JPS6081613A - ウエハ整合装置 - Google Patents

ウエハ整合装置

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JPS6081613A
JPS6081613A JP18840283A JP18840283A JPS6081613A JP S6081613 A JPS6081613 A JP S6081613A JP 18840283 A JP18840283 A JP 18840283A JP 18840283 A JP18840283 A JP 18840283A JP S6081613 A JPS6081613 A JP S6081613A
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JP
Japan
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wafer
stage
outer edge
detected
flat
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JP18840283A
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English (en)
Inventor
Naoto Nakajima
直人 中島
Minoru Tanaka
稔 田中
Susumu Aiuchi
進 相内
Masayuki Kawarada
政幸 川原田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7088Alignment mark detection, e.g. TTR, TTL, off-axis detection, array detector, video detection

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本元明はつ毛ハ外周に非接触で外縁位置を検出しその結
束からクエへのオリニーテングツラットの向きと回転中
心の位置を所尾の方向、位置に整合させることに係シ、
・待に高果清度LSI従来の回転中心Iを基準にクエへ
を整&さ−bるウェハ整合装置につぃ゛C第1図及び第
2図を用9て説明する。
クエハ金上面に真空固定でき、かつ、2@回CK回転可
能なウェハチャック1の周囲には、6個の心に一うが同
期して径方向に直動可能に設けられ、さらに、2個一対
のオリニーテングアラットローラ3が所定のオリニーテ
ングツラットの辺と平行度を保ったまま直動0T能に設
けられていて、その上で、オリニーテングツラットがオ
リエーテングフラットロ−26の位置に達したことを検
出できる演出手段((閃醍略)を備えた構成となってぃ
た。
次いて、この従来のウェハ整合装置の動作について説明
する。
まず、ウェハ4は搬送ベルト等の搬送機Wl(図省略ン
によってウェハチャック1上へ搬送される。次いて請求
心ジー22がウェハチャック1の中心方向へ直動し、ウ
ェハ4の外縁を周囲から押しウェハ4をウェハチャック
1上で移動させ、ウェハ4の口伝中心Iをウェハチャッ
ク1の回転軸上に位置させ、この状態でウェハ4をクエ
ハテヤツク1に真空固定する(回転中心合せ)。その後
、求心ローラ2を待避させるかまたは請求心ロー22を
クエへ4に接しさせた状態で、ウェハチャック1をウェ
ハ4とともに回転させ、検出手段がウェハ4のオリニー
ティングフラット@aを検出した位1虚で、ウェハチャ
ック1の回転?停止する。この状態で、ウェハチャック
1を外部から自由に回転可能にした後、オリニーティン
グ7.7ツト” −23トpl ホ対向しCいるウェハ
4のオリニーティングフラットにオリニーティングフラ
ットローラ3を押し当て、オリニーティングフラットの
方向を所定の向きIC一致さき(向き合せ)、さらに、
ウェハチャック1の回転を固定し、オリニーティングフ
ラットローラ6および心ローラ2を待避させ、ウェー・
整合動作を完了する。
従って、この従来のウェハ整合装置には次に示すような
欠点があった。
t 回転中心合せ時には心r+−22が、オリニーティ
ングフラット向き合せ時にはオリニーティングフラット
ローラ3がウェハ4の外縁部に直接接触する7bめ、ウ
エノ・4外縁部の欠はレジストのはく離を生じやすく、
また、これらの欠け、はく離による破片が異物となり、
ウェハの歩留シ(チップ良品率)全低下させる原因とな
るという欠点があ−)た。。
2、 ウェハ整合を、ウエノ)4とローラ2.3とのご
くわずかな面積(周長)の接触点を介して行なっている
ため、LSI4.造過橿で接触点に欠けを生じた場合、
あるいは、異物が付着した場合などでは著しくウェハ整
合装置が損なわれると15欠点があった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、ウェハ外周に非接触で外縁位置を検出
し、その結果から、ウェハのオリニーティングフラット
の方向と回1訳中心の位置を所定の方向、位置に整合さ
せることで、クエへの欠け、レジストのはく離等の欠損
を防止した1軸の透過光Ar1J用の光学的ウェハ縁検
出部を備える簡素かつ高精度なウェハ整合装置を提供す
ることにある。
〔発明の概要」 本発明は、ステージ構成として実用性、精度が高いXY
Δθステージ上にθステージを設ける構成を用い、さら
に、非接触検出手段として、単純6)り高精度を光学式
ラインイメージセンサ(COD)を1軸だけ用いる構成
とし、前述の目1的を安画で力λつ高精度をねらい、実
現するアルゴリズムを検討し案出したものである。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を第3図〜第9図により具体的
に説明する。
まず、本実施列の構成について説明する。ま・ず、ステ
ージベース5上には、Xステージ7が・ガイド部材6お
よびローラ列によりXl111か向に゛直助町徒に支持
され、さらに、Xステージ7上・部にはローラ列13を
介してYステージ14がY5軸方向に直動町、1目に支
持されている。その上、・Yステージ14上面には、上
下方向には3個の鋼球26で支持され、水平面内では6
点のローラ25により2軸回りに揺動可能にへ〇ステー
ジ24が支持されている。Xステージ7はナツト8、ボ
ールねじ9および′バネ12によりX軸方向に立1N決
めされ、ステッピングモータ11によりボール。
ねじ9を回転できる1造となっている。Yステージ14
訃よびΔθステージ24ば、ローラ15ある^はレバー
27、ローラ28を介してX軸方向には直励可徒でかつ
、Y軸方向するlA(よZ軸回りの回1妖角をYスライ
ダ16およびバネ25もしくはΔθスライダ29および
バネ65によ妙現制され−Cいる。さらにYスライダ1
6はステージベース5上に固定されたガイド部材22と
o −5列21を介してY軸方向に直紡可能に支持され
、ナツト17およびボールねじ18によりそのY軸方向
立置が規制され、ボールねじ1Bはステッピングモータ
20により回転可能な購、清となっている。
その上で、Yスライダ16側面に同謙にローラ列64を
介してΔθスライダ29がY軸方向に直動可能に支持さ
れ、Yスライダ16に支持されたステッピングモータ5
6、送りねじ31およびΔθスライダ29内に設けられ
たナツト60によって、Yスライダ16に対するY軸方
向の相対的な位置を規制され、かつ、Yスライダ16と
ともにY軸方向に直動するように設けられている。これ
らの構造により、Δθステージ24の回転中心の位置を
、X軸シよびY@力方向±15翼の範囲内でステッピン
グモータ11および20により1.25μmステップで
制御可能であり、かつ、Δθステージ24の2軸回りの
揺動角を、±0,02rad(±1.1°)の範囲内で
ステッピングモータ33により1 、25 X 11T
’radステツプで制御することが可能な構成となって
いる。
これらの構造り池に、Δθステージ24F面にはステッ
ピングモータ57が、軸心をΔθスf −ジ24の回転
中心と一致さきて設けられ、さらにステッピングモータ
37の軸にはウェハチャック36/l!聞定され、襖限
に回転可能なθステージ(分解能1600ステップ/回
転)を形成して′ハる。
な訃、39はテフロン樹脂製の7−ルリ/グであり、ス
テッピングモー25フ0回転の抵抗を付すロすることな
しに、軸内に設けられた真窒鏝烙へ負圧を供給する作用
を成tものでら6゜これにより、ウェハチャツク36上
面の溝部40を負圧にし、クエへ41をウェハチャック
36上面に真空固定することができる。
さらに、42はハロゲンランプ46、集光レンズ、拡大
レンズ44、ミラー45、シリンドリカルレンズ46お
よびラインイメージセ/す(CCD)47から成るウェ
ハ外縁位置の演出部でIりる。
ハロゲンランプ45により背面小ら照明されたウェハ4
1の影を拡大レンズ44により3F1!に拡大してライ
ン・イメージセ/?47上に投影することによってフェ
ノ・外縁位置を5Bmの分解能で検出する構成である。
この11か、本実施列は第6図に示す制御系を備えてい
る。ナなtりち、ラインイメージセ/147で検出した
フェノ・41の外縁位置の情報を、センナコントローラ
49およびインターフェース回路52を峰でマイクロコ
ンビ具−夕55へ伝えこれをマイクロコンビエータ53
内に記憶し、さらに、演算処理することが可能であり・
その上で、マイクロコンピュータ53の指示をインター
フェース回路52.パルスモータコントローラ51をi
aてドライバ50へ伝える・ことで、4f@のステッピ
ングモータを自在に制御することが可能な構成となって
いる。
以上のように、本実施例は、X、Y、Δθに制御可能な
ステージの上に1回転以上回転可能なθステージを設け
、さらに、1@の光学的ウェハ外周位置検出手段と、フ
ェノ)外周立置の情報を記憶、演算処理を行い、この結
果をもとにX、Y1Δθ、θの4つのステージを自在に
制御卸しつる手段と備えた構成となっている。なお4日
はウェハ搬送ベルトであり、X軸方向に置載・吻を搬送
すると共に、それ自体上下動可能とな・でいる。
欠いて、本実施列の動作にり・ハて説携する。
まず、フェノ)41は、搬送ベルト48上をig4図で
左方力\ら右方ヘクエノ・41の外縁が演出光学系の中
心に達する立直までべられ、この位置で搬送ベルトを停
と、下降させて、フェノ・チャック36上に載置さル、
真空固定される。このとき、ウェハ41の回転中心υは
、例えば、第7図1a)に示すように、フェノ)チャッ
ク360回転中心0とは必ずしも一致せず、Oを基準と
してX軸方向については一1困から+5署の範囲内へ・
こ、Y軸方向については±5調の範囲内に立置し、オリ
ニーティ/グツラットは任意の方向を向いている。
欠いて、フェノ)チャック36を回転させながらウェハ
チャック回転中心Oとフェノ141の外縁までの長さ■
)を検出部42を用いて各回転角に対して検出する。こ
の動作をウエノ・チャック36の回転につめて行なえば
、例えば第7図fa)に示すような位置にウエノ・41
が真空固定されて・ρた場合、第7図tblに示すρと
θの関係が得られる。
オリニーティングフラット部では、第7図(b)に示す
ように、急峻な曲線(近似的には余弦曲線を示すととも
に、この曲線が最小となる回転角θ1が、オリニーティ
ングフラットの辺とウエノ)チャック56の回転中心O
と検出部を結ぶ直線とが直交する角度となるという特徴
がある。そこで、本実施例では、ウニ・・チャック56
を回転させながら、ウニへ緑までの距離ρを各回転角に
対して検出し、ρが急峻に減少し始めたならばオリニー
ティング7ラツト部が検出位置に差しかかっているもの
と判定して、各回転角に対するρの値全マイクロコンピ
ュータ53内のメモリに記憶させる。さらに、ウエノ)
チャック56の回転と距離ρの検出および記憶を続け、
距離ρが最小値を過ぎ、急峻な増加の後偏心による変化
に距離者の変化が落ち着いたならば、オリニーティング
フラット部が検出部を通過したものと闇定し、ウェハチ
ャック56の回転および距離ρの検出を一時停止する。
ここで、メモリに記憶した距離ρと回転角のデータのう
ち、窮7図(b)内にCで示t−&jt線の囲み内のゲ
ータを用^、減少、増加時の距離ρの変化がその回転角
θ2を中心として対称となる回転角θ2を計算する。こ
のようにしてめた回転角θ2は、フェノ−チャック56
の回転中心Oと検出部を、晴ぶ直線とオリニーティング
フラットの辺が直交する角度に幾度学的には一致し、し
たがって、オリニーティングフラットの向きが±2X1
0rad(±4秒)の・1度で演出可能となる。
以上の手順によりオリニーティングフラットの向きが高
、i′育度で検出できたため、オリニーティングフラッ
トの位置する角度θ2のθステージのステップ送9角度
に対するrルをΔθステージを揺動さ亡補正させた庚、
ウェハ41の口伝中心υをクエハチャツク560回転中
心0[−、反させる補正量の噴出を行う。
本実施例では、補正量の検出方法として、第8図に示す
オリニーティング7ラツト部以外の円周部3点のウェー
・外縁までの距離ρの検出結果から補正量をめる方法と
、第9図に示すように、オリニーティングフラット部以
外の4点での距離ρの検出結果から補正量をめる方法の
2.11の方法が1択できるようになっている。
第8図に示す3点検出(’s J% k)による方法ふ
ら説明する。まず、オリニーティングフラットが演出部
に位置する角度θ2よりもウェハチャック66を、本実
施列では90°だけ回転させ、ウェハ41のエツジまで
の距離ρを検出しaとする。続いて、ウェハチャック3
6を90°rつ回転させ、距離ρを演出してそれぞれb
%Cとする。仁の後、オリニーティングフラットを所定
の方向(本実施列ではオリニーティングフラットの辺と
ウェハチャック66と検出点を結ぶ直線が直交する回転
角θ2)に合せ次式によりX軸方向の補正量をめる。
e = (c −a ) / 2 ・・・・・・・・・
・・・(す次いて、y軸方向の偏心量を0と仮定してウ
ェハ41の半径r =7) q jA近1以直roを次
式で計算する。
ra=″(c 十a ) / 2 ・・・・・・・・・
・・・(2)この(aを用いてY軸方向の補正ikfの
初切吐似1直をめる。
f ’ ”” & −4−、=、、−、H51この(a
、foを初期直としで、次に示す収束計算を行なわせれ
ば、Y軸方向の補正ifがめられる。
式(4)の収束性は良好でL==6で誤差0.4μm以
内の精度のY軸方向補正ifを得ることができ、したが
って、クエへ41のX袖、Y軸方向の補正量e、fを検
出できる。
続ハて、第9図に示す4点(L、八A%J)検出による
方法を説明する。まず、オリニーティングフラットが検
出部41iC位置する角度θ2より、本実施 ・例では
45″だけクエハヤヤック36を回転させエツジ距離ρ
を検出しaとノーる。引き、涜^て、906ずつウェハ
チャックを回転させてエツジ距離ρを険出し、それぞれ
を存、a、dとする。その浸、前述の方法と回議にオリ
ニーティングフラットを所定の方向に合せ、xY座像系
を〜45@反時計方向に回転した座1系での補正F1*
、Jこのt4を座傾変廃すれば直ちにXY座傾系での補
正量がまる。
ただし θ=−45 よって、XY軸方向の補正量が検出できた。
以上のように、2種の方法のうちいずれを用いてもXY
軸方つの補正量e%fが検出でき、この補正量e、fに
相当するステップ数だけステッピングモータj1,20
を回転することによって、クエへ回転中心νを補正前に
はウェハチャック36の回転中心が位置してハた所定の
位置へウェハ41の回転中心pを移動さ亡、ウェハ整合
動作を完rする。
なお、本実施列では、オリニーティングフラットの整合
方向としてはオリニーティングフラットの辺がX軸と平
行になる方向を用い、さらに、クエへの回転中心位置は
I!71期のウェハチャフ2360回転中心に選んで説
明したが、オリニーティングフラットの整合方向として
は560”Vsずれの方向でも良く、またウニへ回転中
心の位置もXYス戸−ジのストロークの許容する範囲内
で任意の位置に設定することが可能である。
本実施列によれば、以下に示す効果がある。
t ウェハ外縁に完全に非接触で整合動作が行なわれる
ため、クエへの欠け、レジストのはく離といった欠損の
発生がなく、また、これらの発生に起因する異物も発生
しないため、LSIチップの歩留りが向上するという効
果がある。
2、 クエハ緑検出に透過光を用いているため、ウェハ
表面の状態、縁部の面取り、だれの大きさに影響されに
くハ安定した検出性aFAを実現できる効果がある。
五 検出光学系を1軸だけ備えれば整合動作を行うこと
が町自ヒなため、整合装置のフェノ・チャックの周囲に
は十分な空間を設けることが可能となり、搬送機構、搬
送経路を設定するときの d自由度が大きいという効果
かちる。
4、 クエ・・の最終的な複合位置は演出系の位置方向
に無関係に設定することが可能なため、汎用性が高く、
各櫨装置組み込みが容易に行なえるほか、閏々の装置に
m+込んだ後も、装置運用上の自由度が高いと°ハう効
果がちる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、ウェハ外周に非
接触で外縁位置を検出し、その結果から、ウェハのオリ
ニーティングフラットの方向と回転中心の位置を所定の
方向、位置に整合できるので、クエへの欠け、レジスト
のはく離を防止し、異物の発生を抑え、LSIチップの
歩留りを向上させる効果がちる曲、1軸の透過光利用の
光学的検出部を設けることで検出できるので、ウェハ外
周部の表1酊状態、形状によらず安定した検出性能を実
現するとともに、搬送系の設定に大きな自由度が有る、
ちるいは、構成が簡単でちるなどの効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来装置の心動作を示すモ面図第2図は、従
来装置のオリニーティングフラット合せ動作を示t4面
図、第3図は、本発明の実施列を示す平面図、第4図は
、第1図のA−A線断面図、第5図は第1図のB−B線
断面図、第6図は、実施例の制御系を示すブロック図、
第7図は、オリフラ検出の原理図、第8図は第1の濡出
方法を示す図、第9図は第2の偏心検出方法を示す図で
ある。 5・・・ステージベース 7・・・Xステージ8・・・
ナツト 9・・ボールねじ 11・・・ステッピングモータ 14・・・Yステージ
15・・ローラ 16・・・Yスライダ17・・・ナツ
ト 18・・・ボーりねじ、20・・・ステッピングモ
ータ、 24・・・Δθステージ、 25・・・3点ローラ、2
6・・・m球(3点) 27・・・レバー28・・・C
I −9、29・・・Δθスライダ、50・・・ナツト
 51・・・送り12じ33・・・ステッピングモータ 66・・・クエハチャック(θステージ)37・・・ス
テッピングモータ 39・・・クール41・・・クエハ
 42・・・検出部 43・・・ハロゲンランフ44・・・拡大レンズ45・
・・ミラー 46・・・シリンドリカル、レンズ 47・・・ラインイメージセyt(COD)48・・・
搬送ベルト 49・・・CODコントローラ 50・・・ステッピングモータ、ドライバー51・・・
コントローラ 52・・インターフェース 53・・・マイクロコンピュータ。 第 1 虐 第 2囚 27 第 3 図 7”’ ”” 35 2436 2523・・・トr 1山 7 0 d6 \」 第5固 第 7区 第 b 口 !+ 20 Jj 、j’/

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、LSIII造装置のウェハ整合装置においてX%Y
    2軸方向に可動なステージの上に、Z軸回りに揺動可能
    なΔθステージを載せ、さらにこのΔθステージ上に回
    転軸を一散させた状態で少なくとも1回転以上の回転が
    可能なθステージを設け、その上で、透過光利用のウェ
    ハ外縁位置検出手段を1軸備え、この検出手段の検出l
    直を記憶、演算する手段を有し、さらに、オリヱンテー
    リング、フラット部以外の3ないしは4点でウェハ外縁
    位置を検出した結果からウェハのθステージに対する偏
    心を検出し、この偏心量をウェハのオリエンテーリング
    、フラットの向きを合せた上で、XYテーブルの移動で
    補正しウェハを整合させることを特徴とするウェハ整合
    装置f。
JP18840283A 1983-10-11 1983-10-11 ウエハ整合装置 Pending JPS6081613A (ja)

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