JPS608847A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS608847A JPS608847A JP58115967A JP11596783A JPS608847A JP S608847 A JPS608847 A JP S608847A JP 58115967 A JP58115967 A JP 58115967A JP 11596783 A JP11596783 A JP 11596783A JP S608847 A JPS608847 A JP S608847A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- amorphous silicon
- mho
- film
- photosensitive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は良好なる長波長感度を有するアモルファスシリ
コン電子写真感光体に関する。
コン電子写真感光体に関する。
従来電子写真感光体としてはa−Seが広く用いられて
きたがa−86は機械的強度が不足しているために耐久
性に乏しい。又、近年光源にレーザーを用いられ始めて
いるが、半導体レーザーの波長は800nm位で比較的
長波長であるのでa−Seでは対応が難しい。一方,近
年注目をあびてぃるa−Siは硬く機械的強度に秀れ、
又光感度も良好なので電子写真感光体に適していて,各
所で実用化研究が行なわれている。a − Siはa
− Seに比べて長波長感度に秀れているが、光学的バ
ンドギャグは1.7eV前後であるので800nm付近
の感度をあげるためには更に光学的バンドギャップを/
」\さくする必要がある。そのために通常は+ Geを
ドープして光学的バンドギャップを小さくしているか,
Geをドープしたa − F3lはGeを入れすぎる
と非常にもろく(クラック)や基板からの剥離を生じ易
くなり,又、暗導電率が非常に大きくなってしまい電子
写真感光体には使えなくなる。
きたがa−86は機械的強度が不足しているために耐久
性に乏しい。又、近年光源にレーザーを用いられ始めて
いるが、半導体レーザーの波長は800nm位で比較的
長波長であるのでa−Seでは対応が難しい。一方,近
年注目をあびてぃるa−Siは硬く機械的強度に秀れ、
又光感度も良好なので電子写真感光体に適していて,各
所で実用化研究が行なわれている。a − Siはa
− Seに比べて長波長感度に秀れているが、光学的バ
ンドギャグは1.7eV前後であるので800nm付近
の感度をあげるためには更に光学的バンドギャップを/
」\さくする必要がある。そのために通常は+ Geを
ドープして光学的バンドギャップを小さくしているか,
Geをドープしたa − F3lはGeを入れすぎる
と非常にもろく(クラック)や基板からの剥離を生じ易
くなり,又、暗導電率が非常に大きくなってしまい電子
写真感光体には使えなくなる。
この発明は先に述べた従来技術の困μi・−を克服して
,長波長感度に秀れた不子写X感光体を提供することに
ある。
,長波長感度に秀れた不子写X感光体を提供することに
ある。
本発明の電子写真感光体においては、a−8iよりなる
感光層の一部又は全部に(支)とCを添加し。
感光層の一部又は全部に(支)とCを添加し。
光学的バンドギャップを小さくすると同時に膜のひずみ
を小さく抑えクラックや基板からの膜の剥離を防いで長
波長増感を実現した。
を小さく抑えクラックや基板からの膜の剥離を防いで長
波長増感を実現した。
本発明の電子写真感光体においては長波長増感をa −
81にGeとCを同時に添加することにより実現してい
る。この場合龜のみを添加するのと違ってOeと81の
原子の大きさの差に起因する膜中の歪みを原子半径の小
さいCを少量siのnetworkに入れることにより
緩和しているので、クラックや基板からの剥離と言った
機械的なトラブルは生じない。一般にCをa−8i中に
ドープするとバンド・ギャップは太ぎくなるがGeをド
ープして生ずる歪みを緩和するにはごく微分のCがne
tworkにとり込まれれば良いからバンドギャップは
1.5eV以下にすることも容易である。GeとCを同
時に添加した長波長増感層は又、内部応力が充分に緩和
されているのでmid gap 5tatesが少なく
、暗導電率は充分小さいので電子写真に用いることがで
きる。更に、クラック等を生じないので生産の際の再現
性、歩留に秀れている。
81にGeとCを同時に添加することにより実現してい
る。この場合龜のみを添加するのと違ってOeと81の
原子の大きさの差に起因する膜中の歪みを原子半径の小
さいCを少量siのnetworkに入れることにより
緩和しているので、クラックや基板からの剥離と言った
機械的なトラブルは生じない。一般にCをa−8i中に
ドープするとバンド・ギャップは太ぎくなるがGeをド
ープして生ずる歪みを緩和するにはごく微分のCがne
tworkにとり込まれれば良いからバンドギャップは
1.5eV以下にすることも容易である。GeとCを同
時に添加した長波長増感層は又、内部応力が充分に緩和
されているのでmid gap 5tatesが少なく
、暗導電率は充分小さいので電子写真に用いることがで
きる。更に、クラック等を生じないので生産の際の再現
性、歩留に秀れている。
ここでは、基板にMドラムを用いた正帯電用の電子写真
感光体を例に挙げる。
感光体を例に挙げる。
脱脂洗浄したMドラム(1)を1通常良く知られたグロ
ー放電によるa−8i堆積装置に装着して1O−6io
rr台の真空中で200℃まで昇温する。次にこの堆積
装置中に100チシラン、 99.95係メタン、並び
に水素ベース2000 ppmのジボランをそれぞれ1
50 SCCM 、 150 SCCM 、 75 S
CCM導入してガス圧を0.5 torrとしてRIF
S力25Wでグロー放電プラズマを生起せしめA/ド
ラム(1)の上に暗導電率10 υ函以上のp型a −
sic 膜(2)を2μ成膜して電荷注入阻止層とした
。続いてガスを100チシラン150SCCM。
ー放電によるa−8i堆積装置に装着して1O−6io
rr台の真空中で200℃まで昇温する。次にこの堆積
装置中に100チシラン、 99.95係メタン、並び
に水素ベース2000 ppmのジボランをそれぞれ1
50 SCCM 、 150 SCCM 、 75 S
CCM導入してガス圧を0.5 torrとしてRIF
S力25Wでグロー放電プラズマを生起せしめA/ド
ラム(1)の上に暗導電率10 υ函以上のp型a −
sic 膜(2)を2μ成膜して電荷注入阻止層とした
。続いてガスを100チシラン150SCCM。
ト水素ベース20 pI)mのジボラン?、5SCCM
に切り換え50WのRF電力のプラズマにより暗導電率
io −stυcIrL7’以下のl型a−8i:H層
(3)を15μ形成し、又この上にカスを150 SC
CM ノ100%シ2ン、5゜SCCM ノ99.95
q6メタ、 7.150 SCCM ノ水素ヘース1
0係ゲルマンに切り換えてRF l力25Wで光学的バ
ンドギャップ1.45 eVのC、Geをドープしたa
−8i:H層(4)を3μ成膜シ、更ニ(3)と同じ1
型a−8i : H/1(5)を2μ形成して感光層(
6)とした。最後in 100 % 5i)I、と99
.9591タントをそれぞれ150SCCM堆私空中に
導入してガス圧1.0 torr 、 RF電力100
Wでプラズマをたて暗導電率1014υcm−”以下の
a −SiC膜(7)を01μ形成して電子写真感光体
(8)とした。
に切り換え50WのRF電力のプラズマにより暗導電率
io −stυcIrL7’以下のl型a−8i:H層
(3)を15μ形成し、又この上にカスを150 SC
CM ノ100%シ2ン、5゜SCCM ノ99.95
q6メタ、 7.150 SCCM ノ水素ヘース1
0係ゲルマンに切り換えてRF l力25Wで光学的バ
ンドギャップ1.45 eVのC、Geをドープしたa
−8i:H層(4)を3μ成膜シ、更ニ(3)と同じ1
型a−8i : H/1(5)を2μ形成して感光層(
6)とした。最後in 100 % 5i)I、と99
.9591タントをそれぞれ150SCCM堆私空中に
導入してガス圧1.0 torr 、 RF電力100
Wでプラズマをたて暗導電率1014υcm−”以下の
a −SiC膜(7)を01μ形成して電子写真感光体
(8)とした。
こうしてつくられた電子写真感光体は表面電位500
V、 800nmの感度5 ergβと良好でレーザー
ビームプリンターに適用でき、機械的強度に秀れ10万
枚以上コピーしても全く劣化しながった。
V、 800nmの感度5 ergβと良好でレーザー
ビームプリンターに適用でき、機械的強度に秀れ10万
枚以上コピーしても全く劣化しながった。
又、上記の実施例では、感光層(6)の一部にGe、C
をdope したa−8i:H層を形成して込るが、惑
う’l; i (G)全体をOe、Cをdope L、
たa−8i:HJK・にすれば更に長波長感度に秀れた
電子写真感光体を作ることが出来る。
をdope したa−8i:H層を形成して込るが、惑
う’l; i (G)全体をOe、Cをdope L、
たa−8i:HJK・にすれば更に長波長感度に秀れた
電子写真感光体を作ることが出来る。
訴
図面は本発明の詳細な説明する懐面図である。
Claims (2)
- (1)感光層が非晶質シリコンよりなる電子写真感光体
において、前記感光層の一部又は全部に伽とCを添加し
たことを特徴とする電子写真感光体。 - (2)導電性基板と感光層の間に基板からの電荷の注入
を明止する電荷注入阻止層を有したことを特徴とする特
許 写真感光体。 範囲第2項記載の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58115967A JPS608847A (ja) | 1983-06-29 | 1983-06-29 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58115967A JPS608847A (ja) | 1983-06-29 | 1983-06-29 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS608847A true JPS608847A (ja) | 1985-01-17 |
JPH0548912B2 JPH0548912B2 (ja) | 1993-07-22 |
Family
ID=14675566
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58115967A Granted JPS608847A (ja) | 1983-06-29 | 1983-06-29 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS608847A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63135954A (ja) * | 1986-11-27 | 1988-06-08 | Kyocera Corp | 電子写真感光体 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54145540A (en) * | 1978-05-04 | 1979-11-13 | Canon Inc | Electrophotographic image forming material |
JPS54145539A (en) * | 1978-05-04 | 1979-11-13 | Canon Inc | Electrophotographic image forming material |
JPS55121239U (ja) * | 1979-02-21 | 1980-08-28 | ||
JPS57105744A (en) * | 1980-12-23 | 1982-07-01 | Canon Inc | Photoconductive member |
JPS5860747A (ja) * | 1981-10-07 | 1983-04-11 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真感光体 |
JPS5888753A (ja) * | 1981-11-24 | 1983-05-26 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真感光体 |
-
1983
- 1983-06-29 JP JP58115967A patent/JPS608847A/ja active Granted
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54145540A (en) * | 1978-05-04 | 1979-11-13 | Canon Inc | Electrophotographic image forming material |
JPS54145539A (en) * | 1978-05-04 | 1979-11-13 | Canon Inc | Electrophotographic image forming material |
JPS55121239U (ja) * | 1979-02-21 | 1980-08-28 | ||
JPS57105744A (en) * | 1980-12-23 | 1982-07-01 | Canon Inc | Photoconductive member |
JPS5860747A (ja) * | 1981-10-07 | 1983-04-11 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真感光体 |
JPS5888753A (ja) * | 1981-11-24 | 1983-05-26 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真感光体 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63135954A (ja) * | 1986-11-27 | 1988-06-08 | Kyocera Corp | 電子写真感光体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0548912B2 (ja) | 1993-07-22 |
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