JP5463024B2 - 芳香環含有モノマー組成物及びこれに基くポリマー - Google Patents
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Description
1.式(1),
2.該モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物を合計で60〜100重量%の割合で含んでなるものである,上記1の組成物。
3.該モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の合計含量に対し,トリベンジルフェノキシ化合物が20重量%以上の比率で含まれるものである,上記1又は2の組成物。
4.該モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の合計含量に対し,モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の比率が,それぞれ,0〜60重量%,20〜75重量%,及び20〜75重量%の範囲に入るものである上記1ないし3の何れかの組成物。
5.ジメチルシリコーンを固定相とするカラム及び水素炎イオン化検出器(FID:Flame Ionization Detector)を用いたガスクロマトグラフィーにより測定したとき,ガスクロマトグラム上における該モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物に対応するピークの合計面積に対して,モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の各々に対応するピークの面積の割合が,それぞれ,0〜40%,30〜65%,及び30〜65%の範囲に入るものである,上記1ないし3の何れかの組成物。
6.モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の合計含量が,該組成物の60〜100重量%を占めるものである,上記1ないし5の何れかの組成物。
7.式2,
8.該重合性二重結合基が,炭素−炭素二重結合である,上記7の製造方法。
9.該官能基が,酸クロライド基〔−COCl〕,イソシアネート基〔−NCO〕,又はビニル性クロル基である,上記7又は8の方法。
10.該モノマー化合物が,(メタ)アクリル酸クロライド,(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート及び塩化ビニルよりなる群より選ばれるものである,上記7ないし8の何れかの製造方法。
11.該ベンジルフェノール組成物中に含まれるモノ−,ジ−及びトリベンジルフェノールの合計含量に対し,トリベンジルフェノールが20重量%以上の比率で含まれるものである,上記7ないし10の何れかの製造方法。
12.該混合物中に含まれるモノ−,ジ−及びトリベンジルフェノールの全量に対し,モノ−,ジ−及びトリベンジルフェノールが,それぞれ,0〜60重量%,20〜75重量%,20〜75重量%の範囲に入るものである,上記7ないし11の何れかの製造方法。
13.ジメチルシリコーンを固定相とするカラム及び水素炎イオン化検出器(FID:Flame Ionization Detector)を用いたガスクロマトグラフィーにより測定したとき,該混合物が,ガスクロマトグラム上における該モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノールに対応するピークの合計面積に対して,モノ−,ジ−及びトリベンジルフェノールの各々に対応するピークの面積の割合が,それぞれ,0〜40%,30〜65%,及び30〜65%の範囲に入るものである,上記7ないし12の何れかの製造方法。
14.該芳香環含有モノマー組成物におけるモノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の合計含量が,60〜100重量%を占めるものである,上記7ないし13の何れかの製造方法。
15.上記7ないし14の何れかの製造方法により製造される,芳香環含有モノマー組成物。
16.上記1ないし6及び15の何れかの組成物中の芳香環含有モノマー(A)と,これと共重合可能なモノマーであって(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸誘導体よりなる群より選ばれるものである少なくとも1種のモノマー(B)とを共重合させてなるポリマー。
17.上記16のポリマーであって,R1が,アクリロイル基〔CH2=CH−CO−〕,メタクリロイル基〔CH2=C(CH3)−CO−〕,アクリロイルオキシエチルカルバモイル基〔CH2=CH−COO−C2H5−NH−CO−〕,又はメタクリロイルオキシエチルカルバモイル基〔CH2=C(CH3)−COO−C2H5−NH−CO−〕の何れかを表すものである,ポリマー。
18.モノマー(B)が(メタ)アクリル酸,(メタ)アクリル酸アルキル,(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルよりなる群より選ばれるものである上記16又は17のポリマーと,グリシジル(メタ)アクリレート又は(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートとを反応させてなる,ポリマー。
19.上記1ないし6及び15の何れかの組成物中の芳香環含有モノマー(A)と,グリシジル(メタ)アクリレートとを共重合させ,更に(メタ)アクリル酸を加えて反応させ,これに更にテトラヒドロフタル酸を反応させてなるポリマー。
20.上記16ないし19の何れかのポリマーと光重合開始剤とを含んでなる組成物。
〔実施例A1〕
<モノマー混合組成物の製造>
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けたフラスコ内で,ベンジルフェノール混合物(商品名:TBP,川口化学工業(株)製)352g(OH基:1.01mol,水酸基価:161),シクロヘキサン600g及びトリエチルアミン112g(1.238mol)を混合して均一液とし,これにアクリル酸クロライド100g(1.11mol)を1時間かけて一定速度で滴下した。滴下は,発熱を抑制するため反応混合物を冷却しながら行った。滴下終了後,更に2時間攪拌して反応終点を確認した。反応は15〜35℃の温度範囲で行った。
装置:島津製作所 GC-14A, CR-6A
カラム:2m,OV−101型(非極性固定相;ジメチルシリコーン,(株)島津ジーエルシー),パックドカラム
プログラム:100〜250℃,10.0℃/分 + 250℃,60分間保持
注入口温度:250℃,
検知器:FID
検知器温度:270℃
波形処理条件:垂直分割処理
試料:1μl(アセトン溶液)
反応前後におけるガスクロマトグラム上のピーク変化:
上記反応の原料であるモノ−,ジ−及びトリベンジルフェノール混合物のガスクロマトグラム及び反応終了後の混合物のガスクロマトグラムを図1及び2に示すまた,当該原料のガスクロマトグラム上における各ピークの面積%(GC面積%),及び反応終了後の混合物のガスクロマトグラムにおける各ピークの面積%(GC面積%)を,それぞれ表3及び4に示す。図1及び2中,ピークに付した番号(P1,P2,P3,・・・)は,それぞれ表3及び4中のピーク番号(1,2,3,・・・)に対応する。原料には,フェノールその他少量の不純物が含有されている。また,各ベンジルフェノール,及び各ベンジルフェノキシ化合物についてピークが2つに分離するのは,フェノール又はフェノキシ基に対するベンジル基の結合可能な位置(o,m,p)が複数存在することに起因するものである。なお表中,アセトンは,ガスクロマトグラフィーの実施に際して加えた溶媒である。
TBP(水酸基価161)352gとトリエチルアミン112g,シクロヘキサン600gを加え,攪拌した溶液を0℃まで冷却した。10℃以下を保ちながら,メタクリル酸クロライド113g(1.1111mol)を滴下した。滴下終了後,2時間,室温で攪拌した。精製する白色結晶をろ過し,ろ液を精製水で洗浄し,分液ロートで分離し,シクロヘキサン溶液を得た。トルエンを加熱しながら減圧することで溜去し,モノ−,ジ−及びトリベンジルフェノキシ化合物(メタアクリル酸トリベンジルフェニルエステル)を含んでなる混合物435gを得た。
メタクリル酸クロライド113g(1.1111mol)をアクリル酸クロライド100g(1.1111mol)へ変更した以外は,実施例A2と同様に反応及び後処理を行った。モノ−,ジ−及びトリベンジルフェノキシ化合物(アクリル酸トリベンジルフェニルエステル)を含んでなる混合物490gを得た。
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けたフラスコ内で,ベンジルフェノール混合組成物(商品名:TBP 川口化学工業株式会社製)500g(1.43mol),メチルエチルケトン300gと錫系触媒(三共有機合成製 商品名:スタンBL)0.25g(0.08mol%[対TBP])とを混合して均一液とした後,55℃まで加熱して,メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(製品名:MOI,昭和電工製)225g(1.43mol)を2時間かけて一定速度で滴下した。滴下終了後,更に8時間攪拌して反応終点を確認した。反応終点の確認は,イソシアネートのIR吸収ピーク(2300cm-1)の消滅及びメタクリロイルオキシエチルイソシアネートのGPCピークの消滅により確認した。反応混合物を実施例A2と同様にして後処理に付し,モノ−,ジ−及びトリベンジルフェノキシモノマー化合物(メタクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル)を含んでなる混合物を得た。
TBP(水酸基価161)を352g(1.007mol),MOIを156g(1.010mol),スタンBLを0.5g,反応温度を80℃へと変更した以外は,実施例A4と同様に反応及び後処理を行い,モノ−,ジ−及びトリベンジルフェノキシ化合物(メタクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル)を含んでなる混合物500gを得た。
TBP(水酸基価161)352g(1.007mol),アクリロイルオキシエチルイソシアネート(製品名:AOI,昭和電工製) 142g(1.010mol),スタンBL0.5g,反応温度80℃,へ変更した以外は実施例A4と同様に反応及び後処理を行い,モノ−,ジ−及びトリベンジルフェノキシ化合物(アクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル)を含んでなる混合物490gを得た。
上記で作成したモノ−,ジ−及びトリベンジルフェノキシ化合物の混合物について,アツベ屈折率計〔NAR−3T,(株)アタゴ製〕にて屈折率を測定した〔測定波長589.3nm(D線)〕。結果を次の表5に示す。
実施例A1〜A6で得られた各組成物100重量部とヘキシルフェニルケトン(Irg184)5重量部とを,加熱残分が10%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した。希釈液を10cm×10cmのガラスの上に塗布し,90℃で乾燥後,1000mJ/cm2の紫外線をあてて硬化させた後,160℃,1時間の乾燥を行い,膜厚1μmのフィルムを得た。
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル(MOCBP,モノ−,ジ−,トリベンジル体の混合物でありそれらのうちトリベンジル体の割合は35.0%,大阪有機化学工業製)80g,アクリル酸10g,メタクリル酸10g,メチルエチルケトン100gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)2gを加え,80℃で6時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は20000であった。
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにアクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル(AOCBP,モノ−,ジ−,トリベンジル体の混合物でありそれらの内のトリベンジル体の割合は35.0%,大阪有機化学工業製)80g,アクリル酸10g,メタクリル酸10g,メチルエチルケトン100gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)2gを加え,80℃で6時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は15000であった。
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリル酸トリベンジルフェニルエステル(TBPMA,モノ−,ジ−,トリベンジル体の混合物でありそれらの内のトリベンジル体の割合は27.3%,大阪有機化学工業製)80g,アクリル酸10g,メタクリル酸10g,メチルエチルケトン100gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)2gを加え,80℃で6時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は22000であった。
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにアクリル酸トリベンジルフェニルエステル(TBPA,モノ−,ジ−,トリベンジル体の混合物でありそれらの内のトリベンジル体の割合は27.3%,大阪有機化学工業製)80g,アクリル酸10g,メタクリル酸10g,メチルエチルケトン100gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)2gを加え,80℃で6時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は18000であった。
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル(MOCBP,同上),40g,メタクリル酸60g,プロピレングリコールモノメチルエーテル371gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は10000であった。この反応混合物にグリシジルメタクリレート59g及びトリフェニルホスフィン1.2gを加え,100℃で12時間反応させ感光性ポリマー溶液500gを得た。(加熱残分30%,Mw=15000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにアクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル(AOCBP,同上)40g,メタクリル酸60g,プロピレングリコールモノメチルエーテル371gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は9000であった。この反応混合物にグリシジルメタクリレート59g,トリフェニルホスフィン1.2gを加え,100℃で12時間反応させ感光性ポリマー溶液500gを得た。(加熱残分30%,Mw=13000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリル酸トリベンジルフェニルエステル(TBPMA,同上)40g,メタクリル酸60g,プロピレングリコールモノメチルエーテル371gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は11000であった。この反応混合物にグリシジルメタクリレート,59g,トリフェニルホスフィン1.2gを加え,100℃で12時間反応させ感光性ポリマー溶液500gを得た。(加熱残分30%,Mw=18000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコに大阪有機化学工業製アクリル酸トリベンジルフェニルエステル(TBPA,同上)40g,メタクリル酸60g,プロピレングリコールモノメチルエーテル371gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は10000であった。この反応混合物にグリシジルメタクリレート59g,トリフェニルホスフィン1.2gを加え,100℃で12時間反応させ感光性ポリマー溶液500gを得た。(加熱残分30%,Mw=15000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル(MOCBP,同上)40g,グリシジルメタクリレート60g,プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート413gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は10000であった。この反応混合物にアクリル酸28.8g,トリフェニルホスフィン0.9gを加え,100℃で12時間反応させ,更にテトラヒドロ無水フタル酸,48gを加え,80℃で6時間反応させ,感光性ポリマー溶液580gを得た。(加熱残分30%,Mw=20000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにアクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル(AOCBP,同上)40g,グリシジルメタクリレート60g,プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート413gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は9000であった。この反応混合物にアクリル酸28.8g,トリフェニルホスフィン0.9gを加え,100℃で12時間反応させ,更にテトラヒドロ無水フタル酸48gを加え,80℃で6時間反応させ,感光性ポリマー溶液580gを得た。(加熱残分30%,Mw=18000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリル酸トリベンジルフェニルエステル(TBPMA,同上)40g,グリシジルメタクリレート60g,プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート413gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は10000であった。この反応混合物にアクリル酸28.8g,トリフェニルホスフィン0.9gを加え,100℃で12時間反応させ,更にテトラヒドロ無水フタル酸48gを加え,80℃で6時間反応させ,感光性ポリマー溶液580gを得た。(加熱残分30%,Mw=20000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにアクリル酸トリベンジルフェニルエステル(TBPA,同上)40g,グリシジルメタクリレート60g,プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート413gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は9000であった。この反応混合物にアクリル酸28.8g,トリフェニルホスフィン0.9gを加え,100℃で12時間反応させ,更にテトラヒドロ無水フタル酸48gを加え,80℃で6時間反応させ,感光性ポリマー溶液580gを得た。(加熱残分30%,Mw=19000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル(MOCBP,同上)47.2g,アクリル酸5.9,メタクリル酸2.9g,ヒドロキシエチルメタクリレート44g,プロピレングリコールモノメチルエーテル285gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は10000であった。この反応混合物にメタクリロイルオキシエチルイソシアネート,22g,スズ触媒0.12gを加え,100℃で12時間反応させ感光性ポリマー溶液400gを得た。(加熱残分30%,Mw=16000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにアクリロイルオキシエチルカルバミン酸トリベンジルフェノキシエステル(AOCBP,同上)47.2g,アクリル酸5.9,メタクリル酸2.9g,ヒドロキシエチルメタクリレート44g,プロピレングリコールモノメチルエーテル285gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は9000であった。この反応混合物にメタクリロイルオキシエチルイソシアネート,22g,スズ触媒0.12gを加え,100℃で12時間反応させ感光性ポリマー溶液400gを得た。(加熱残分30%,Mw=15000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリル酸トリベンジルフェニルエステル(TBPMA,同上)47.2g,アクリル酸5.9,メタクリル酸2.9g,ヒドロキシエチルメタクリレート44g,プロピレングリコールモノメチルエーテル285gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は10000であった。この反応混合物にメタクリロイルオキシエチルイソシアネート,22g,スズ触媒0.12gを加え,100℃で12時間反応させ感光性ポリマー溶液400gを得た。(加熱残分30%,Mw=20000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにアクリル酸トリベンジルフェニルエステル(TBPA,同上)47.2g,アクリル酸5.9,メタクリル酸2.9g,ヒドロキシエチルメタクリレート44g,プロピレングリコールモノメチルエーテル285gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は9000であった。この反応混合物にメタクリロイルオキシエチルイソシアネート22g,スズ触媒0.12gを加え,100℃で12時間反応させ感光性ポリマー溶液400gを得た。(加熱残分30%,Mw=13000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリル酸ベンジルエステル,80g,アクリル酸10g,メタクリル酸10g,メチルエチルケトン100gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)2gを加え,80℃で6時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は20000であった。
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリル酸ベンジルエステル40g,メタクリル酸60g,プロピレングリコールモノメチルエーテル371gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は10000であった。この反応混合物にグリシジルメタクリレート,59g,トリフェニルホスフィン1.2gを加え,100℃で12時間反応させ感光性ポリマー溶液500gを得た。(加熱残分30%,Mw=16000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリル酸ベンジルメエステル,40g,グリシジルメタクリレート60g,プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート413gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は10000であった。この反応混合物にアクリル酸28.8g,トリフェニルホスフィン0.9gを加え,100℃で12時間反応させ,更にテトラヒドロ無水フタル酸48gを加え,80℃で6時間反応させ,感光性ポリマー溶液580gを得た。(加熱残分30%,Mw=19000)
還流冷却器,滴下ロート,温度計,窒素ガス導入管および攪拌装置を取り付けた5つ口フラスコにメタクリル酸ベンジルエステル,47.2g,アクリル酸5.9,メタクリル酸2.9g,ヒドロキシエチルメタクリレート44g,プロピレングリコールモノメチルエーテル285gを入れ,加熱し,2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)7gを加え,80℃で10時間重合反応を行った。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は10000であった。この反応混合物にメタクリロイルオキシエチルイソシアネート22g,スズ触媒0.12gを加え,100℃で12時間反応させ感光性ポリマー溶液400gを得た。(加熱残分30%,Mw=20000)
実施例B5〜B20のポリマー固形分に対し,100%の実施例B1〜B4のポリマー,5%のヘキシルフェニルケトン(Irg184)を加え,加熱残分が10%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した。希釈された液を10cm×10cmのガラスの上にスピンコーターにて塗布し,90℃で乾燥後,1000mJ/cm2の紫外線をあて,硬化させた後,160℃,1時間の乾燥を行い,乾燥後の膜厚が1μmになるように調整し,IR,アツベ屈折率計にて測定した。
実施例B5〜B20のポリマー固形分に対し,50%のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート系ハイパーブランチポリマー(大阪有機化学製STAR−501),5%のIrg184を加え,加熱残分が10%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した。希釈された液を10cm×10cmのガラスの上にスピンコーターにて塗布し,90℃で乾燥後,1000mJ/cm2の紫外線をあて,硬化させた後,160℃,1時間の乾燥を行い,乾燥後の膜厚が1ミクロンになるように調整し,IR,アツベ屈折率計,鉛筆硬度試験にて測定した。
Claims (21)
- 該モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物を合計で60〜100重量%の割合で含んでなるものである,請求項1の組成物。
- 該モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の合計含量に対し,トリベンジルフェノキシ化合物が20重量%以上の比率で含まれるものである,請求項1又は2の組成物。
- 該モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の合計含量に対し,モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の比率が,それぞれ,0〜60重量%,20〜75重量%,及び20〜75重量%の範囲に入るものである請求項1ないし3の何れかの組成物。
- ジメチルシリコーンを固定相とするカラム及び水素炎イオン化検出器を用いたガスクロマトグラフィーにより測定したとき,ガスクロマトグラム上における該モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物に対応するピークの合計面積に対して,モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の各々に対応するピークの面積の割合が,それぞれ,0〜40%,30〜65%,及び30〜65%の範囲に入るものである,請求項1ないし3の何れかの組成物。
- 該重合性二重結合基が,炭素−炭素二重結合である,請求項6の製造方法。
- 該官能基が,酸クロライド基,又はビニル性クロル基である,請求項6又は7の方法。
- 該モノマー化合物が,(メタ)アクリル酸クロライド,及び塩化ビニルよりなる群より選ばれるものである,請求項6ないし7の何れかの製造方法。
- 該ベンジルフェノール組成物中に含まれるモノ−,ジ−及びトリベンジルフェノールの合計含量に対し,トリベンジルフェノールが20重量%以上の比率で含まれるものである,請求項6ないし9の何れかの製造方法。
- 該混合物中に含まれるモノ−,ジ−及びトリベンジルフェノールの全量に対し,モノ−,ジ−及びトリベンジルフェノールが,それぞれ,0〜60重量%,20〜75重量%,20〜75重量%の範囲に入るものである,請求項6ないし10の何れかの製造方法。
- ジメチルシリコーンを固定相とするカラム及び水素炎イオン化検出器(FID:Flame Ionization Detector)を用いたガスクロマトグラフィーにより測定したとき,該混合物が,ガスクロマトグラム上における該モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノールに対応するピークの合計面積に対して,モノ−,ジ−及びトリベンジルフェノールの各々に対応するピークの面積の割合が,それぞれ,0〜40%,30〜65%,及び30〜65%の範囲に入るものである,請求項6ないし11の何れかの製造方法。
- 該芳香環含有モノマー組成物におけるモノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノキシ化合物の合計含量が,60〜100重量%を占めるものである,請求項6ないし12の何れかの製造方法。
- 請求項6ないし13の何れかの製造方法により製造される,芳香環含有モノマー組成物。
- 式(1),
〔式中,R1は,アクリロイル基,メタクリロイル基,2,4−ヘキサジエノイル基,アクリロイルオキシエチルカルバモイル基,メタクリロイルオキシエチルカルバモイル基,及びビニル基の何れかを表し,mは1ないし3の整数である。〕で示されるモノ−,ジ−及びトリベンジルフェノキシ化合物を含んでなる組成物,及び
式(2),
〔式中,nは1ないし3の整数である。〕で示される,モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノールを含んでなる混合物を,フェノール性OH基に対する共有結合形成性の官能基を有し且つ重合性二重結合をも有するものであるモノマー化合物と接触させて,該官能基と式(2)の化合物のフェノール性OH基との間に共有結合を形成させることを含んでなるものである,芳香環含有モノマー組成物の製造方法により製造される,芳香族含有モノマー組成物,
の何れかの組成物中の芳香環含有モノマー(A)と,これと共重合可能なモノマーであって(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸誘導体よりなる群より選ばれるものである少なくとも1種のモノマー(B)とを共重合させてなるポリマー。 - 請求項1ないし5,及び14の何れかの組成物中の芳香環含有モノマー(A)と,これと共重合可能なモノマーであって(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸誘導体よりなる群より選ばれるものである少なくとも1種のモノマー(B)とを共重合させてなるポリマー。
- 請求項15又は16のポリマーであって,R1が,アクリロイル基,メタクリロイル基,アクリロイルオキシエチルカルバモイル基,又はメタクリロイルオキシエチルカルバモイル基の何れかを表すものである,ポリマー。
- モノマー(B)が(メタ)アクリル酸,(メタ)アクリル酸アルキル,(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルよりなる群より選ばれるものである請求項15ないし17の何れかのポリマーと,グリシジル(メタ)アクリレート又は(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートとを反応させてなる,ポリマー。
- 式(1),
〔式中,R1は,アクリロイル基,メタクリロイル基,2,4−ヘキサジエノイル基,アクリロイルオキシエチルカルバモイル基,メタクリロイルオキシエチルカルバモイル基,及びビニル基の何れかを表し,mは1ないし3の整数である。〕で示されるモノ−,ジ−及びトリベンジルフェノキシ化合物を含んでなる組成物,及び
式(2),
〔式中,nは1ないし3の整数である。〕で示される,モノ−,ジ−,及びトリベンジルフェノールを含んでなる混合物を,フェノール性OH基に対する共有結合形成性の官能基を有し且つ重合性二重結合をも有するものであるモノマー化合物と接触させて,該官能基と式(2)の化合物のフェノール性OH基との間に共有結合を形成させることを含んでなるものである,芳香環含有モノマー組成物の製造方法により製造される,芳香族含有モノマー組成物,
の何れかの組成物中の芳香環含有モノマー(A)と,グリシジル(メタ)アクリレートとを共重合させ,更に(メタ)アクリル酸を加えて反応させ,これに更にテトラヒドロフタル酸を反応させてなるポリマー。 - 請求項1ないし5及び14の何れかの組成物中の芳香環含有モノマー(A)と,グリシジル(メタ)アクリレートとを共重合させ,更に(メタ)アクリル酸を加えて反応させ,これに更にテトラヒドロフタル酸を反応させてなるポリマー。
- 請求項15ないし20の何れかのポリマーと光重合開始剤とを含んでなる組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008307139A JP5463024B2 (ja) | 2007-12-03 | 2008-12-02 | 芳香環含有モノマー組成物及びこれに基くポリマー |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007312935 | 2007-12-03 | ||
JP2007312935 | 2007-12-03 | ||
JP2008307139A JP5463024B2 (ja) | 2007-12-03 | 2008-12-02 | 芳香環含有モノマー組成物及びこれに基くポリマー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009155322A JP2009155322A (ja) | 2009-07-16 |
JP5463024B2 true JP5463024B2 (ja) | 2014-04-09 |
Family
ID=40959708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008307139A Expired - Fee Related JP5463024B2 (ja) | 2007-12-03 | 2008-12-02 | 芳香環含有モノマー組成物及びこれに基くポリマー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5463024B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5099280B1 (ja) * | 2011-05-18 | 2012-12-19 | Dic株式会社 | ラジカル重合性組成物、硬化物及びプラスチックレンズ |
EP2664635B1 (en) * | 2011-06-13 | 2015-05-20 | DIC Corporation | Radically polymerizable composition, cured product, and plastic lens |
JP6425190B2 (ja) | 2014-10-10 | 2018-11-21 | 株式会社リコー | 新規共重合体、水性インク、及びインクカートリッジ |
JP2016150973A (ja) * | 2015-02-17 | 2016-08-22 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | 感光性ポリマー |
CN108484821B (zh) * | 2018-03-02 | 2020-12-08 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 一种高折射率丙烯酸酯共聚物及其制备方法 |
JP7192319B2 (ja) * | 2018-09-04 | 2022-12-20 | 三菱瓦斯化学株式会社 | (メタ)アクリレート樹脂、硬化性樹脂組成物、及び硬化物 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2543335B2 (ja) * | 1985-03-30 | 1996-10-16 | ホ−ヤ株式会社 | 高含水コンタクトレンズ |
JPH01299804A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-04 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 放射線硬化樹脂用希釈剤 |
JPH1114801A (ja) * | 1997-06-20 | 1999-01-22 | Seed:Kk | 合成樹脂製レンズ |
JP4802707B2 (ja) * | 2005-05-17 | 2011-10-26 | 住友化学株式会社 | 光制御膜 |
JP2008031355A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | エネルギー線硬化型樹脂用(メタ)アクリル酸エステル系化合物 |
-
2008
- 2008-12-02 JP JP2008307139A patent/JP5463024B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009155322A (ja) | 2009-07-16 |
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