式的に示したように、プラズマ内の酸素イオンや
ラジカルの衝撃によりその一部が酸化され、！化されな
かった蒸発粒子と共に基板面上に沈着する。第１図中５
．５′は酸化したテルルの蒸発粒子を、６゜６′は酸化
されなかった蒸発粒子を示す。ここで。
基板としてはガラス又はアクリル板、ポリカーボネート
板をはじめとする各種プラスチックを使用することがで
きる。
板をはじめとする各種プラスチックを使用することがで
きる。
テルル酸化物の組成（Ｘの値）はスパイラルコイル状の
高周波励起コイル４に印加する電力の大きさ、酸素ガス
の分圧Ｐｏ、及び／又は金属テルルの蒸発速度を変化さ
せることによシ自由に制御できる。例えば、ガス分圧Ｐ
ｏを太きくＬ７１．印加電力を太きくＬｆｃ＃）、金属
テルルの蒸発速度を小さくすることＫよってＸを大きく
することができる。しかして１本発明の記録媒体はまず
高周波電力、ガス分圧、金属テルルの蒸発速度を選択し
て基板上にＴａＯｘ層を形成し１次いで直ちに同一蒸着
装置、同一蒸発源を用いて、高周波電力、ガス分圧、金
属テルルの蒸発速度の少なくともいずれかひとつ以上の
条件を変えることによってテルル又はテルル低酸化物層
を形成し１次に再度初めの条件にもどすことによって二
酸化テルル層を連続して形成することによって得ること
ができる（第１図）。従って本発明の記録媒体はその製
造方法が簡易であシ、安価に光記録媒体を製造しうるだ
けでなく、テルル゛又はテルル低酸化物層とＴａＯｘ層
の界面に異物が入シこむこともなく、膜相互間の密着性
も良く強固′な膜を形成しうる。二酸化テルルは耐蝕性
に優れているため長期間にわたる安定化に優れた効果を
発揮する。二酸化テルル層の厚さは特に厚くする必要は
なく、ｌＯ〜１０００ Ｋ程度の厚さであれば上該目的
を十分満たすことが可能であり、この範囲で使用される
。本発明では必要に応じて、二酸化テルル層の上に透明
性の良い高分子膜、無機質膜等を設けて、さらに安定性
を向上させることも可能である。を六本発明では。
高周波励起コイル４に印加する電力の大きさ、酸素ガス
の分圧Ｐｏ、及び／又は金属テルルの蒸発速度を変化さ
せることによシ自由に制御できる。例えば、ガス分圧Ｐ
ｏを太きくＬ７１．印加電力を太きくＬｆｃ＃）、金属
テルルの蒸発速度を小さくすることＫよってＸを大きく
することができる。しかして１本発明の記録媒体はまず
高周波電力、ガス分圧、金属テルルの蒸発速度を選択し
て基板上にＴａＯｘ層を形成し１次いで直ちに同一蒸着
装置、同一蒸発源を用いて、高周波電力、ガス分圧、金
属テルルの蒸発速度の少なくともいずれかひとつ以上の
条件を変えることによってテルル又はテルル低酸化物層
を形成し１次に再度初めの条件にもどすことによって二
酸化テルル層を連続して形成することによって得ること
ができる（第１図）。従って本発明の記録媒体はその製
造方法が簡易であシ、安価に光記録媒体を製造しうるだ
けでなく、テルル゛又はテルル低酸化物層とＴａＯｘ層
の界面に異物が入シこむこともなく、膜相互間の密着性
も良く強固′な膜を形成しうる。二酸化テルルは耐蝕性
に優れているため長期間にわたる安定化に優れた効果を
発揮する。二酸化テルル層の厚さは特に厚くする必要は
なく、ｌＯ〜１０００ Ｋ程度の厚さであれば上該目的
を十分満たすことが可能であり、この範囲で使用される
。本発明では必要に応じて、二酸化テルル層の上に透明
性の良い高分子膜、無機質膜等を設けて、さらに安定性
を向上させることも可能である。を六本発明では。
必要に応じてテルル酸化物層及び／又はテルル層には上
記の効果を損わない範囲で他の物質１例え ゛ば増
感剤や安定剤を含有せしめることができる。
記の効果を損わない範囲で他の物質１例え ゛ば増
感剤や安定剤を含有せしめることができる。
次に実施例をもって本発明の詳細な説明する。
第２図に示した装置により、初期圧力ＰがＩＸｌ ０−
’ Ｔｏｒｒ トナｂ ｔ テ排気し、酸素ガスを４
Ｘ １ｏ４Ｔｏｒｒまで導入する。コれに周波数１３．
５６ ＭＨｚ 。
’ Ｔｏｒｒ トナｂ ｔ テ排気し、酸素ガスを４
Ｘ １ｏ４Ｔｏｒｒまで導入する。コれに周波数１３．
５６ ＭＨｚ 。
４００ワツトの高周波電力を印加してプラズマを発生さ
せる。そして純度９９．９９％の金属テルルを４５０〜
５００℃に保って融解、蒸発させ、約４Ｘ／ａｅａ、の
蒸着速度でガラス製基板上及びＰＭＭＡ製基板上基板上
させた。このとき形成され念薄膜の厚さは０．０１μｍ
、膜組成はオージェ電子分光法によ＃）Ｘ＝２．０であ
った。次に高周波電力を２００ワツト、蒸着速度を約１
０Ａ／ｓｅｅ、に変えて成膜した。形成された薄膜の厚
さは０．１μｍ１ｇ１Ｉｋ組成はＸ＝０．７であった。
せる。そして純度９９．９９％の金属テルルを４５０〜
５００℃に保って融解、蒸発させ、約４Ｘ／ａｅａ、の
蒸着速度でガラス製基板上及びＰＭＭＡ製基板上基板上
させた。このとき形成され念薄膜の厚さは０．０１μｍ
、膜組成はオージェ電子分光法によ＃）Ｘ＝２．０であ
った。次に高周波電力を２００ワツト、蒸着速度を約１
０Ａ／ｓｅｅ、に変えて成膜した。形成された薄膜の厚
さは０．１μｍ１ｇ１Ｉｋ組成はＸ＝０．７であった。
次に再度最初の成膜条件にもどしテＴｅ０ｚ ｇを形成
し、基ＶＴｅ０２ｊ１１７ＴｅＯｒｈｒ／Ｔｅ０ｕｒか
らなる記録媒体を得た（実施例）。
し、基ＶＴｅ０２ｊ１１７ＴｅＯｒｈｒ／Ｔｅ０ｕｒか
らなる記録媒体を得た（実施例）。
又、対比のためにＴｅＯ２膜を形成しない鳴の（これを
比較例Ａとす為）および金属テルルと二酸化テルルを別
々の蒸発源とする装置を用いて、まず二酸化テルルの蒸
発源のみ加熱し二酸化テルルを溶融蒸発させて基板上に
二酸化テルル層を形成し次いで金属テルルと二酸化テル
ルを同時に蒸発させＸ ＝ ０．７なる膜厚０．１μｍ
のテルル低酸化物からなる薄膜を真空蒸着によシ形成し
た。次に二酸化テルルの蒸発源のみ加熱し該テルル低酸
化物層の上に二酸化テ／ｌ／Ａ／層を形成し、基＠／Ｔ
ｅＯ２４／Ｔｅ０（Ｌ７／Ｔ＠Ｃｈｏからなる記録媒
体を得な（これを比較例Ｂ）とする。
比較例Ａとす為）および金属テルルと二酸化テルルを別
々の蒸発源とする装置を用いて、まず二酸化テルルの蒸
発源のみ加熱し二酸化テルルを溶融蒸発させて基板上に
二酸化テルル層を形成し次いで金属テルルと二酸化テル
ルを同時に蒸発させＸ ＝ ０．７なる膜厚０．１μｍ
のテルル低酸化物からなる薄膜を真空蒸着によシ形成し
た。次に二酸化テルルの蒸発源のみ加熱し該テルル低酸
化物層の上に二酸化テ／ｌ／Ａ／層を形成し、基＠／Ｔ
ｅＯ２４／Ｔｅ０（Ｌ７／Ｔ＠Ｃｈｏからなる記録媒
体を得な（これを比較例Ｂ）とする。
これら三１１類の記録媒体に対して波長８３０ ｎｍの
半導体レーザーで記録と再生を行なった。レーザバフ−
７ｍＷ、ビーム径１．８μｍで記録を行ない。
半導体レーザーで記録と再生を行なった。レーザバフ−
７ｍＷ、ビーム径１．８μｍで記録を行ない。
１ｍＷのパワーで再生を行なったが１％性に差はなかっ
た。次に温度４０℃、相対湿度９０チの恒温恒湿槽に入
れ、３０日経過後では、比較例Ａ、 Ｂでは正常な記録
を行なうのにレーザ出力２０〜５゜ｍＷ ｔ−要し、明
らかに特性の劣化を示した。しかし本発明に基づ〈実施
例では成膜直後と何ら変化はなく、安定性向上に有効で
あることを示している０ 又、膜面に鋭い刃物で１鴎方眼の刻み目を１００個つけ
て、これにセロテープを貼シ付けて９０’引き起こす剥
離試験の結果では、実施例と比較例Ａでは膜面と基板面
の剥離は全くなく、実用上十分な強さの膜が得られたが
、比較例Ｂでは完全に剥離してしまい、単なる真空蒸着
法では強固な膜は形成しえないことを示している。
た。次に温度４０℃、相対湿度９０チの恒温恒湿槽に入
れ、３０日経過後では、比較例Ａ、 Ｂでは正常な記録
を行なうのにレーザ出力２０〜５゜ｍＷ ｔ−要し、明
らかに特性の劣化を示した。しかし本発明に基づ〈実施
例では成膜直後と何ら変化はなく、安定性向上に有効で
あることを示している０ 又、膜面に鋭い刃物で１鴎方眼の刻み目を１００個つけ
て、これにセロテープを貼シ付けて９０’引き起こす剥
離試験の結果では、実施例と比較例Ａでは膜面と基板面
の剥離は全くなく、実用上十分な強さの膜が得られたが
、比較例Ｂでは完全に剥離してしまい、単なる真空蒸着
法では強固な膜は形成しえないことを示している。
（発明の効果）
この発明によれは、真空槽内で蒸発したテルル粒子が、
酸素ガスプラズマ内を通過する過程で活性化され、一部
は酸化されて基板上に沈着する。
酸素ガスプラズマ内を通過する過程で活性化され、一部
は酸化されて基板上に沈着する。
このため、はく離しＫくい、環境による影響を受は難い
丈夫な安定したテルル層又はテルル低酸化物層が形成出
来る。
丈夫な安定したテルル層又はテルル低酸化物層が形成出
来る。
そして本発明によれば該テルル又はテルル低酸化物層の
表面及び裏面には安定な二酸化テルル層が形成されてい
るので該テルル又はテルル低酸化物層の安定性は一層向
上される。
表面及び裏面には安定な二酸化テルル層が形成されてい
るので該テルル又はテルル低酸化物層の安定性は一層向
上される。
更に本発明に従えばテルル層及び／又はテルル低酸化物
層及び二酸化テルル層が同一の装置内で同一の蒸発源に
よシ形成されるのでその界面に異物が混入せず、従って
膜相互間の密着性が極めて優れている。
層及び二酸化テルル層が同一の装置内で同一の蒸発源に
よシ形成されるのでその界面に異物が混入せず、従って
膜相互間の密着性が極めて優れている。
従って、従来安定性を欠き実用化に不適と思わ ゛れて
いた高感度領域のテルル又はテルル低酸化物層を含む記
録媒体が極めて経済的に、Ｌかも高い安定性を偏見なも
のとして実現出来るという顕著な効果を奏する。
いた高感度領域のテルル又はテルル低酸化物層を含む記
録媒体が極めて経済的に、Ｌかも高い安定性を偏見なも
のとして実現出来るという顕著な効果を奏する。
第１図は木兄＃ＩＫ基づく光記録媒体の構成図第２図は
本発明を実施するイオンブレーティング装置の模式図を
示す。 図中１は金属テルル、２は蒸発ボート、３は真空槽、４
は高周波コイル、７は基板、８は基板保持具、９はテル
ル低酸化物層およびｌＯは二酸化テルル層でるる。 特許出願人 株式会社 り ラ し 村山洋−
本発明を実施するイオンブレーティング装置の模式図を
示す。 図中１は金属テルル、２は蒸発ボート、３は真空槽、４
は高周波コイル、７は基板、８は基板保持具、９はテル
ル低酸化物層およびｌＯは二酸化テルル層でるる。 特許出願人 株式会社 り ラ し 村山洋−
Claims (1)
- 基板上に、高周波電力によつてプラズマ化された酸素ガ
ス又は酸素ガスと不活性ガスの混合ガスを通過する金属
テルル蒸気によつてａ）二酸化テルル（ＴｅＯ＿２）層
、ｂ）テルル及び／又はテルル低酸化物（ＴｅＯ＿Ｘ、
０≦Ｘ＜２）、及び二酸化テルル（ＴｅＯ＿２）層を形
成してなる光記録媒体
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59264129A JPS61141591A (ja) | 1984-12-13 | 1984-12-13 | カルコゲナイド系酸化物からなる光記録媒体の製造方法 |
| DE8585309089T DE3582149D1 (de) | 1984-12-13 | 1985-12-13 | Aus chalkogenoxid gebildetes optisches aufzeichnungsmedium und verfahren zu dessen herstellung. |
| EP85309089A EP0188100B1 (en) | 1984-12-13 | 1985-12-13 | Optical recording medium formed of chalcogen oxide and method for producing same |
| US07/082,909 US4786538A (en) | 1984-12-13 | 1987-08-10 | Optical recording medium formed of chalcogenide oxide and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59264129A JPS61141591A (ja) | 1984-12-13 | 1984-12-13 | カルコゲナイド系酸化物からなる光記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61141591A true JPS61141591A (ja) | 1986-06-28 |
| JPH0530195B2 JPH0530195B2 (ja) | 1993-05-07 |
Family
ID=17398868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59264129A Granted JPS61141591A (ja) | 1984-12-13 | 1984-12-13 | カルコゲナイド系酸化物からなる光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61141591A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008112556A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学的情報記録媒体とその記録再生方法及び記録再生装置 |
| US8133655B2 (en) | 2006-10-02 | 2012-03-13 | Panasonic Corporation | Optical information recording medium, method and apparatus for recording and reproducing for the same |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894144A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-04 | Fujitsu Ltd | 記録媒体 |
| JPS58189850A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光記録媒体およびその製造方法 |
| JPS58203094A (ja) * | 1982-05-24 | 1983-11-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光記録用媒体 |
| JPS592245A (ja) * | 1982-06-25 | 1984-01-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光記録デイスクの製造方法 |
-
1984
- 1984-12-13 JP JP59264129A patent/JPS61141591A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894144A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-04 | Fujitsu Ltd | 記録媒体 |
| JPS58189850A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光記録媒体およびその製造方法 |
| JPS58203094A (ja) * | 1982-05-24 | 1983-11-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光記録用媒体 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008112556A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学的情報記録媒体とその記録再生方法及び記録再生装置 |
| US8133655B2 (en) | 2006-10-02 | 2012-03-13 | Panasonic Corporation | Optical information recording medium, method and apparatus for recording and reproducing for the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0530195B2 (ja) | 1993-05-07 |
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