JPS608498B2 - ウエブ処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ウェブ材料を処理する装置に関するものであ
り、特に、ウェブ材料の処理時間を正確に制御するため
の装置に関するものである。

写真印刷技術分野においては、活性線を通さない像を含
むマスクが、活字印刷および平版印刷の両方のための活
版を準備するのにいまいま使用される。この種のマスク
は、活版を準備するのに使用される初期接触フィルムま
たは中間調フィルムを準備するのにも使用される。同様
のマスクは、ホトレジスト材料を使用して印刷回路板を
準備するのに使用される。代表的にはプラスチックであ
るペーストまたは基体が感光材料（いまいまレジスト形
成材料）で被覆されており且つ適当な中間調マスクを通
して活性線に露呈されるような個々のシートまたは連続
ウェプの形のフィルムマスクが知られている。露呈後、
そのフィルムは、使用される特定の材料による処理部分
で処理される。処理方法には代表的には露光された感光
層が軟化または硬化されその軟化または遊離材料が除去
されうるようにするいわゆる現像工程を含んでいる。そ
の次の工程は、軟化領域を代表的には高圧スプレーにて
フィルムから除去する水洗すなわちすすぎ工程である。
その後に、フィルムは乾燥される。近年、フィルムおよ
び乾板の感光層に使用される材料のあるものは、必要と
される処理時間の少ない急速に処理しうる材料である。

その上、これらの材料のあるものは比較的鰍く、処理中
にフィルムを折り曲げたりするときに生じうる圧力傷を
非常に受けやすい。このような急速処理が可能な材料の
場合には、フィルムの種々の領域が過度に現像されたり
現像不足となったりしないように現像時間を正確且つ精
密に制御しうるような処理装置を工夫することが必要で
ある。

たいていの従来の処理装置は、特に、比較的に短い現像
時間、代表的には、数秒ほどの現像時間の場合には、そ
の処理時間をこのように正確に制御することはできない
。その上、従来のほとんどの処理装置は折返し部を生じ
がちのものであって、フィルムが折り返される場合傷を
生じ易くさもなけ机ま損傷を受け易く使用されるフィル
ムの質を低下させてしまう傾向がある。周知の従来処理
装置の１つは、１９４６王７月１６日にＡＬ．Ｍａｙｅ
ｒに与えられた米国特許第２４０４１３８号明細書に記
載されている。このＭａｙｅｒの処理装置の欠点は、精
密な現像時間を正確に制御し得ないという点にある。何
故ならば、現像剤がフィルムに対して正確且つ精密に付
与されないし且つ現像剤がフィルムから正確且つ精密に
除去されないからである。フィルムの表面領域に対する
現像プロセスの開始点および停止点が明確に定められて
いないからである。もう１つ別の従来装置は、１９６９
年６月１０印こＲ．Ｃ．Ｇｒａｈａｍに与えられた米国
特許第３４４８７２ぴ言明細書に記載されている。この
装置もまた、現像時間を十分に制御できないものである
。何故ならば、現像薬品がフィルムまたは乾板の精密に
限定された表面を確実にお）うようにする手段がないか
らである。更にもう１つ別の従来の装置は１９７竿羊１
月１６日にＢｍｎｏ等へ与えられた米国特許第３７１０
７０３号明細書に記載されている。この装置は、現像時
間を精密に制御し得ないことに加えて、フィルムを曲り
くねらせてフィルムに傷を付けやすい。更に１９７１年
６月２９日にＣｏｓｔａｓＫｒｉｋｅｌｊｓに与えられ
た米国特許第３５８９２６１号明細書に記載された装置
はその意図した目的を十分に達成するものであるが、上
述した同じような多くの欠点を有している。本発明の目
的は、従来の感光材料処理装置の欠点の多くを除去する
ことである。

本発明のもう１つの別の目的は、感光材料の現像時間を
精密に制御する改良装置を提供することである。

本発明の好ましい実施例による装置は、基体の一方の側
の感光層を処理するための第１および第２の隣接区域を
有するように構成されており、前記区域を通して前記基
体を前記感光層側を上にして移動するための駆動手段と
、前記第１の区域にあって前記基体が第１の区域に入っ
て前記感光層の部分を変質する際流体処理材料の実質的
に一様なカーテンを前記感光層に付与するための入口手
段と、前記第１の区域にあって前記基体が前記第１の区
域を出る前に前記流体処理薬品の一様なカーテンを前記
感光層に付与するための出口手段と、前記第２の区域に
あって前記感光層を洗浄するための洗浄手段とを備えて
いる。

本発明の特に好ましい実施例では、駆動手段は、感光層
を損傷しやすいような折り返しおよび／または不連続部
を避けるようにほゞ直線的な通路に沿って基体を移動さ
せる。

その上、入口手段および出口手段の各々は、感光層に接
触するローラと、該ローラ上および感光層上へ流体処理
材料を滝状に落下させる分配手段とを備えていて、ロー
ラとローラとの間で移動する基体上の精密に限定された
長さ部分に亘つて処理材料のプールを形成する。従って
、基板がこれらローラ間を移動する速度を調整すること
によって、現像時間を精密に制御することができる。基
板は、入口ローフを通って入るとすぐに処理材料を受け
、出口ローラを通過するまで連続的にその処理材料に霧
らされる。このようにして、基板上の感光層がわずか数
秒間だけしか現像薬品に対して露出されないような場合
でも、その露出時間を正確に制御することができる。次
に、添付図面に基づいて本発明の実施例について本発明
を説明する。

本発明の装置は単なる例示として光重合体印刷用フィル
ムの処理に関して説明する。

しかし本装置はト基体上の層を処理することが必要であ
るか望しし、ようないかなる応用例にも使用し得るもの
である。光重合体印刷用フィルムは、活性領域に少なく
とも３の光学的密度を有し、０．００１５２弧（０．０
００６インチ）より厚くない厚さを有し且つその要素の
最も外側の層かまたは除去しうるカバーシートまたは層
に隣接している光硬化性層を担持した支持体を備えてい
る。

この光硬化性層は、光重合性、光交叉結合性および光二
量重合性材料の中から選択された材料からなる。ある代
表的な光重合性材料は、周知の型の光起爆薬、吸収剤、
重合性モノマーおよび重合結合剤からなる。この種の光
重合体フィルムは、すべて自動的且つ連続的な方法でな
される現像、水洗および任意的な乾燥工程を含む本発明
の装置を用いて処理されるように設計されている。この
種の重合体フィルムのために使用される材料は、広い意
味で印刷用フィルムと記載され、代表的には、比較的軟
くどんな処理装置においても損傷され易い。

この理由のために、そのフィルムが折返し、曲げ等を受
けないような単純な直線的な処理装置が望まれている。
その上、フィルムの感光性層側が接触しなければならな
い表面の数は最小限に減ぜられるべきであり、これらの
表面のすべては、それらの間に相対移動がほとんどない
かまたは全くないように、フィルムと同じ速度で移動さ
れるのが最適である。本明細書において使用される「フ
ィルム」という用語は、単一シートまたはその意味での
連続ウェブまたは写真印刷技術分野において典型的に使
用されている乾板をも意味するものであり、その共通点
は処理されるべき感光層を有しその一部はいわゆる現像
画像または芸術作品、を与えるように除去される基体を
含んでいることである。

本処理装置は現像区域１０および水洗区域１２を備えて
いる。フィルムは、水洗区域１２の出口から乾燥装置（
図示していない）へ通されうる。乾燥装置は通常の構造
のものであって、本発明の一部を構成するものではない
。この乾燥装置は水洗区域１２と同じ構成でただ水洗い
スプレーの代りもこヒータを有したような直線的な区域
である。現像区域１川ま、上方部分にある以前に露光し
た感光層を有するフィルム１８を処理するのに代表的に
使用される任意のフィルム処理化学薬品Ｉ６を保持する
室１４を備えている。フィルム１８は、その感光層側を
上にして装填プラットホーム２０１こ置かれ、次いで入
口スロット２２を通して一組の入口送りまたはニップロ
ール２４へ供給される。ニツプロール２４の上方ロール
（図において）は自由回転し、下方ロールおよび／また
はフィルム上面または層に接触するようになっている。
この上方ロールは、駆動される下方ロールとの摩擦接触
によって駆動され、且つ、ある程度はフィルムとの摩擦
後触によりそのフィルムの移動によって駆動される。フ
ィルム１８は、ニップロール２４から水平に配設された
フィルムガイド２８上へ通される。このフィルムガイド
２８は、種々な流体、空気等との干渉を最小とするよう
に形成されたワイヤであるのが好ましい。その上、その
ワイヤガイドは、フィルム摩擦およびフィルムの引掻き
を減少させるようにプラスチック被覆材料で被覆される
のが好まきし、。使用される化学薬品と反応しない任意
の適当なプラスチックを使用することができる。次の段
階として、フィルムは、一組の出口送りまたはニップロ
ール３２に通される。これらのニツプロール３２の下方
ロール（図において）は第３図に示すように駆動される
が、一方、ニップロール３２の上方ロール（図において
）は、入口ロール２４に関して説明したように、下方ロ
ールおよびフィルムまたは基体１８の上面との摩擦接触
によって駆動される。その後、フィルムは現像区域１０
を去って水洗区域１２へ通される。ニップロール２４お
よび３２は、写真材料を処理するのに代表的に使用され
るゴム、泡ゴム等の任意の軟し、材料で構成されうる。
このようにして、こらのニップロールは、紋り型の動作
で接触して、上方ロールを駆動する働きをする。本発明
によれば、滞留時間、従ってフィルムの流体処理化学薬
品への露出時間は、後述するようにして正確に間違いな
く制御される。

化学薬品１６は、ポンプ３４を用いて適当な導管３６を
通して入口スプレーバー３８および出口スプレーバー４
０の各々に送られる。第２図に最もよく示されているよ
うなこれらスプレーバーは、フィルム１８が現像区分１
０を通過する時そのフィルム１８（またはロール２４お
よび３２）の中全体にわたるように延長している。各ス
プレーバー３８および４川ま、各上方ニツプロール２４
および３２に接触する上方可榛性ワィパ４４または直接
それらロール上へ流体化学薬品を向ける複数個のノズル
４２を有している。ワィパ４４はゴムまたは同様の材料
で形成されるのが好ましい。このようにすることにより
、現像剤が室１４内に維持され且つその現像剤が上方ロ
ール上を滝状に落下し、フィルム１８がそれらロールの
下を通過する時にそのフィルム１８上へ落下するように
される。このようにして、フィルム１８が現像区域１０
‘こ入るとすぐに正確且つ同時にその全中に亘つてその
フィルム１８の移動方向と垂直な比較的にまつすぐな線
に沿った現像剤のカスケードカーテンに露呈される。こ
れにより、入口送りロール２４と出口送り。ール３２と
の間のフィルムの実質的に全領域をおおうがそれ以外の
領域はどこもおおわないような処理材料のパッドルまた
はプール５０が形成されうる。ニップロールは、処理材
料が現像区域の入口および出口を越えて広がらないよう
にする。フィルムの前端部分および後端部分を含むフィ
ルム全体に十分な化学薬品が確実に供給されるようにす
るために、出口ニップロール３２の上方ロールからの滝
状に落下する流体が更にそのフィルム全体を湿潤させる
。

これにより、精密に定められた点、すなわち、ニップロ
ールの接触する点でそれらの出口ニップロ−ル３２が流
体化学薬品を絞り出す時に鋭いカットオフ点が作り出さ
れる。従って、フィルムが現像剤の作用を受ける時間期
間は、フィルムが現像区域を通って移動される速度によ
って決定される。ある任意の時間点で現像作用を受けて
いるフィルム領域は、ニップロールの間の長手方向の間
隔およびフィルムの両側縁によって定められた領域であ
る。ある代表的な例ではフィルムは比較的に高速度で進
行しており且つニップロール間の距離は１５．２４伽（
６インチ）程度の比較的に短い距離であるので、現像時
間は２から３秒程度である。このような精密な制御は〜
従来のフィルム処理装置を用いたのでは不可能でないと
しても非常に困難であった。何故ならば、従来のフィル
ム処理装置では、フィルムが現像区分にある間、フィル
ムのすべての部分が同時に湿潤され処理されるのでない
からである。この現像区域の説明の最後として、ニツプ
ロ−ル２４および３２の下方ロールの各々は、現像剤室
１４の壁に取り付けられた可擬性ワイパー５２に接触さ
れている。

これらのワィパは、現像剤を室１４内に維持する作用を
し、すなわち、現像剤が室１４の底部へ落下して、ポン
プ３４によってスプレーバーを通して再循環されうるよ
うにする。直線路にて移動しながら現像区域を出ていく
フィルムは、水洗区域１２の一組の入口送りまたはニッ
プロール５４を通過する。

ニップロール５４は現像区域におけるニップロールと全
く同様にして構成されうる。これらのニップロール５４
にも、洗浄水を水洗区域１２内に維持するようにするワ
ィパ５６が設けられいる。この水洗区域は、洗浄流体を
線路６２を通して上方スプレーバー６４へ再循環させる
ポンプ６０を有する室５８を備えている。上方スプレー
バー６４は、高圧、高速スプレーをフィルム１８の上面
上へと下方に直接的に指向するようにする。こうするこ
とにより、現像作用によって生じた酸化物質または遊離
物質をフィルムの表面から除去することができる。代表
的にはより低い圧力で動作するスプレーバー６６は、ス
プレーをフィルムの底面または下方表面の方へ上方に指
向する。このスプレーは送りフィルムガイド６８を通し
て贋霧される。このガイド６８はフィルムを支持してい
るもので、現像区域１川こおけるフィルムガイド２８と
同様にしてワイヤで形成されうるものである。更に、水
洗区域１２は一組の出口ニップロール５８が設けられて
おり、これらのニツプロール６８には適当なワィパ７０
が設けられており、流体を水洗区域１２内に保持するよ
うになっている。

好ましくは、入口ニツプロール５４と出口ニツプロール
６８との両者は、現像区域において使用されたニップロ
ールと同じ型であるとよい。しかしながら、この場合に
は、出口ロール６８の表面は湿気を容易に吸収する材料
で被覆されるとよい。例えば、出口ロール６８はフィル
ムが水洗区域１２から出ていく前にそのフィルムを乾燥
させる助けをする適当な布で被覆されるとよい。フィル
ムは、この水洗区域１２を出て適当な乾燥装置（図示し
ていない）へ向けられる。乾燥装置は加熱空気流が通さ
れていて、フィルムの乾燥を助長するようなものである
。乾燥装置においても直線的な流路が維持されるのが好
ましいが、このことはたいてし、の場合現像および水洗
の終った時には必須なことではない。処理装置のための
駆動系統は、第３図に示されており、いくつかのニツプ
ロール２４，３２，５４および６８が第３図には示され
ている。

ニツプロールの下方には、適当なチェーン駆動装置７０
によって駆動される適当なスプロケットが設けられてい
る。適切なりンク結合を与えるため、遊び車７２はチェ
ーン７０を駆動スプロケット７４に接続する助けをする
。駆動スプロケット７４は適当な可変速度モータ７６に
よって駆動される。スプリング偏崎される引張り巻取り
重７８もまた設けられている。ニップロールの各々の下
方は、駆動機構であり、ニップロールの各々は、フィル
ムの曲げおよび湾曲を避けるために直線フィルム路を与
えるように整列している。

この装置は、現像される要素を浴へ入れたり浴から出し
たりして多くの曲りくねった部分およびねじれた部分の
生ずるために軟し・フィルム層が損傷されがちとなるよ
うな欠点を生ずることなく。境梓浸債現像を行なえると
いう効果を有している。一般的に、室の構造的部分は、
種々な耐化学薬品性のプラスチックおよび非腐食性金属
または金属合金で作られるとよい。

すなわち、鋼、ステンレス鋼、黄銅、銅、青銅、アミニ
ゥム等が適当である。ローラは、前述したような構造材
料で作られてよく、好ましくは、前述したようにゴム、
合成ェラストマ、シリコーン樹脂等で被覆されるとよい
。

【図面の簡単な説明】

添付図面の第１図は本発明の好ましい一実施例に従って
構成された基体を処理するための装置の側立面横断面図
、第２図は第１図に例示された装置の現像区域を示しフ
ィルムストリップがその現像区域を通過しているところ
を示す部分平面図、第３図は第１図に例示した装置に使
用されるローラのための駆動装置を示す概略図である。 １０・・・・・・現像区域、１２・・・・・・水洗区域
、１４・・・・・・室、１６・・・・・・フィルム処理
化学薬品、１８・・・・・・フィルム、２０・・・・・
・装填プラットホーム、２２・・・…入口スロット、２
４……入口ニツプロール、２８……フィルムガイド、３
２……出口ニツプロール、３４・・・…ポンプ、３６・
…・・導管、３８・・・・・・入口スプレーバー、４０
……出口スプレーバー、４２・・…・ノズル、４４・・
・・・・上方可榛・性ワィパ、５０・・・・・・処理材
料のプール、５２・・・・・・可孫性ワィパ、５４……
入口ニツプロール、５６……ワイパ、５８・・・・・・
室、６０・…・・ポンプ、６４・・・・・・上方スプレ
ーバー、６６・・・…下方スプレーバー、６８…・・・
送りフィルムガイド、７０……ヮィパ、７２……遊び車
、７４・・・・・・駆動スプロケット、７６・・・・・
・可変速度モータ、７８・・・・・・引張り巻取車。ｆ
ｉＧ．１ｆ１６．２ ＦＩＧ．３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 基体上の感光層（光感受性層）を処理する装置にし
   て、第１および第２の隣接しているが別々の区域と、前
   記基体を前記感光層を上側にして前記各区域を通して移
   動させる駆動手段とを備えており、前記感光層は前記第
   １の区域にてその部分を変質する流体処理材料に露呈さ
   れ、更に、前記第２の区域にて洗浄されるような処理装
   置において、前記第１の区域は、前記基体が前記第１の
   区域に入ってそこを出ていく時に前記感光層へ前記流体
   処理材料の実質的に一様なカーテンを付与してその入口
   カーテンから出口カーテンまで前記感光層を横切るよう
   な前記流体処理材料の一様なプールを積立して維持する
   ための入口手段および出口手段を有することを特徴とす
   る処理装置。 ２ 前記入口手段および出口手段の各々は、前記感光層
   に接触するロールを備えており、前記カーテンは、前記
   ロール上を前記感光層上へと前記流体処理材料を滝状に
   落下させることによって形成される特許請求の範囲第１
   項に記載の処理装置。 ３ 前記第２の区域は前記感光層の遊離部分を前記基体
   から除去するための水衝撃スプレーを備えている特許請
   求の範囲第１項に記載の処理装置。