DE3002732A1 - Horizontal-durchlauf-tauchbad - Google Patents

Horizontal-durchlauf-tauchbad

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DE3002732A1
DE3002732A1 DE19803002732 DE3002732A DE3002732A1 DE 3002732 A1 DE3002732 A1 DE 3002732A1 DE 19803002732 DE19803002732 DE 19803002732 DE 3002732 A DE3002732 A DE 3002732A DE 3002732 A1 DE3002732 A1 DE 3002732A1
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DE
Germany
Prior art keywords
chamber
immersion bath
inlet
liquid
outlet
Prior art date
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Withdrawn
Application number
DE19803002732
Other languages
English (en)
Inventor
Ing.(grad.) Hans Hadersbeck
Hubert 8000 München Zukier
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
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Publication of DE3002732A1 publication Critical patent/DE3002732A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C3/00Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
    • B05C3/02Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
    • B05C3/12Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating work of indefinite length
    • B05C3/125Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating work of indefinite length the work being a web, band, strip or the like
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

  • Uorizontal-Durchlauf-Tauchbad
  • Die Erfindung betrifft ein Rorizontal-Durchlauf-Tauchbad zur doppelseitigen Obetflächenbehandlung von bandfö.rmigem Material mit flüssigen Medien.
  • In der DE-PS 24 46 368 ist ein Verfahren zur Herstellung von Mikroverdrahtungen auf einem flexiblen, isolierenden Trägerband beschrieben und dargestellt. Bei diesem Verfahren wird die metallseitige Fotolackschicht nach dem Belichten einseitig entwickelt, wobei das laminierte Band mit der metallseitigen Fotolackschicht schwimmend über die Oberfläche eines Entwicklerbades geführt wird.
  • Darüber hinaus haben sich auch horizontale Durchlaufanlagen, die durch Sprühen eine doppel oder einseitige Materialoberflächenbehandlung ermöglichen, bewährt. Derartige Anlagen dienen beispielsweise zum Reinigen von Leiterplatten, zum Entwickeln und Entschichten von Fotolacken und zum Ätzen.
  • Eine Anzahl der zur Herstellung von Leiterplatten und Folienschaltungen benötigten Flüssigkeiten neigen beim Versprühen aber zu starker Schaumbildung. Diese Schaum bildung kann zweitweise zur völligen Störung des Verfahrensablaufes führen. Die Schaumbildung wird durch Zu gabe von Antischaummitteln nicht beseitigt, sondern nur verringert.
  • Außerdem nelunen derartige Flüssigkeiten während des Sprühvorganges in verstärktem Maße Luft auf, was bei einigen zu chemischer Reaktion führt und damit einen vorzeitigen Verwurf, mindestens aber eine häufigere Regenerierung zur Folge hat. Zudem ist bei Flüssigkeiten mit gesundheitsschädlichen Bestandteilen die Aerosolbildung von Nachteil (Dichtungsprobleme, Absaugung). Besonders unangenehme Erscheinungen ergeben sich beim Ätzen mit heißer Salzsäure. Außerdem wird auch die beim Sprühen unvermeidlich starke mechanische Beanspruchung der behandelten Materialien vermieden.
  • Bei einer Tauchbehandlung treten die vorgenannten Nachteile nicht auf, jedoch ist eine geradlinige Materialdurchführung nicht mehr möglich. Bänder, die ein Tauchbad durchlaufen sollen, werden über Umlenkrollen mehrfach ein und hergebogen. Eine derartig starke Biegebeanspruchung führt bei empfindlichen Materialien zu ansteigender Fehlerhäufigkeit durch Materialbruch, Rißbildung in der Fotoresistabdeckung oder Ablösung von gering haftenden Oberflächen. Dickere oder härtere Bänder können in diesen Anlagen nicht verarbeitet werden.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, mit einfachen Mitteln eine zweiseitige Bandbehandlung mit der auch methode ohne Umlenkung zu ermöglichen, bei der die erwähnten Nachteile ausgeschlossen sind. Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß in einer wannenförmigen, mit einer Entlüftung versehenen Arbeitskammer zwei Schlitze für den Ein- und Auslauf eines Bandes vorgesehen sind, daß sich ferner der Querschnitt dieser Kammer in Richtung die ser Schlitze verengt und in der Kammer ein Flüssigkeitsstau auftritt, durch den das Band mittig hindurchgezogen wird. Die Arbeitskammer nach der Erfindung ermöglicht unter Beibehaltung des für einen günstigen Fertigungsfluß horizontalen Durchlaufes unter Berücksichtigung aller genannten Voraussetzungen und Bedingungen eine einwandfreie,-doppelseitige Durchlauf-Tauchbad-Bandbe- handlung von bandförmigem Material verschiedener Breite und Dicke ohne Biegebeanspruchung0 Nach einer Weiterbildung der Erfindung geht die Kammer in der Mitte der Oberseite in einen Turm über0 Der Turm ermöglicht das ungehinderte Aufsteigen der Gasblasen aus der Flüssigkeit, so daß eine rasche Füllung bis zum vorgesehenen Niveau erreicht wird, Nach einer Weiterbildung der Erfindung ist in der Ar beitskammer oben und unten je ein Flüssigkeitszulauf vorgesehen, durch die das flüssige Arbeitsmedium mit geringem Überdruck zugeführt wird0 Durch diesen überdruck erzielt man einen Flüssigkeitsstau, der im Zusammenhang mit der Querschnittsverengung der Kammer die Flüssigkeit in der Kammer über das Niveau des Ein- und Aus laufs an steigen läßt.
  • Nach einer weiteren Ausgestaltung der Ereindung weist der Ein - und Auslauf der Kammern für das Band lippenförmige Abrundungen auf. Dadurch wird erreicht, daß die gleichmäßig ausströmende Badflüssigkeit auf den runden Lippen des Bandein- und Auslaufes eine Flüssigkeitsschicht bildet, die eine unmittelbare Reibung der Bandoberfläche auf dem Bandein- bzw. Auslauf verhindert0 Nach einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist die Oberseite der Arbeitskammer mit herausnehmbaren Deckeln ausgebildet. Dies hat den Vorteil, daß mit der Anlage auch eine einseitige Bandbehandlung zuverlässig durch führbar ist, wenn die Deckel entfernt und der obere, im Kammerturm befindliche Flüssigkeitszulauf gesperrt wird0 Die Oberseite des Bandes wird in diesem Falle von der in der Unterseite der Arbeitskammer strömenden Flüssigkeit nicht berührt.
  • Die Erfindung wird anhand der Figur erläutert.
  • In einer wannenförmigen Arbeitskammer 11 ist unten ein Flüssigkeitszulauf 1 und oben ein weiterer Flüssigkeitszulauf 2 vorgesehen. Bei 3 ist ein Bandein- und bei 4 ein Bandauslauf angeordnet. In einem Arbeitskammerturm 5 befindet sich neben dem Flüssigkeitszulauf 2 eine Öffnung 6 zur Gasableitung. Dem Bandeinlauf 3 ist eine Auffangrinne 7 und dem Bandauslauf 4 eine Auffangrinne 8 zugeordnet. Die obere Abdeckung der Arbeitskammer besteht vorzugsweise aus herausnehmbaren Deckeln 9 und 10.
  • Mit 12 ist der Badspiegel in Höhe der Unterkante des Arbeitskammerturmes 5 angedeutet.
  • Ein zu bearbeitendes und in der Figur nicht dargestelltes Band wird waagrecht durch das Horizontal-Durchlauf-Tauchbad geführt. Das flüssige Arbeitsmedium wird durch die in der Mitte der Arbeitskammer unten und oben befindlichen Zuläufe 1, 2 in die Arbeitskammer 11 gepumpt und verläßt diese an zwei Seiten durch den Bandein- und -auslauf 3, 4. Die hierbei entstehende Flüssigkeitsströmung beaufschlagt die Bandoberfläche beidseitig gleichmäßig und intensiv. Bedingt durch die Querschnittsverengung der Kammer bildet sich ein Flüssigkeitsstau, der die Flüssigkeit in der Kammer ansteigen läßt. Bei Einstellung eines geringen Überdruckes im Flüssigkeitszulauf bleibt der Badspiegel 12 in Höhe der Unterkante des Arbeitskammerturmes 5. Die gleichmäßig ausströmende Badflüssigkeit bildet auf den runden Lippen des Bandein-und -auslaufes eine Flüssigkeitsschicht, die eine unmittelbare Reibung der Bandoberfläche verhindert. Die auslaufende Flüssigkeit sammelt sich in den Auffangrinnen 7, 8 und läuft durch einen nicht dargestellten Schlauch in einen ebenfalls nicht gezeichneten Vorratsbehälter zurück.
  • Die Länge der Arbeitskammer bestimmt die Durchlaufgeschwindigkeit des zu bearbeitenden Bandes.
  • Da für den Banddurchlauf in dieser Funktionseinheit weder Eührungsrollen noch Umlenkrollen erforderlich sind, können Bänder unterschiedlicher Breite problemlos bis zum Rand behandelt werden0 6 Patentansprüche 1 Figur Leerseite

Claims (1)

  1. Patentansprüche 1. Horizontal-Durchlauf-Tauchbad zur doppelseitigen Oberflächenbehandlung von bandförmigem Material mit flüssigen Medien, dadurch g e k e n n z e i c h n e t daß in einer wannenförmigen, mit einer Entlüftung (6) versehenen Arbeitskammer (11) zwei Schlitze (3, 4) für den Ein- und Auslauf eines Bandes vorgesehen sind, daß sich ferner der Querschnitt dieser Kammer in Richtung dieser Schlitze verengt und in der Kammer ein Flüssige keitsstau auftritt, durch den das Band mittig hindurchgezogen wird.
    2. Tauchbad nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß die Kammer (11) in der Mitte der Oberseite in einen Turm (5) übergeht.
    5. Tauchbad nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß in der Arbeitskammer oben und unten je ein Flüssigkeitszulauf (1, 2) vorgesehen ist und das flüssige Arbeitsmedium durch diese Zuläufe mit geringem tberdruck zugeführt wird.
    4. Tauchbad nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß der Ein- und Auslauf (3, 4) der Kammer (11) für das Band lippenförmige Abrundungen aufweist.
    5. Tauchbad nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß unter dem Bandein- und -auslauf (3, 4) Flüssigkeitsauffangrinnen (7, 8) vorgesehen sind.
    6. Tauchbad nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß die Oberseite der Arbeitskammer (11) mit herausnehmbaren Deckeln (9, 10) ausgebildet ist.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0111644A2 (de) * 1982-09-27 1984-06-27 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung von Halbleiterchips-Filmträgern
US5169449A (en) * 1990-07-31 1992-12-08 Raught Jerry E Apparatus for applying joint compound to corner beads
WO1997008589A1 (de) * 1995-08-23 1997-03-06 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zum filmstrippen
EP0896251A1 (de) * 1997-07-28 1999-02-10 Agfa-Gevaert N.V. Verfahren zur Herstellung einer Litho-Druckplatte

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1212840B (de) * 1963-09-25 1966-03-17 Agfa Ag Verfahren zur Waermeentwicklung von Halogen-silberschichten enthaltenden lichtempfindlichen Materialien und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
DE6605183U (de) * 1967-06-30 1970-04-16 Agfa Gevaert Ag Entwicklungsvorrichtung fuer fotografische schichttraeger.
DE2702335A1 (de) * 1976-02-09 1977-08-11 Du Pont Vorrichtung zum behandeln einer lichtempfindlichen schicht auf einem substrat
US4116159A (en) * 1977-04-25 1978-09-26 M. Lowenstein & Sons, Inc. Substrate passes through pool confining wall coating apparatus
DE2731045A1 (de) * 1977-07-08 1979-01-25 Agfa Gevaert Ag Vorrichtung zur nassbehandlung fotografischer schichttraeger

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1212840B (de) * 1963-09-25 1966-03-17 Agfa Ag Verfahren zur Waermeentwicklung von Halogen-silberschichten enthaltenden lichtempfindlichen Materialien und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
DE6605183U (de) * 1967-06-30 1970-04-16 Agfa Gevaert Ag Entwicklungsvorrichtung fuer fotografische schichttraeger.
DE2702335A1 (de) * 1976-02-09 1977-08-11 Du Pont Vorrichtung zum behandeln einer lichtempfindlichen schicht auf einem substrat
US4116159A (en) * 1977-04-25 1978-09-26 M. Lowenstein & Sons, Inc. Substrate passes through pool confining wall coating apparatus
DE2731045A1 (de) * 1977-07-08 1979-01-25 Agfa Gevaert Ag Vorrichtung zur nassbehandlung fotografischer schichttraeger

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0111644A2 (de) * 1982-09-27 1984-06-27 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung von Halbleiterchips-Filmträgern
EP0111644A3 (de) * 1982-09-27 1985-08-21 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung von Halbleiterchips-Filmträgern
US5169449A (en) * 1990-07-31 1992-12-08 Raught Jerry E Apparatus for applying joint compound to corner beads
WO1997008589A1 (de) * 1995-08-23 1997-03-06 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zum filmstrippen
US6059919A (en) * 1995-08-23 2000-05-09 Atotech Deutschland Gmbh Film-stripping process
EP0896251A1 (de) * 1997-07-28 1999-02-10 Agfa-Gevaert N.V. Verfahren zur Herstellung einer Litho-Druckplatte
US6004727A (en) * 1997-07-28 1999-12-21 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate

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