JPS61118467A - 被覆組成物 - Google Patents
被覆組成物Info
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- JPS61118467A JPS61118467A JP23845884A JP23845884A JPS61118467A JP S61118467 A JPS61118467 A JP S61118467A JP 23845884 A JP23845884 A JP 23845884A JP 23845884 A JP23845884 A JP 23845884A JP S61118467 A JPS61118467 A JP S61118467A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、新規な反応性含フツ素表面改質剤、並びに該
含フツ素表面改質剤を一成分として含有することを特徴
とし、紫外ａｔたは電子線等のエネルギー線によって重
合して、表面が平滑性、摩擦低減性、そして撥水・撥油
性等に優れた被覆を形成する組成物に関する。
含フツ素表面改質剤を一成分として含有することを特徴
とし、紫外ａｔたは電子線等のエネルギー線によって重
合して、表面が平滑性、摩擦低減性、そして撥水・撥油
性等に優れた被覆を形成する組成物に関する。
〈従来の技術〉
金属、プラスチ、り、磁器、ガラス等の表面を保護被覆
する方法として、表面に重合性モノマーあるいはこれら
の！し４リマー等の硬化性樹脂材料を塗布し、次いでエ
ネルギー線を照射して硬化性樹脂材料を重合し、表面に
強固な硬化樹脂被膜を形成する方法が知られている。
する方法として、表面に重合性モノマーあるいはこれら
の！し４リマー等の硬化性樹脂材料を塗布し、次いでエ
ネルギー線を照射して硬化性樹脂材料を重合し、表面に
強固な硬化樹脂被膜を形成する方法が知られている。
この方法において近年、フッ素化アル中ル基の重合体か
ら形成される表面が低表面エネルギニを有することが着
目され、フ、素化アルキル基含有モノマーを硬化性樹脂
組成物の一成分として使用して、耐溶剤性、耐摩耗性、
摩擦低減性等に優れた被膜を形成しようとする機運が高
まシ、各種成形品の保護被覆はもとよシ、電子写真像の
担持体表面被覆ｆ、磁気テープ、磁気ディスク等の表面
保護被覆まで応用されるようになった。例えば■ 米国
特許第２，８０３，６１５号、第２，６４２．４１６号
、第３，３８４，６２７号、第３，４１９，６０２号、
第３，７１９，６９８号、第３，９８１，９２８号、第
３．１０２，１０３号、第３，１７１，８６１号、第３
，８１８，０７４号、第３，８１４．７４１号等の明細
書に記載ノ、−分子中に／４−フロロアルキル基トビニ
ル基を１つずつ含有する化合物、又は −０ＣＨ２ＣＦ２０＋ｃＦ２ＣＦ２ｏ＋−＋ＣＦ２叶、
ＣＦ２ＣＨ２０−ノ如きフロロオキシアル中しン基の両
末端に、２価の連結基を介してビニル基が連結された化
合物を硬化性樹脂組成物に添加し、耐溶剤性の高い被覆
を行う技術（Ｉｆ＃開昭５７−１６０６７号公報）。
ら形成される表面が低表面エネルギニを有することが着
目され、フ、素化アルキル基含有モノマーを硬化性樹脂
組成物の一成分として使用して、耐溶剤性、耐摩耗性、
摩擦低減性等に優れた被膜を形成しようとする機運が高
まシ、各種成形品の保護被覆はもとよシ、電子写真像の
担持体表面被覆ｆ、磁気テープ、磁気ディスク等の表面
保護被覆まで応用されるようになった。例えば■ 米国
特許第２，８０３，６１５号、第２，６４２．４１６号
、第３，３８４，６２７号、第３，４１９，６０２号、
第３，７１９，６９８号、第３，９８１，９２８号、第
３．１０２，１０３号、第３，１７１，８６１号、第３
，８１８，０７４号、第３，８１４．７４１号等の明細
書に記載ノ、−分子中に／４−フロロアルキル基トビニ
ル基を１つずつ含有する化合物、又は −０ＣＨ２ＣＦ２０＋ｃＦ２ＣＦ２ｏ＋−＋ＣＦ２叶、
ＣＦ２ＣＨ２０−ノ如きフロロオキシアル中しン基の両
末端に、２価の連結基を介してビニル基が連結された化
合物を硬化性樹脂組成物に添加し、耐溶剤性の高い被覆
を行う技術（Ｉｆ＃開昭５７−１６０６７号公報）。
■ 磁気記録媒体の磁気表面側に、上記■中の含フツ素
ビニルモノマーを塗布し、エネルギー線で硬化して、耐
摩耗性、摩擦低減性に優れた磁気表面保護層を得る技術
（特開昭５９−２８２４４号公報）。
ビニルモノマーを塗布し、エネルギー線で硬化して、耐
摩耗性、摩擦低減性に優れた磁気表面保護層を得る技術
（特開昭５９−２８２４４号公報）。
■ エネルギー線硬化製組成物に、１．１．１．３，３
．３−ヘキサフロログロビル（メタ）アクリレート又は
ベルフロロエトヤシ−１，１−ソヒドロベルフロロデロ
ビル（メタ）アクリレートの如き含フツ素ビニルモノマ
ーを添加し、斯かる組成物をグラスチック又は金属の表
面ｉｆＣ＠布、硬化し、平滑性、耐摩耗性に優れ九被膜
を形成する技術（％開昭５２−１０５９３６号公報）。
．３−ヘキサフロログロビル（メタ）アクリレート又は
ベルフロロエトヤシ−１，１−ソヒドロベルフロロデロ
ビル（メタ）アクリレートの如き含フツ素ビニルモノマ
ーを添加し、斯かる組成物をグラスチック又は金属の表
面ｉｆＣ＠布、硬化し、平滑性、耐摩耗性に優れ九被膜
を形成する技術（％開昭５２−１０５９３６号公報）。
等の提案がある。
〈発明が解決しようとする問題点〉
これら従来から使用されてきたパーフロロアルキル基又
は／ＩＰ−フロロアルキレン基含有ビニル七ツマ−は、
非フツ素系成分との相溶性に劣り、エネルギー線で硬化
させて得られた硬化塗膜は、摩擦低減性、均質性、平滑
性が十分ではなく、磁気テープ又は磁気ディスクに要求
されている表面特性を満足するものではない。また一方
、フ、素系ビニルモノマートシて１．１．１．３．３．
３−へ中サフロロプロビル（メタ）クリレートの如き部
分フッ素化されたアルキル基を含むビニルモノマーを使
用し、非フツ素系成分との相溶性を上げる試みもあるが
、この様な方法では硬化塗膜の表面エネルイーを十分に
下げることができない為に、摩擦低減性、均質性、平滑
性が不十分であシ、上記記録材料の要求表面特性をまた
充足することができないのが現状である。
は／ＩＰ−フロロアルキレン基含有ビニル七ツマ−は、
非フツ素系成分との相溶性に劣り、エネルギー線で硬化
させて得られた硬化塗膜は、摩擦低減性、均質性、平滑
性が十分ではなく、磁気テープ又は磁気ディスクに要求
されている表面特性を満足するものではない。また一方
、フ、素系ビニルモノマートシて１．１．１．３．３．
３−へ中サフロロプロビル（メタ）クリレートの如き部
分フッ素化されたアルキル基を含むビニルモノマーを使
用し、非フツ素系成分との相溶性を上げる試みもあるが
、この様な方法では硬化塗膜の表面エネルイーを十分に
下げることができない為に、摩擦低減性、均質性、平滑
性が不十分であシ、上記記録材料の要求表面特性をまた
充足することができないのが現状である。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明者等は、上記問題点を解決すべく鋭意研究を行っ
た結果、−分子中にノ９−フロロアル中ル基を２ケある
いは３ヶ有し、そのパーフロロアルキル基とアクリロイ
ル基が、或特定の構造の２価の連結基で連結された形の
含フ、素化合物が、非フツ素系成分との相溶性が良く、
又エネルギー線の硬化後、従来の含フ、素ビニルモノマ
ーあるいは含フ、素界面活性剤よりもはるかに優れた表
面特性、即ち、摩擦低減性、均質性、平滑性、耐擦傷性
、防錆性、防湿性、耐溶剤性、撥水撥油性等を示す表面
改質剤となることを見い出し、本発明を完成するに至っ
た。
た結果、−分子中にノ９−フロロアル中ル基を２ケある
いは３ヶ有し、そのパーフロロアルキル基とアクリロイ
ル基が、或特定の構造の２価の連結基で連結された形の
含フ、素化合物が、非フツ素系成分との相溶性が良く、
又エネルギー線の硬化後、従来の含フ、素ビニルモノマ
ーあるいは含フ、素界面活性剤よりもはるかに優れた表
面特性、即ち、摩擦低減性、均質性、平滑性、耐擦傷性
、防錆性、防湿性、耐溶剤性、撥水撥油性等を示す表面
改質剤となることを見い出し、本発明を完成するに至っ
た。
本発明の目的の一つは、一般式［１）上記の如き優れた
相溶性、および表面特性を与える新規な反応性含フツ素
表面改質剤を提供することにあり、もう一つの目的は該
反応性含フツ素表面改質剤を含んでなる、エネルギー線
によって重合硬化可能な被覆組成物を提供することにあ
る。
相溶性、および表面特性を与える新規な反応性含フツ素
表面改質剤を提供することにあり、もう一つの目的は該
反応性含フツ素表面改質剤を含んでなる、エネルギー線
によって重合硬化可能な被覆組成物を提供することにあ
る。
本発明に係る新規な反応性含フツ素表面改質剤は一般式
ＣＩ） 〔式中、Ｒｆは炭素数３〜２ｏのＩや−フロロアル中ル
基であ〕、 素原子もしくは炭素数ｌ〜ｌｏのアルキル基である。）
、まタハ−（−０Ｍ２＋ｎ（但し、ｎは１〜６の整数で
ある。）であシ、 ｚ２は＋ＣＨ２＋１（但し、ｍは２〜６の整数である。
ＣＩ） 〔式中、Ｒｆは炭素数３〜２ｏのＩや−フロロアル中ル
基であ〕、 素原子もしくは炭素数ｌ〜ｌｏのアルキル基である。）
、まタハ−（−０Ｍ２＋ｎ（但し、ｎは１〜６の整数で
ある。）であシ、 ｚ２は＋ＣＨ２＋１（但し、ｍは２〜６の整数である。
）凡は水素原子、メチル基、またはハロゲン原子例えば
ＣＩ 、 Ｂｒ等であシ、 以下で、Ｘ基中に占める重量割合が３５〜６５％の間で
ある２価の連結基である。）にて表わされる２価の連結
基であり、 ｐ及びｑは、ｐ＋ｑ＝４（但し、ｐは２又は３である。
ＣＩ 、 Ｂｒ等であシ、 以下で、Ｘ基中に占める重量割合が３５〜６５％の間で
ある２価の連結基である。）にて表わされる２価の連結
基であり、 ｐ及びｑは、ｐ＋ｑ＝４（但し、ｐは２又は３である。
）を満たす整数であシ、
の連結基である。〕にて表わされる反応性含フツ素表面
改質剤である。
改質剤である。
尚一般式（１）中、２個含まれている２、は、前記中か
ら選ばれた相異なる２種の連結基であっても良い。
ら選ばれた相異なる２種の連結基であっても良い。
本発明に係る反応性含フツ素表面改質剤においテＲｆは
炭素数３〜２０の／ＩＰ−フロロアルキル基モしくはパ
ーフロロアルケニル基であシ、直鎖状、分岐状、環状ま
たはそれらを組み合わせたもののいずれでも良く、さら
に主鎖中に酸素厘子が介入したもの、例えば（ＣＦ、
）２０ＦＯＣＦ２０Ｆ２−等でも良い。
炭素数３〜２０の／ＩＰ−フロロアルキル基モしくはパ
ーフロロアルケニル基であシ、直鎖状、分岐状、環状ま
たはそれらを組み合わせたもののいずれでも良く、さら
に主鎖中に酸素厘子が介入したもの、例えば（ＣＦ、
）２０ＦＯＣＦ２０Ｆ２−等でも良い。
２価の連結基であるＸ基中のＹ基の代表的なもにＭ２−
等が挙げられる。
本発明に係る反応性含フツ素表面改質剤の具体例として
次の如きものが挙げられるが、本発明カー下記化合物に
よりで何ら限定されるものでなＸ、）ことは勿論である
・ 本発明に係る反応性含フツ素表面改質剤の製造法には特
に制限はないが。
次の如きものが挙げられるが、本発明カー下記化合物に
よりで何ら限定されるものでなＸ、）ことは勿論である
・ 本発明に係る反応性含フツ素表面改質剤の製造法には特
に制限はないが。
含７ｙ素フルｗ−ルＲ４−Ｚ、−ＯＨＣＩｌ、］水酸基
含有（メタ）アクリレート化合物ジインシアナート化合
物 ０ＣＮ−Ｙ−ＮＣＯ（ＩＶ）４価のアルコール化合
物 ｃ４．ｃａ２ｏＨ）、 。
含有（メタ）アクリレート化合物ジインシアナート化合
物 ０ＣＮ−Ｙ−ＮＣＯ（ＩＶ）４価のアルコール化合
物 ｃ４．ｃａ２ｏＨ）、 。
〔但し、Ｒ４，ｚｔ、 Ｒ，Ｚ２． Ｙは前記の通りで
ちる・〕の反応にて、収率良く簡便に製造される。
ちる・〕の反応にて、収率良く簡便に製造される。
即ち、含フツ素アルコール［１３とジイソシアナート化
合物〔■〕、そして水酸基含有（メタ）アクリレート化
合物（１１１〕とジイソシアナート化合物（ＩＶ）とを
、それぞれモル比０．９：１〜にＯ，９にて反応し。
合物〔■〕、そして水酸基含有（メタ）アクリレート化
合物（１１１〕とジイソシアナート化合物（ＩＶ）とを
、それぞれモル比０．９：１〜にＯ，９にて反応し。
＋１Ｈ
ｎｌ−ｚ、−０−ＣＮ−Ｙ−ＮＣＯＣＭ）そして
を製造する。しかる後ｋ、化合物〔■〕、〔■〕、そし
て４価のアルコール化合物［”Ｖ］とをモル比３：１
： ０．９〜３ ： １ ： １．１もしくｌｊ２ ：
２ ： ０．９〜２：２：１．ＩＫて反応し、目的と
する本発明に係る反応性含フツ素表面改質剤［１）が製
造される。
て４価のアルコール化合物［”Ｖ］とをモル比３：１
： ０．９〜３ ： １ ： １．１もしくｌｊ２ ：
２ ： ０．９〜２：２：１．ＩＫて反応し、目的と
する本発明に係る反応性含フツ素表面改質剤［１）が製
造される。
上記反応において使用され得る溶剤としては、インシア
ナート基と反応しないものであれば特に制限蝶ないが、
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、アセトニトリル。
ナート基と反応しないものであれば特に制限蝶ないが、
例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、アセトニトリル。
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド。
酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン。
ベンゾトリフ０リド等が挙げられる。
含フツ素アルコール（ＩＩ）とジインシアナート化合物
〔■〕、そして水酸基含有（メタ）アクリレート化合物
（ＩＩＩ）とジインシアナート化合物ＣＭ、ｌとの反応
は、温度θ〜１２０℃の範囲で実施され。
〔■〕、そして水酸基含有（メタ）アクリレート化合物
（ＩＩＩ）とジインシアナート化合物ＣＭ、ｌとの反応
は、温度θ〜１２０℃の範囲で実施され。
３０〜９０℃が好ましい。又化合物〔■〕、〔■〕と４
価のアルコール化合物〔ｖ〕との反応は、温度０〜ｚ
ｓｏｃで実施され、３０〜１００Ｃが好ましい。
価のアルコール化合物〔ｖ〕との反応は、温度０〜ｚ
ｓｏｃで実施され、３０〜１００Ｃが好ましい。
上記製造方法では、４価のアルコール化合物ＣＶＩに、
１ケの化合物（Ｖｌ）と３ケの化合物（■）が付加した
ものや、さらには４ケの、化合物〔■〕が付加したもの
も副生ずるが、これらが化合物（１）に混入していても
本発明に言う表面特性に大きな悪影響は及ぼさない。必
要であれば、ダル浸透クロマトグラフィーで分散するこ
とにより精製すれば良い。
１ケの化合物（Ｖｌ）と３ケの化合物（■）が付加した
ものや、さらには４ケの、化合物〔■〕が付加したもの
も副生ずるが、これらが化合物（１）に混入していても
本発明に言う表面特性に大きな悪影響は及ぼさない。必
要であれば、ダル浸透クロマトグラフィーで分散するこ
とにより精製すれば良い。
尚、含フツ素アルコール〔■〕、水酸基含有（メタ）ア
クリレート化合物［ＩＩ［）、ジイソシアナート化合物
〔■〕、そして４価のアルコール〔ｖ〕は市販品を購入
することが可能である。
クリレート化合物［ＩＩ［）、ジイソシアナート化合物
〔■〕、そして４価のアルコール〔ｖ〕は市販品を購入
することが可能である。
本発明に係る反応性含フツＸ表面改質剤は、単独、もし
くは後で述べる光重合開始剤の）と共に被覆組成物とし
て使用することは出来るが、経済性。
くは後で述べる光重合開始剤の）と共に被覆組成物とし
て使用することは出来るが、経済性。
また技術的な面からは各徨素材に対する被覆膜の密着性
等の観点から、非フッ素系成分、即ち以下に称する炭化
水素系アクリレート（９）、（Ｃ）と併用することが好
ましい。
等の観点から、非フッ素系成分、即ち以下に称する炭化
水素系アクリレート（９）、（Ｃ）と併用することが好
ましい。
本発明に称する炭化水素系アクリレート（至））、（Ｑ
としては、アクリロイル基を１個あるいは２個有するも
のであシ当業界で公知のもの（例えば加藤清視、中原正
二著ｒＵＶ硬化技術入門」高分子刊行会、以下１９８４
．１”以下底置という〕の中の。
としては、アクリロイル基を１個あるいは２個有するも
のであシ当業界で公知のもの（例えば加藤清視、中原正
二著ｒＵＶ硬化技術入門」高分子刊行会、以下１９８４
．１”以下底置という〕の中の。
３４．３５頁の表１０．４６〜４８頁の表１６゜５７頁
の表２０．１７０〜１７２頁の表６０等に記載の化合物
）から適宜選択することができ１例えば以下のΦ）及び
（Ｑの如きものである。
の表２０．１７０〜１７２頁の表６０等に記載の化合物
）から適宜選択することができ１例えば以下のΦ）及び
（Ｑの如きものである。
アクリロイル基を１個含有する化合物（ｍＢ−Ｉ ＣＨ
２＝Ｃ（Ｂ、）α）ＯＲ４（Ｒ４は炭素数１〜２０のア
ルキル基）Ｂ−２ＣＨ２＝ＣＣＲ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ
２０ＨＢ−７ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２０
Ｐ（ＯＨ）２Ｂ−８ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ，）ＣＨ２ＣＨ２Ｃ
Ｈ−ＣＨ２（但し、Ｒ３は−Ｈ又は−ＣＨ３である。）
等である。
２＝Ｃ（Ｂ、）α）ＯＲ４（Ｒ４は炭素数１〜２０のア
ルキル基）Ｂ−２ＣＨ２＝ＣＣＲ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ
２０ＨＢ−７ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２０
Ｐ（ＯＨ）２Ｂ−８ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ，）ＣＨ２ＣＨ２Ｃ
Ｈ−ＣＨ２（但し、Ｒ３は−Ｈ又は−ＣＨ３である。）
等である。
アクリロイル基を２個以上含有 る化合物（ＯＣ−１ｃ
Ｈ２＝Ｃ（Ｒ３）Ｃ００＋ＣＨ２＋ｎｏｏｃＣ（Ｒ３）
＝ＣＨ２（ｎは１〜１０の整数） Ｃ−２ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ，）Ｃｏｏ−ＥＨ２ＣＨ２０＋、
Ｃ０Ｃ（Ｒ，）＝ＣＨ２（＋１は１〜１０の整数） ＯＨ Ｃ−４ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨＣＨｚＯＣ
ＯＣ（Ｒ３）＝”２１Ｊ
リＣ−１２（ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ３）ＣＯＯＣ
Ｈ２ＣＨ２０ｑＰ−ＯＨＣ−１３（ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ，）
ＣＯＯＣＨ２＋ＴｃｃＨ２０ＨＣ−１４（ＣＨ２＝Ｃ（
Ｒ３）ＣＯＯＣＨ２＋ＴｃｃＨ２ＣＨ３Ｃ−１５（ＣＨ
２＝Ｃ（Ｒ３）Ｑ）ＯＣＲ，ＣＨ，ｏ＋ｒＰ＝。
Ｈ２＝Ｃ（Ｒ３）Ｃ００＋ＣＨ２＋ｎｏｏｃＣ（Ｒ３）
＝ＣＨ２（ｎは１〜１０の整数） Ｃ−２ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ，）Ｃｏｏ−ＥＨ２ＣＨ２０＋、
Ｃ０Ｃ（Ｒ，）＝ＣＨ２（＋１は１〜１０の整数） ＯＨ Ｃ−４ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨＣＨｚＯＣ
ＯＣ（Ｒ３）＝”２１Ｊ
リＣ−１２（ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ３）ＣＯＯＣ
Ｈ２ＣＨ２０ｑＰ−ＯＨＣ−１３（ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ，）
ＣＯＯＣＨ２＋ＴｃｃＨ２０ＨＣ−１４（ＣＨ２＝Ｃ（
Ｒ３）ＣＯＯＣＨ２＋ＴｃｃＨ２ＣＨ３Ｃ−１５（ＣＨ
２＝Ｃ（Ｒ３）Ｑ）ＯＣＲ，ＣＨ，ｏ＋ｒＰ＝。
Ｃ−１７（ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ，）ＣＯＯＣＨ２すＣ（但し
、Ｒ３は−Ｈ又は−址、である。）等である。
、Ｒ３は−Ｈ又は−址、である。）等である。
本発明に係る反応性含フツ素表面改質剤■と炭化水素系
アクリレート（Ｂ） 、 （Ｃ’）とからなる被膜組成
物において、（４）と（Ｂ） ＋ （Ｃ’）との混合割
合に特に制限はないが、経済性、そして得られた被覆膜
の平滑性、均質性等の点から、重量比で２：１〜１：１
００００が好ましく、１：１〜１ ： ５０００がより
好ましい。
アクリレート（Ｂ） 、 （Ｃ’）とからなる被膜組成
物において、（４）と（Ｂ） ＋ （Ｃ’）との混合割
合に特に制限はないが、経済性、そして得られた被覆膜
の平滑性、均質性等の点から、重量比で２：１〜１：１
００００が好ましく、１：１〜１ ： ５０００がより
好ましい。
上記被膜組成物に対して、当業界公知の所謂光重合開始
剤（例えば前記放置、６２頁の表２２．７１頁の表２７
等に記載の化合物）、即ち例えば。
剤（例えば前記放置、６２頁の表２２．７１頁の表２７
等に記載の化合物）、即ち例えば。
Ｄ−１：ペンゾフェノン、Ｄ−２：アセトフェノン、Ｄ
−３：ペンゾイン、Ｄ−４：ベンゾインエチルエーテル
、Ｄ−５ニーｔンゾインイソデチルエーテル、Ｄ−６：
ペンジルメチルケタール、Ｄ−７：アゾビスイソブチロ
ニトリル、Ｄ−８：１−ヒドロキシシクロへキシルフェ
ニルケトン、Ｄ−９：２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−７エニルー１−オン等及び光増感剤（例えば前記放置
、７２頁の表２８．７３頁の表２９に記載の化合物）、
溶剤、そして各種添加剤を加えることができる。
−３：ペンゾイン、Ｄ−４：ベンゾインエチルエーテル
、Ｄ−５ニーｔンゾインイソデチルエーテル、Ｄ−６：
ペンジルメチルケタール、Ｄ−７：アゾビスイソブチロ
ニトリル、Ｄ−８：１−ヒドロキシシクロへキシルフェ
ニルケトン、Ｄ−９：２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−７エニルー１−オン等及び光増感剤（例えば前記放置
、７２頁の表２８．７３頁の表２９に記載の化合物）、
溶剤、そして各種添加剤を加えることができる。
溶剤トしては、アクリレートモノマーの反応性に悪影響
を及ぼさなければ特に制限はないが、メタノール、エタ
ノール、イングロビルアルコール、アセトン、メチルエ
チルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、クロロホルム、
ジクロルエタン、四塩化炭素、１−７０ｏ−１−フクロ
ロー２−ゾフロロー２−クロロエタン系の低沸点溶剤が
好ましい。
を及ぼさなければ特に制限はないが、メタノール、エタ
ノール、イングロビルアルコール、アセトン、メチルエ
チルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、クロロホルム、
ジクロルエタン、四塩化炭素、１−７０ｏ−１−フクロ
ロー２−ゾフロロー２−クロロエタン系の低沸点溶剤が
好ましい。
添加剤としては、レベリング剤、消泡剤等が挙げられる
。
。
本発明に係る被膜形成を紫外線によって冥施する場合、
反応性含フツ素表面改質剤（４）及び炭化水素系アクリ
レ−） （Ｂ） 、 （Ｃ）としてはα炭素非置換（即
ち、前記一般式及び具体的化合物においてＲ１Ｒ５共水
素原子のもの）のものが好ましい・本発明に係る被膜組
成物を基材に塗布する方法としては、前記の如き当業界
公知の種々の方法を用いることができ、基材の材質、形
状又は用途等に応じて適宜使い分けることが望ましい。
反応性含フツ素表面改質剤（４）及び炭化水素系アクリ
レ−） （Ｂ） 、 （Ｃ）としてはα炭素非置換（即
ち、前記一般式及び具体的化合物においてＲ１Ｒ５共水
素原子のもの）のものが好ましい・本発明に係る被膜組
成物を基材に塗布する方法としては、前記の如き当業界
公知の種々の方法を用いることができ、基材の材質、形
状又は用途等に応じて適宜使い分けることが望ましい。
該組成物の適用形態としては、該組成物をそのまま塗布
に供することもでき、又粘度が高過ぎる場合や膜厚の制
御の場合等においては、該組成物を溶剤に溶解させた溶
液として適用することができる。この溶液の場合には、
紫外線又は電子線の照射の前に、常温、又は必要に応じ
て加熱や減圧により脱溶剤させる工程が必要となる。溶
剤を加熱除去する場合、モノマー等の加熱重合を来たさ
ないために８０℃以下で実施するのが好ましい。
に供することもでき、又粘度が高過ぎる場合や膜厚の制
御の場合等においては、該組成物を溶剤に溶解させた溶
液として適用することができる。この溶液の場合には、
紫外線又は電子線の照射の前に、常温、又は必要に応じ
て加熱や減圧により脱溶剤させる工程が必要となる。溶
剤を加熱除去する場合、モノマー等の加熱重合を来たさ
ないために８０℃以下で実施するのが好ましい。
本発明に係る含フ、素保護被膜は、上記方法によって基
材上く形成された塗布層に、当業界公知の、殺菌灯、紫
外用螢光灯、カーぎンアーク、キセノンランプ、複写用
高圧水銀灯、中圧又は高圧水銀灯、超高圧水銀灯、無電
極ラング、メタルハライドランプ、自然光等を光源とす
る紫外線、又は走査型、カーテン型電子線加速路による
電子線を照射することによって形成される。厚みが５μ
ｍ以下の塗布層の紫外線硬化の場合、重合の効率化の点
で、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で照射することが
好ましい。
材上く形成された塗布層に、当業界公知の、殺菌灯、紫
外用螢光灯、カーぎンアーク、キセノンランプ、複写用
高圧水銀灯、中圧又は高圧水銀灯、超高圧水銀灯、無電
極ラング、メタルハライドランプ、自然光等を光源とす
る紫外線、又は走査型、カーテン型電子線加速路による
電子線を照射することによって形成される。厚みが５μ
ｍ以下の塗布層の紫外線硬化の場合、重合の効率化の点
で、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で照射することが
好ましい。
く作用〉
前述の如く、非フツ素系成分に含７．素ビニルモノマー
を添加し、硬化塗膜の表面特性を向上させようとする提
案はある。しかしながら、本発明者等の知見によれば、
従来から提案されてきたパーフロロアルキル基又はノｆ
−フロロアルキレン基含有ビニルモノマーは、非フツ素
系成分との相溶性不良から相分離を惹起し、塗膜の均質
性を著しく損うために、十分な摩擦低減性、防錆性、耐
擦傷性等を発揮しない。また一方、フッ素系ビニルモノ
マーとして部分フツ素化アルキル基を含有するものを使
用し、相溶性を向上させ比例もあるが、この様な系では
フ、素化アルキル基の表面移行性が悪いために、十分な
表面特性を発揮しないのが実状である。
を添加し、硬化塗膜の表面特性を向上させようとする提
案はある。しかしながら、本発明者等の知見によれば、
従来から提案されてきたパーフロロアルキル基又はノｆ
−フロロアルキレン基含有ビニルモノマーは、非フツ素
系成分との相溶性不良から相分離を惹起し、塗膜の均質
性を著しく損うために、十分な摩擦低減性、防錆性、耐
擦傷性等を発揮しない。また一方、フッ素系ビニルモノ
マーとして部分フツ素化アルキル基を含有するものを使
用し、相溶性を向上させ比例もあるが、この様な系では
フ、素化アルキル基の表面移行性が悪いために、十分な
表面特性を発揮しないのが実状である。
これに対し、本発明に係る反応性含フツ素表面改質剤は
、適度な親油性基を有する為に非フツ素系成分との相溶
性を低下させず、又−分子中にパーフロロアルキル基を
２ケないし３ケ含有する為に表面移行性を損っていない
と考えられる。この為に塗膜表面に、ミクロ的に緻密な
ノ４−フロロアルキル基の集合体が形成され、均質でか
つ摩擦低減性、平滑性、耐擦傷性、防＃ｉＩ性、防湿性
、耐溶剤性、撥水撥油性等く優れ九表面が得られるもの
と推定される。尚、以上の推擦は本発明を理解する上で
の一助とするものであり、これによって本発明が何ら限
定されるものでないことは勿論である。
、適度な親油性基を有する為に非フツ素系成分との相溶
性を低下させず、又−分子中にパーフロロアルキル基を
２ケないし３ケ含有する為に表面移行性を損っていない
と考えられる。この為に塗膜表面に、ミクロ的に緻密な
ノ４−フロロアルキル基の集合体が形成され、均質でか
つ摩擦低減性、平滑性、耐擦傷性、防＃ｉＩ性、防湿性
、耐溶剤性、撥水撥油性等く優れ九表面が得られるもの
と推定される。尚、以上の推擦は本発明を理解する上で
の一助とするものであり、これによって本発明が何ら限
定されるものでないことは勿論である。
〈発明の効果〉
本発明く係る反応性含フツ素表面改質剤は、エネルギー
線重合硬化型組成物の一成分としてだけでなく、ビニル
基の反応性を利用して、熱硬化型樹脂の七ツマ−１又は
通常の溶液重合のモノマーとしても使用できる。
線重合硬化型組成物の一成分としてだけでなく、ビニル
基の反応性を利用して、熱硬化型樹脂の七ツマ−１又は
通常の溶液重合のモノマーとしても使用できる。
本発明に係る被膜組成物は、前述の如く各種の固体表面
の保護被覆層として例えば防湿防錆剤、防汚剤、潤滑剤
、減摩剤、剥離剤、離型剤、電子部品郷の封止剤等とし
て使用できるが被膜の薄さと平滑性を生かして特に、記
録材料分野における磁気記録製品の磁性層の被覆に好適
に用いられる。
の保護被覆層として例えば防湿防錆剤、防汚剤、潤滑剤
、減摩剤、剥離剤、離型剤、電子部品郷の封止剤等とし
て使用できるが被膜の薄さと平滑性を生かして特に、記
録材料分野における磁気記録製品の磁性層の被覆に好適
に用いられる。
例えば、銅、アルミニウム、亜鉛などの非ミ性金属やポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−す
７タレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等の４
リオレフイン類、セルロースアセテート等のセルロース
誘導体ポリカーゴネート等のプラスチ、りや、更に、場
合によりガラス、紙、木材、繊維、磁器及び陶器のよう
なセラミ。
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−す
７タレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等の４
リオレフイン類、セルロースアセテート等のセルロース
誘導体ポリカーゴネート等のプラスチ、りや、更に、場
合によりガラス、紙、木材、繊維、磁器及び陶器のよう
なセラミ。
ジス上に蒸着され九強磁性合金（鉄、ｂパルト及び／又
は二、ケルを主成分とし、少量のアルミニウム、シリコ
ン、クロム、マンガン、モリブデン、チタン、各種重金
属類、希土類金属等を含むもの）または微量酸素存在下
で、鉄、コバルト、クロム等の磁性材料をポリエステル
等のグラスチックフィルムに蒸着した磁気テープ、また
は磁気ディスクの磁性層等の保護被覆や、減摩性が特に
要求される、磁気チーブの背面処理剤としても好適であ
る。また本発明の被覆組成物に、磁性粉を分散させるこ
とにより平滑性、減摩性、そして防錆性等を兼備えたエ
ネルゼー線硬化型の磁気バインダーを得ることができる
。
は二、ケルを主成分とし、少量のアルミニウム、シリコ
ン、クロム、マンガン、モリブデン、チタン、各種重金
属類、希土類金属等を含むもの）または微量酸素存在下
で、鉄、コバルト、クロム等の磁性材料をポリエステル
等のグラスチックフィルムに蒸着した磁気テープ、また
は磁気ディスクの磁性層等の保護被覆や、減摩性が特に
要求される、磁気チーブの背面処理剤としても好適であ
る。また本発明の被覆組成物に、磁性粉を分散させるこ
とにより平滑性、減摩性、そして防錆性等を兼備えたエ
ネルゼー線硬化型の磁気バインダーを得ることができる
。
一方、本発明の被膜組成物は、ガラス表面上にも透明で
平清な薄い被膜を形成できるので、各種光学機器の油汚
れ防止剤などとして耐油性と耐抜き取り性を必要とする
用途にも使用することができる。
平清な薄い被膜を形成できるので、各種光学機器の油汚
れ防止剤などとして耐油性と耐抜き取り性を必要とする
用途にも使用することができる。
更に又、防湿性等が特に要求される光ファイバー及び光
７アイバーケーブルの保護被覆剤としても好適である。
７アイバーケーブルの保護被覆剤としても好適である。
また本発明の被膜組成物が耐擦傷性に優れた被膜を形成
できるので、各種成形品又はフィルム、シート等のノ・
−ドコート剤としても使用できる。
できるので、各種成形品又はフィルム、シート等のノ・
−ドコート剤としても使用できる。
さらに又、本発明の組成物に顔料及び分散剤を混入し、
防汚性又は非粘着性に優れた塗料又はインキを形成でき
る。
防汚性又は非粘着性に優れた塗料又はインキを形成でき
る。
次に、本発明の具体的な実施例について説明するが、斯
かる説明によって本発明が何ら限定されるものでないこ
とは勿論である。文中「部」「チ」は重量基準であるも
のとする・ ５００ＷＬｌの４つ口先底フラスコ＜、含フッ素アＨ ルコールＣ，Ｆ、、Ｓｏ□ＮＣＨ２ＣＨ２０Ｈ８７，７
Ｎ （０，１５モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート５．８ｙ（ｏ、ｏｓモル）、ハイドロキノン０．２
ｇ、２．４−トリレンジイソシアナー）３４．８．９（
０，２０そル）、そしてテトラヒドロ７ラン１００．！
１ｒｔ−秤取し、窒素雰囲気下６４℃で４時間反応した
。系内の温度ｔ−４０℃に下げた後、 Ｎ、Ｎ、Ｎ’、
Ｎ’−テトラ（２−ヒドロプロピル）エチレンジアミン
１４．６．９（０，０５モル）を加え、再び６４℃で６
時間反応した。滴定によりインシアナート基の消滅を確
認した後、テトラヒドロフランを減圧下で留去すること
により、淡黄色ペースト状粗生成物１２８．５ＩＩｔ−
得た。本粗生成物をそのまま被覆剤に供することができ
るが、必要であれば以下の様にして精製できる。
かる説明によって本発明が何ら限定されるものでないこ
とは勿論である。文中「部」「チ」は重量基準であるも
のとする・ ５００ＷＬｌの４つ口先底フラスコ＜、含フッ素アＨ ルコールＣ，Ｆ、、Ｓｏ□ＮＣＨ２ＣＨ２０Ｈ８７，７
Ｎ （０，１５モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート５．８ｙ（ｏ、ｏｓモル）、ハイドロキノン０．２
ｇ、２．４−トリレンジイソシアナー）３４．８．９（
０，２０そル）、そしてテトラヒドロ７ラン１００．！
１ｒｔ−秤取し、窒素雰囲気下６４℃で４時間反応した
。系内の温度ｔ−４０℃に下げた後、 Ｎ、Ｎ、Ｎ’、
Ｎ’−テトラ（２−ヒドロプロピル）エチレンジアミン
１４．６．９（０，０５モル）を加え、再び６４℃で６
時間反応した。滴定によりインシアナート基の消滅を確
認した後、テトラヒドロフランを減圧下で留去すること
により、淡黄色ペースト状粗生成物１２８．５ＩＩｔ−
得た。本粗生成物をそのまま被覆剤に供することができ
るが、必要であれば以下の様にして精製できる。
上記粗生成物のテトラヒドロフラン溶液ｔ ＧＰＣ（カ
ラム：日立製ｒ ’ｌ’ Ａ／ コＧＬ−Ａ １３０．
８ｍφＸ ５００ ｍ 。
ラム：日立製ｒ ’ｌ’ Ａ／ コＧＬ−Ａ １３０．
８ｍφＸ ５００ ｍ 。
溶離液：テトラヒドロフラン、検出：紫外吸収針。
２５４ｎｍ）Ｋかけたところ、主ピークの前後に数本の
小さなピークが得られた。全ピーク面積に対する主ピー
ク面積の割合は６９ｍであった。
小さなピークが得られた。全ピーク面積に対する主ピー
ク面積の割合は６９ｍであった。
主ピークを分取し、’ Ｈ−ＮＭＲ測定、 ＩＲ測測定
そして元素分析（表−１参照）ｔ−行ったところ、目的
とする反応性含フツ素表面改質剤であることが確認でき
た。
そして元素分析（表−１参照）ｔ−行ったところ、目的
とする反応性含フツ素表面改質剤であることが確認でき
た。
合成例１の精）物の元素分析
（Ａ−２）
ＣＨＮ Ｆ
分析値（イ） ３９．９ ３．４ ６゜６ ３３．９
計算値（イ） ３９．５ ３．５ ６．４ ３３．９合
成例１の含フツ素アルコールと２．４− ） ＋７レン
ジイソシアナートをそれぞれ、Ｃ８Ｆ、 、ＣＨ２ＣＨ
２０Ｈ６９，６，９（０，１５モル）＋ｍ−フェニレン
ジイソシアナート３２．０ＩＩ（０，２０モル）に置き
換え同様にして反応を行い精製した。粗生成物の収量は
１２１．３Ｎであり、ＧＰＣによる主ピークの面積の割
合は６７．８ ％であった。主ピークを分取し、’Ｈ−
ＮＭＲ測定、 ＩＲ測測定そして元素分析を行ったとこ
ろ、目的とする化合物であることが確認できたＯ 合成例２０元素分析 ＨＮＦ 分析値（４） ４０．０ ３．０ ５．５ ３９．６計
算値（４） ３９．８ ２．９ ５．７ ３９．７〈実
施例〉 鋼板（ＪＩＳ Ｇ３１４１ ）またはアルミ板（ＪＩ８
Ｈ４０００’） Ｋ表−１に示した本発明の被膜組成物
を塗布し、溶剤を室温で蒸散させた後、塗布層を紫外線
または電子線によって下記の条件下で硬化させ、被覆膜
の緒特性について検討した。結果ｔ−表−１に示す。
計算値（イ） ３９．５ ３．５ ６．４ ３３．９合
成例１の含フツ素アルコールと２．４− ） ＋７レン
ジイソシアナートをそれぞれ、Ｃ８Ｆ、 、ＣＨ２ＣＨ
２０Ｈ６９，６，９（０，１５モル）＋ｍ−フェニレン
ジイソシアナート３２．０ＩＩ（０，２０モル）に置き
換え同様にして反応を行い精製した。粗生成物の収量は
１２１．３Ｎであり、ＧＰＣによる主ピークの面積の割
合は６７．８ ％であった。主ピークを分取し、’Ｈ−
ＮＭＲ測定、 ＩＲ測測定そして元素分析を行ったとこ
ろ、目的とする化合物であることが確認できたＯ 合成例２０元素分析 ＨＮＦ 分析値（４） ４０．０ ３．０ ５．５ ３９．６計
算値（４） ３９．８ ２．９ ５．７ ３９．７〈実
施例〉 鋼板（ＪＩＳ Ｇ３１４１ ）またはアルミ板（ＪＩ８
Ｈ４０００’） Ｋ表−１に示した本発明の被膜組成物
を塗布し、溶剤を室温で蒸散させた後、塗布層を紫外線
または電子線によって下記の条件下で硬化させ、被覆膜
の緒特性について検討した。結果ｔ−表−１に示す。
装 置；紫外線による硬化は、高圧水銀灯（８０ｖ／Ｉ
Ｍ１）を使用し、照射距離１０口、照射時間６０秒、窒
素雰囲気下、３３℃で実施した。また電子線による硬化
は、カーテン型電子線加速器（２ｏ ｏ ｋｖ ）を使
用し、線量１０ Ｍｒａｄで行った。
Ｍ１）を使用し、照射距離１０口、照射時間６０秒、窒
素雰囲気下、３３℃で実施した。また電子線による硬化
は、カーテン型電子線加速器（２ｏ ｏ ｋｖ ）を使
用し、線量１０ Ｍｒａｄで行った。
塗装方法；本発明に係る反応性含フッ素表面改質剤■、
炭化水素系アクリレ−） ０３） 、 （Ｃ） 、そし
て光重合開始剤■）から成る組゛成物を酢酸エチルによ
って５％に希釈し、バーコーターにて塗布し、不揮発分
が０．５μｍの塗布層を形成した。
炭化水素系アクリレ−） ０３） 、 （Ｃ） 、そし
て光重合開始剤■）から成る組゛成物を酢酸エチルによ
って５％に希釈し、バーコーターにて塗布し、不揮発分
が０．５μｍの塗布層を形成した。
表面平滑性；表面塗膜の平滑性は、倍率１６０倍の光学
顕微鏡で塗膜表面のプツ等の有無を観察し、５段階（５
：全くブツがない、４：緑にほんの僅かブツあり、３：
表面にほんの僅かプツあり、２：表面に僅かにプッがあ
る、１：全てにブッがある数値が大きい糧良好）で評価
した。
顕微鏡で塗膜表面のプツ等の有無を観察し、５段階（５
：全くブツがない、４：緑にほんの僅かブツあり、３：
表面にほんの僅かプツあり、２：表面に僅かにプッがあ
る、１：全てにブッがある数値が大きい糧良好）で評価
した。
表面乾燥性；
指触による
◎印 ペタ付きが全くない
Ｏ印 ペタ付きが若干感じられる
Δ印 ベタ付きが少しある
×印 ベタ付きがある
表面硬度： ＪＩＳ ５４００の方法に基づいて実施し
た。
た。
接触角；接触角は、ｎ−ドデカン又は水ｔ−６μ！測定
表面に滴下し、エルマ裏デ二オメータ一式接触角測定器
を用い、２５℃にて測定した。
表面に滴下し、エルマ裏デ二オメータ一式接触角測定器
を用い、２５℃にて測定した。
防錆性；試験片を２０チ塩化ナトリウム水溶液に浸漬し
、塗膜に錆が発生するまでの時間を観察し、５段階（５
：２００時間以上、４：１５０〜２００時間、３：１０
０〜１５０時間、２：５０〜１００時間、１：０〜５０
時間）で評価した。
、塗膜に錆が発生するまでの時間を観察し、５段階（５
：２００時間以上、４：１５０〜２００時間、３：１０
０〜１５０時間、２：５０〜１００時間、１：０〜５０
時間）で評価した。
１ｃｒｎ角を１■間かくで縦と横にカッターで切り１０
０個のマス目をつくり、セロテープ（覆水化学Ｓ−８３
２）を密着させて、−気にはがし、残りたマス目の数を
表わした。
０個のマス目をつくり、セロテープ（覆水化学Ｓ−８３
２）を密着させて、−気にはがし、残りたマス目の数を
表わした。
尚、実施例及び比較例Ａの欄の石表示は紫外線硬化によ
る重合体被膜の形成全示し、ＥＢ表示は電子線硬化のそ
れを示す。また表中のＡ、Ｂ、Ｃ。
る重合体被膜の形成全示し、ＥＢ表示は電子線硬化のそ
れを示す。また表中のＡ、Ｂ、Ｃ。
Ｄは、本文中の化合物をそれぞれ表わしている。
実施例１５〜２１
次に４リエステルフイルムに１表−ＩＫ示す実施例１〜
】４と同じ組成で被覆膜を形成し、その表面平滑性、表
面乾燥性、ｎ−ドデカンの接触角及び転落角、そして摩
擦抵抗低減性を検討した。
】４と同じ組成で被覆膜を形成し、その表面平滑性、表
面乾燥性、ｎ−ドデカンの接触角及び転落角、そして摩
擦抵抗低減性を検討した。
その結果を表−２に示す。
尚、動摩擦係数の測定は、米国材料試験協会規格Ｄ−１
８９４に準じた方法により、東洋が一ルドウィン社製摩
擦試験治具を使用して行った（鍾重量：２３６．Ｌ引張
強度： １００ ｍ／ｗｉｎ ）。
８９４に準じた方法により、東洋が一ルドウィン社製摩
擦試験治具を使用して行った（鍾重量：２３６．Ｌ引張
強度： １００ ｍ／ｗｉｎ ）。
１１１騎は」Ｊ
次に、下記組成の被覆組成物を／ ＋７エステルフイル
ムに！！１布し、′紫外線による硬化後、耐溶剤安定性
について調べ、結果を表−３に示した。
ムに！！１布し、′紫外線による硬化後、耐溶剤安定性
について調べ、結果を表−３に示した。
溶剤はアセトンであり、塗工したフィルムをアセトンに
１時間浸漬した後引き上げ、塗膜の状態を３段階で表示
した。
１時間浸漬した後引き上げ、塗膜の状態を３段階で表示
した。
塗工膜厚：１５μｍ
被覆組成物の組成：
表−３
実施例２７
合成例１で合成されたＡ−２の粗生成物、精展反応性含
フッ素霧面改質剤（主ピーク）、そして主ピークが分取
された残りの成分それぞれ１０．０部を、Ｃ−８（Ｒ，
＝Ｈ） ４０．０部、Ｃ−１３（Ｒ，＝Ｈ） ４０．０
部、Ｂ −７（Ｒ３＝Ｈ） ７．０部、Ｄ−８３，０部
に配合し実施例２と同様にして組成物を作り、鋼板に塗
布しＵＶ硬化した。粗生成物を配合した場合、主ピーク
を配合した場合とほぼ同様の表面特性が得られたが、主
ピークが分取された残りの成分を配合したときには、表
面特性が著しく劣りていた。
フッ素霧面改質剤（主ピーク）、そして主ピークが分取
された残りの成分それぞれ１０．０部を、Ｃ−８（Ｒ，
＝Ｈ） ４０．０部、Ｃ−１３（Ｒ，＝Ｈ） ４０．０
部、Ｂ −７（Ｒ３＝Ｈ） ７．０部、Ｄ−８３，０部
に配合し実施例２と同様にして組成物を作り、鋼板に塗
布しＵＶ硬化した。粗生成物を配合した場合、主ピーク
を配合した場合とほぼ同様の表面特性が得られたが、主
ピークが分取された残りの成分を配合したときには、表
面特性が著しく劣りていた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 〔式中、Ｒ＿ｆは炭素数３〜２０のパーフロロアルキル
基であり、 Ｚ＿１は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼（但し、Ｒ＿１ は水素原子もしくは炭素数１〜１０のアルキル基である
。）、または−（ＣＨ＿２）−＿ｎ（但し、ｎは１〜６
の整数である。）であり） Ｚ＿２は−（ＣＨ＿２）−＿ｍ（但し、ｍは２〜６の整
数である。）または−ＣＨ＿２ＣＨ−であり、 Ｒは水素原子、メチル基、またはハロゲン原子であり、 Ｘは▲数式、化学式、表等があります▼（但し、Ｙは炭
素数が１５ 以下で、Ｘ基中に占める重量割合が３５〜６５％の間で
ある２価の連結基である。）にて表わされる２価の連結
基であり、 ｐ及びｑは、ｐ＋ｑ＝４（但し、ｐは２又は３である。 ）を満たす整数であり、 Ａは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は、または ▲数式、化学式、表等があります▼にて表わされる４価
の 連結基である。〕にて表わされる反応性含フッ素表面改
質剤。 ２、一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 〔式中、Ｒ＿ｆは炭素数３〜２０のパーフロロアルキル
基であり、 Ｚ＿１は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼（但し、Ｒ＿１は水素原子も
しくは炭素数１〜１０のアルキル基である。）、または
−（ＣＨ＿２）−＿ｎ（但し、ｎは１〜６の整数である
。）であり、 Ｚ＿２は−（ＣＨ＿２）−＿ｍ（但し、ｍは２〜６の整
数である。）または▲数式、化学式、表等があります▼
であり、 Ｒは水素原子、メチル基、またはハロゲン原子であり、 Ｘは▲数式、化学式、表等があります▼（但し、Ｙは炭
素数が１５ 以下で、Ｘ基中に占める重量割合が３５〜６５％の間で
ある２価の連結基である。）にて表わされる２価の連結
基であり、 ｐ及びｑは、ｐ＋ｑ＝４（但し、ｐは２又は３である。 ）を満たす整数であり、 Ａは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、または ▲数式、化学式、表等があります▼にて表わされる４価
の 連結基である。〕にて表わされる反応性含フッ素表面改
質剤を含有することを特徴とする、エネルギー線によっ
て重合可能な被覆組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23845884A JPH066678B2 (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 被覆組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23845884A JPH066678B2 (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 被覆組成物 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14754893A Division JPH089587B2 (ja) | 1993-06-18 | 1993-06-18 | 含フッ素単量体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61118467A true JPS61118467A (ja) | 1986-06-05 |
| JPH066678B2 JPH066678B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=17030523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23845884A Expired - Lifetime JPH066678B2 (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 被覆組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH066678B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004044062A1 (ja) * | 2002-11-13 | 2004-05-27 | Asahi Glass Company, Limited | 活性エネルギー線硬化型被覆用組成物および該組成物の硬化物からなる被膜を有する成形品 |
| CN100368486C (zh) * | 2002-11-13 | 2008-02-13 | 旭硝子株式会社 | 活化能量射线固化型覆盖用组合物以及有该组合物的固化物涂膜厚的成形品 |
| WO2010038795A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
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1984
- 1984-11-14 JP JP23845884A patent/JPH066678B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JPH066678B2 (ja) | 1994-01-26 |
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