JPS61120756U - - Google Patents

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JPS61120756U
JPS61120756U JP346785U JP346785U JPS61120756U JP S61120756 U JPS61120756 U JP S61120756U JP 346785 U JP346785 U JP 346785U JP 346785 U JP346785 U JP 346785U JP S61120756 U JPS61120756 U JP S61120756U
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JP
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ion
evaporation
thin film
forming apparatus
film forming
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JP346785U
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案の一実施例に係るイオン蒸
着薄膜形成装置の概略を示す縦断面図である。第
2図は、第1図の線―に沿う概略断面図であ
る。第3図は、温度制御回路の概略を示すブロツ
ク図である。第4図は、従来のイオン蒸着薄膜形
成装置を示す概略図である。 2……ウエハ、4……イオン源、6……蒸発源
、12……デイスク、16……デイスク回転・並
進機構、28……ウエハロード・アンロード機構
、60……ヒータ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. イオン源と蒸発源とを有していて、真空中でウ
    エハに対してイオン照射と蒸着とを行うイオン蒸
    着薄膜形成装置において、複数枚のウエハを装着
    して回転及び並進するデイスクを設け、更に当該
    デイスクに、そこに装着されたウエハを加熱する
    ためのヒータを設けたことを特徴とするイオン蒸
    着薄膜形成装置。
JP346785U 1985-01-14 1985-01-14 Pending JPS61120756U (ja)

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JP346785U JPS61120756U (ja) 1985-01-14 1985-01-14

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JP346785U JPS61120756U (ja) 1985-01-14 1985-01-14

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JPS61120756U true JPS61120756U (ja) 1986-07-30

Family

ID=30478122

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JP346785U Pending JPS61120756U (ja) 1985-01-14 1985-01-14

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