JPH09219437A - 位置決め装置 - Google Patents

位置決め装置

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Publication number
JPH09219437A
JPH09219437A JP4951096A JP4951096A JPH09219437A JP H09219437 A JPH09219437 A JP H09219437A JP 4951096 A JP4951096 A JP 4951096A JP 4951096 A JP4951096 A JP 4951096A JP H09219437 A JPH09219437 A JP H09219437A
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JP
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positioning
wafer
notch
fitting member
substrate
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JP4951096A
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English (en)
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Masaaki Aoyama
正昭 青山
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ノッチ付きウエハを、0度、90度の両方向
に高精度な位置決めを行なう。 【解決手段】 Y軸方向に進退自在の嵌合部材26とX
軸方向に進退自在の嵌合部材28とが設けられ、これら
に対向して各2本の位置決めピン(内1本は共通)が設
けられている。このため、基板Wがその切欠きがY軸方
向に向いた実線位置にある状態では、嵌合部材26と、
位置決めピン16、18とによって位置決めが行なわ
れ、基板Wがその切り欠きがX軸方向に向いた仮想線の
位置にある状態では、嵌合部材28と、位置決めピン1
8、20とによって位置決めが行なわれる。従って、ノ
ッチ付きウエハWを、0度、90度方向の両方向で高精
度に位置決めすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は位置決め装置に係
り、更に詳しくは半導体製造工程におけるウエハのプリ
アライメント用として好適な位置決め装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造のためのリソグラフィ工程で
用いられる露光装置としては、現在縮小投影型露光装置
(ステッパ)が主流となっている。この縮小投影型露光
装置では、原板(レチクル)に形成された回路パターン
をウエハ上に縮小投影して1ショット露光転写しては、
ウエハを一定量移動させることを繰り返す、いわゆるス
テップ・アンド・リピート方式で露光が行なわれる。か
かる光学的リソグラフィ用のステッパは、通常、ウエハ
を高速に2次元移動させるステージを備えているが、こ
のステージ上にウエハが予め定められた誤差範囲内で位
置決めして載置される必要がある。この種の位置決めに
は、一般にウエハの結晶方向を規定する直線的な切り欠
き、すなわちオリエンテーションフラット(以下、「オ
リフラ」と略称する)を用いてウエハを所定の方向に配
向している。また、オリフラは、ウエハ上に既に形成さ
れた回路パターン上に別のパターンを重ね焼きするた
め、別の原板(レチクル)上に描画されている該別のパ
ターンの投影像とを正確に重ね合わせるための概略アラ
イメント(プリアライメント)にも用いられる。
【0003】通常、このプリアライメントは2段階で行
なわれている。すなわち、ウエハをステージに移送する
前に搬送装置内でまずウエハのプリアライメントが行な
われ、次いで搬送アームやスライダ等を用いてウエハは
ステージ上に載置された後、このステージ上で再度ウエ
ハのプリアライメントが行なわれる。この2回のプリア
ライメントによってステージに対するウエハの位置決め
精度を向上させている。また、各プリアライメントにお
いてはオリフラの方向を0度及び90度の2方向(すな
わちステージの移動方向である2次元方向)のいずれか
を選択的に指定できるようになっている。それはウエハ
の結晶構造に合わせて半導体チップの特性を変えるとと
もに回路パターンの設計上からくる正方形及び長方形の
露光フィールド等に対応するためである。
【0004】図5には、不図示のステージ上でオリフラ
を有するウエハのプリアライメントを行なうための、従
来のウエハホルダの平面図が示されている。ここで、図
5を用いて従来のウエハのプリアライメントの様子を説
明する。不図示の搬送アーム及びスライダによってウエ
ハホルダ120上にウエハWが載置されると、このウエ
ハWは、プランジャ(押圧部材)123によって図5に
おける水平方向と垂直方向に対し45度を成す方向に押
圧され、図5における水平方向に沿って所定間隔で配置
された一対の位置決めローラ125a、125b、及び
垂直方向に沿って所定間隔で配置された位置決めローラ
126a、126bの内の所定の3つに当接して位置決
めが行なわれる。すなわち、図5に示される方向(0度
方向)にオリフラFが配置されている場合には、図6
(a)に示されるように、ウエハWが位置決めローラ1
25a、125b、126aに当接し、90度方向にオ
リフラFが配置されている場合には、図6(b)に示さ
れるように、ウエハWが位置決めローラ125b、12
6a、126bに当接して、それぞれ精度よく位置決め
される構成となっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】近年、米国の半導体製
造装置・材料関係のSEMI(Semiconductor Equipmen
t and Materials International )規格において、8イ
ンチ用ウエハでは図7(c)に示されるようなオリフラ
付きウエハに代わり、図7(a)に示されるようなV字
形の切り欠き(以下、「ノッチ」という)Nが形成され
たウエハ(以下、適宜「ノッチ付きウエハ」という)を
採用するように規定された。図7(b)には、同図
(a)の円A部分の拡大図(ノッチ部分の拡大図)が示
されている。このノッチNは、開角90度で深さ1mm
と規定されている。
【0006】しかしながら、上述した従来のウエハのプ
リアライント装置では、ノッチ付きウエハには対応でき
ず、ノッチ付きウエハを0度、90度方向の両方向に対
して十分な位置決め精度で位置決め(プリアライメン
ト)できる位置決め装置の出現が待望されていた。
【0007】本発明は、かかる事情の下になされたもの
で、その目的はノッチ付きウエハに対し、0度、90度
方向の両方向に対して高精度な位置決めを行なうことが
できる位置決め装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、外周部の一部にV字形の切欠きが形成された円板状
の基板を位置決めする位置決め装置であって、前記基板
の切欠きが所定の第1の回転位置にある状態で前記切欠
きに嵌合可能でかつ第1軸方向に進退可能な第1の嵌合
部材と;前記基板の切欠きが前記第1の回転位置と異な
る第2の回転位置にある状態で前記切欠きに嵌合可能で
かつ第2軸に沿って進退可能な第2の嵌合部材と;前記
第1の嵌合部材に対向して且つ前記基板に同時に外接可
能な位置に配置された少なくとも2本の第1軸方向位置
決め用の位置決めピンと;前記第2の嵌合部材に対向し
て且つ前記基板に同時に外接可能な位置に配置された少
なくとも2本の第2軸方向位置決め用の位置決めピンと
を有する。
【0009】これによれば、搬送段階のプリアライメン
トにより基板の回転方向がある程度追い込まれ、基板の
切欠きが所定の第1の回転位置にある状態では、第1の
嵌合部材が第1軸方向に沿って進んで基板の切り欠きに
嵌合し、さらに第1の嵌合部材がその方向に進むと、第
1軸方向位置決め用の位置決めピンが基板の外周部の2
箇所以上の点に当接し、少なくとも3点(第1の嵌合部
材及び第1軸方向位置決め用の位置決めピン)で基板が
切り欠き方向が第1軸方向に一致する状態で位置決めさ
れる。同様に、搬送段階のプリアライメントにより基板
の回転方向がある程度追い込まれ、基板の切欠きが所定
の第2の回転位置にある状態では、第2の嵌合部材が第
2軸方向に沿って進んで基板の切り欠きに嵌合し、さら
に第2の嵌合部材がその方向に進むと、第2軸方向位置
決め用の位置決めピンが基板の外周部の2箇所以上の点
に当接し、少なくとも3点(第2の嵌合部材及び第2軸
方向位置決め用の位置決めピン)で基板が切り欠き方向
が第2軸方向に一致する状態で位置決めされる。
【0010】従って、例えば、第1軸方向を0度方向、
第2軸方向を90度方向(又は−90度方向)に設定し
ておけば、例えばノッチ付きウエハに対し、0度、90
度方向の両方向に対して高精度な位置決めを行なうこと
ができる。
【0011】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の位置決め装置において、前記第1軸方向位置決め用の
位置決めピンの内の1本が前記第2軸方向位置決め用の
位置決めピンを兼ねた2方向位置決め用の位置決めピン
であることを特徴とする。
【0012】これによれば、第1軸方向位置決め用の位
置決めピンの内の1本が第2軸方向位置決め用の位置決
めピンを兼ねた2方向位置決め用の位置決めピンとされ
ていることから、第1軸方向位置決め用の位置決めピン
と第2軸方向位置決め用の位置決めピンとが別々に設け
られている場合に比べて位置決めピンの数を1本少なく
することができる。
【0013】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の位置決め装置において、前記2方向位置決め用の位置
決めピンを含む合計3本の第1軸方向位置決め用の位置
決めピンと第2軸方向位置決めピンとを備え、これらが
前記基板より幾分大径の円周上に当間隔で配置されてい
ることを特徴とする。これによれば、合計3本という最
低限の数の位置決めピンにより基板の切り欠き方向が第
1軸方向、第2軸方向となる2方向の位置決めができる
他、例えば、相隣合う位置決めピン同士が、第1軸、第
2軸に関して対称となる配置が可能となるため、位置決
め後に各位置決めピンから基板に加わる力が釣り合って
無駄な力が基板に作用することがない。また、第1軸方
向と第2軸方向とが、相互に直交する方向であっても、
基板より幾分大径の円周上に位置決めピンが配置されて
いるので、基板のローディングも円滑に行なわれる。
【0014】請求項4に記載の発明は、請求項1ないし
3のいずれか一項に記載の位置決め装置において、前記
第1の嵌合部材及び第2の嵌合部材が回転自在のローラ
により構成されていることを特徴とする。これによれ
ば、嵌合部材が基板の切り欠きに嵌合する際に、切り欠
き斜面とローラとが転がり接触をするので、嵌合が円滑
であると共に摩擦により塵埃等が発生するのを防止でき
る。
【0015】請求項5に記載の発明は、請求項1ないし
4のいずれか一項に記載の位置決め装置において、前記
各位置決めピンが、回転自在のローラにより構成されて
いることを特徴とする。これによれば、基板の外周部が
位置決めピン(回転自在のローラ)に接触した状態で、
基板が容易に回転するので、基板の回転に伴う発塵が防
止され、事前のプリアライメントの際の回転方向の位置
決めにあまり高精度が要求されなくなる。
【0016】請求項6に記載の発明は、請求項1ないし
5のいずれか一項に記載の位置決め装置において、前記
第1軸方向と第2軸方向とが直交2軸方向に設定されて
いることを特徴とする。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図1
ないし図3に基づいて説明する。
【0018】図1には、一実施形態に係る位置決め装置
10の平面図が示されている。この位置決め装置10
は、例えば露光装置のウエハステージ12上にノッチ付
きウエハWを位置決めするためのものである。この位置
決め装置10は、略正方形のウエハステージ12上に載
置された円板状のウエハホルダ13の中心部に設けられ
た円柱状のセンターアップ14と、ウエハホルダ13の
外周部3箇所の所定の位置(この配置については後述す
る)にそれぞれ設けられた位置決めピンとしての基準ロ
ーラ16、18、20と、ノッチが0度方向(図1にお
ける真下方向)に位置する状態でノッチ付きウエハWを
位置決めするための第1の位置決めハンマ22と、ノッ
チが90度方向(図1における右方向)に位置する状態
でノッチ付きウエハWを位置決めするための第2の位置
決めハンマ24とを備えている。
【0019】ここで、前記基準ローラ16、18、20
の配置について詳述する。第1の位置決めハンマ22の
先端部に設けられた第1の嵌合部材としての第1ローラ
26の回転中心及びセンターアップ14の中心を通る第
1軸(図1におけるY軸)と、第2の位置決めハンマ2
4の先端部に設けられた第2の嵌合部材としての第2ロ
ーラ28NO回転中心及びセンターアップ14の中心を
通る第2軸(図1におけるX軸)とを考える。基準ロー
ラ16、18、20は、以下の位置関係で配置される。
【0020】すなわち、基準ローラ16、18は、第1
軸(Y軸)に関して対称な位置で、ウエハWの位置決め
時のウエハWの中心に対する中心角が90度より若干大
きくなる位置に配置されている。また、基準ローラ1
8、20は、第2軸(X軸)に関して対称な位置で、ウ
エハWの位置決め時のウエハWの中心に対する中心角が
90度より若干大きくなる位置に配置されている。以上
の関係を満足する位置の一例として、この装置10で
は、センターアップ14の中心を中心とするウエハWの
半径より幾分大きな半径の円周上でX軸、Y軸に対し4
5度の角度を成す3つの位置に基準ローラ16、18、
20がそれぞれ配置されている。従って、相隣合う基準
ローラ16、18及び18、20の間隔は等しく、かつ
上記のウエハWの半径より幾分大きな半径の円周上では
周方向に90度間隔で配置される。このような配置にし
たのは、ウエハWのローディングの際に、基準ローラ2
0(又は16)が邪魔になることがなく、かつ2方向の
ウエハ位置決め位置間の中心ずれを小さくして、両方向
の位置決め位置での共通領域をウエハホルダ13の真空
吸着面積とする際に、この面積を損失なく大きくとるた
めである。真空吸着面積は、ウエハWの平坦度に影響を
与えるため、この面積は大きい方が望ましい。
【0021】前記センターアップ14は、ウエハステー
ジ12の面に直交する方向(図1の紙面直交方向)に往
復動(上下動)可能とされ、不図示の駆動手段によって
駆動されるようになっている。また、このセンターアッ
プ14は、その上面にウエハが載置される平坦面が形成
されている。
【0022】第1の位置決めハンマ22は、前記の如く
その先端に第1ローラ26が設けられ、不図示の駆動手
段によって第1軸(Y軸)方向に進退(往復動)可能と
されている。同様に、第2の位置決めハンマ24はその
先端に第2ローラ28が設けられ、不図示の駆動手段に
よって第2軸(X軸)方向に進退(往復動)可能とされ
ている。
【0023】なお、ウエハホルダ13のウエハ載置面3
4には、センターアップ14中心を中心とする同心円状
に複数本の溝30が所定間隔で形成され、各溝30には
吸気孔32がそれぞれ設けられ、ウエハ載置面34には
エアフロー用の排気孔36が半径方向に沿って所定間隔
で設けられている。
【0024】次に、上述のようにして構成された本実施
形態のアライメント装置10の作用を説明する。まず、
最初にノッチ付きウエハWをノッチNを0度方向にして
位置決めする(第1軸方向に位置決めする)場合につい
て説明する。
【0025】不図示のプリアライメント装置から受け渡
されたウエハは不図示のスライダにより搬送され、セン
ターアップ14に受け渡される。その後、スライダが後
退し、ウエハWを保持しているセンターアップ14が下
降し、ウエハWが載置面34上に載置される。このと
き、ウエハWはノッチNが第1の位置決めハンマ22の
先端に設けられた第1ローラ26に対向し、かつノッチ
Nと反対側の外周が第1ローラ26の反対側に位置する
基準ローラ16、18に対向した状態となっている。
【0026】次に、第1の位置決めハンマ22がノッチ
Nに向けて駆動されると、後述するようにして第1ロー
ラ26により、図2にの実線で示される位置にウエハW
が位置決めされる。この際、第2ローラ28がウエハW
の外周に干渉しない位置に第2の位置決めハンマ24は
退避している。
【0027】ここで、図3を参照しつつ、第1の位置決
めハンマ22によるウエハWの位置決め時の作用につい
て詳述する。第1の位置決めハンマ22がY軸方向上方
に付勢されると、第1ローラ26が移動してウエハWの
ノッチNに当接する。この当接時の状態が図3に示され
ている。ここで、実際には、第1ローラ26としては直
径3mm程度のローラが使用され、ノッチNは深さが1
mm、開角90度に形成されるので、図3では各部材の
大小関係が実際とは多少異なるが、説明を判り易くする
ためこのようにしている。
【0028】第1ローラ26が力PによってノッチNの
内部(V溝内部)に押し込まれると、力PはV溝の斜面
に沿った分力QとウエハWの回転方向の分力Rとに分け
られる。すなわち、第1ローラ26の押圧力によりウエ
ハWを回転させる力Rを生じ、ウエハWを所定量微小回
転させる。この状態から更に第1の位置決めハンマがY
軸方向上方に付勢されると、第1ローラ26がV溝内に
押し込まれ、ついには第1ローラ26がV溝の両斜面に
接触し、くさび作用でウエハWを移動させる力は左右で
釣り合い、第1ローラ26によってウエハWのノッチN
が0度方向(第1軸方向)に回転位置決めされ、最終的
にウエハWが基準ローラ16、18及び第1ローラ26
によって所定位置に位置決めされる。なお、この場合に
おいて、ウエハWの外周が基準ローラ16、18に当接
した状態で、図3に示される状態になっていたとして
も、前述した回転させる力Rの作用によりウエハWが回
転させられるが、この際基準ローラ16、18が回転す
るので、このウエハWの回転の際の摩擦の作用により塵
埃等が発生することが殆どない。
【0029】次に、ノッチ付きウエハWをノッチNを9
0度方向にして位置決めする場合について説明する。
【0030】不図示のプリアライメント装置から受け渡
されたウエハWは不図示のスライダにより搬送され、セ
ンターアップ14に受け渡される。その後、スライダが
後退し、ウエハWを保持しているセンターアップ14が
下降し、ウエハWが載置面34上に載置される。このと
き、ウエハWはノッチNが第2の位置決めハンマ24の
先端に設けられた第2ローラ28に対向し、かつノッチ
Nと反対側の外周が第2ローラ28の反対側に位置する
基準ローラ18、20に対向した状態となっている。
【0031】次に、第2の位置決めハンマ24がノッチ
Nに向けて駆動されると、前述したようにして、第2の
位置決めハンマ24により図2に仮想線で示される位置
にウエハWが位置決めされる。この際、第1ローラ26
がウエハWの外周に干渉しない位置に第1の位置決めハ
ンマ22は退避している。
【0032】以上説明したように、本実施形態の位置決
め装置10によると、今後8インチで普及が予想され、
あるいは12インチ等大形ウエハにおいて標準化されつ
つある、オリフラに代わるノッチ付きウエハに対して、
ノッチの0度方向と90度(又は−90度)方向との2
方向のウエハ位置決めに対する兼用が可能になると共
に、両方向の位置決め位置間のウエハの中心ずれが極め
て小さいことからウエハホルダ13の真空吸着面積を損
失なく大きくとれる。また、本実施形態の位置決め装置
10によると、従来のオリフラ付きウエハの0度−90
度位置決め装置と殆ど同レベル、同規模のシンプルで可
動部の少ない構成を採用し、しかも基準ローラ(位置決
めピン)の数を減じた基準ローラ3点式を採用している
のでコスト面での問題も生じない。
【0033】なお、上記の実施形態では、基準ローラを
3つ備えた基準ローラ3点式の位置決め装置について説
明したが、本発明がこれに限定されるものではない。例
えば、図4に示されるように、ノッチの0度方向、90
度方向に対し各2つ合計4つの基準ローラ50をウエハ
中心とノッチを通る軸に関し左右対象の位置に配置した
基準ローラ4点式、或いは更に多点式にすることもでき
る。
【0034】また、上記実施例では、基準ローラが定位
置に固定された場合について説明したが、基準ローラを
位置決めハンマと同様に半径方向に進退可能に構成して
もよい。なお、例えば、図1における第1ローラ26を
固定にし、基準ローラ16、18を同一速度でセンター
アップ中心に向かって同一距離移動させるか、あるいは
基準ローラ16、18を一体的に図1のY軸方向に沿っ
て下方に移動させるような構成を採用すれば、ウエハW
の0度方向の位置決めが可能となる。90度方向につい
てもこれと同様の構成を採用すれば、ウエハWの位置決
めが可能となる。
【0035】さらに、上記の実施形態では、露光装置に
おけるウエハステージ上のウエハホルダにウエハを位置
決めする装置に、本発明が適用された場合を例示した
が、本発明の適用範囲がこれに限定されるものではな
く、搬送系内のプリアライメント装置、イオン注入プリ
アライメント装置、ウエハ外周・オリフラ・ノッチ面取
り研磨装置、ウエハ赤外線測定装置、ウエハ検査装置、
ウエハ表面計測装置等の位置決め装置にも本発明は同様
に適用できるものである。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第1の嵌合部材及び第1軸方向位置決め用の位置決めピ
ンにより少なくとも3点で切り欠き方向が第1軸方向に
一致する状態で基板を位置決めできると共に、第2の嵌
合部材及び第2軸方向位置決め用の位置決めピンにより
切り欠き方向が第2軸方向に一致する状態で基板を位置
決めすることができ、例えば、第1軸方向を0度方向、
第2軸方向を90度方向(又は−90度方向)に設定し
ておけば、例えばノッチ付きウエハに対し、0度、90
度方向の両方向に対して高精度な位置決めを行なうこと
ができるという従来にない優れた効果がある。
【0037】特に、請求項3に記載の発明によれば、合
計3本という最低限の数の位置決めピンにより基板の切
り欠き方向が第1軸方向、第2軸方向となる2方向の位
置決めができる他、0度、90度方向に第1軸方向、第
2軸方向が定められている場合であっても基板のローデ
ィングを円滑に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施形態に係る位置決め装置の構成を概略的
に示す平面図である。
【図2】図1の装置の作用を説明するための図である。
【図3】第1ローラ(又は第2ローラ)がウエハのノッ
チに嵌合する際の作用を説明するための図であって、ウ
エハに作用する力を図解的に示す図である。
【図4】変形例を示す説明図である。
【図5】従来のオリフラ付きウエハの位置決め装置の構
成を示す平面図である。
【図6】図5の装置による位置決め状態を示す図であっ
て、(a)は0度方向の位置決め状態を示す図、(b)
は90度方向の位置決め状態を示す図である。
【図7】(a)はノッチ付きウエハの外観を示す図、
(b)は(a)の円A内の拡大図、(c)はオリフラ付
きウエハの外観を示す図である。
【符号の説明】
10 位置決め装置 16 第1軸方向位置決め用の位置決めピン 18 2方向位置決め用の位置決めピン 20 第2軸方向位置決め用の位置決めピン 26 第1ローラ(第1の嵌合部材) 28 第2ローラ(第2の嵌合部材) N ノッチ(V字形の切欠き) W ウエハ(基板)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外周部の一部にV字形の切欠きが形成さ
    れた円板状の基板を位置決めする位置決め装置であっ
    て、 前記基板の切欠きが所定の第1の回転位置にある状態で
    前記切欠きに嵌合可能でかつ第1軸方向に進退可能な第
    1の嵌合部材と;前記基板の切欠きが前記第1の回転位
    置と異なる第2の回転位置にある状態で前記切欠きに嵌
    合可能でかつ第2軸に沿って進退可能な第2の嵌合部材
    と;前記第1の嵌合部材に対向して且つ前記基板に同時
    に外接可能な位置に配置された少なくとも2本の第1軸
    方向位置決め用の位置決めピンと;前記第2の嵌合部材
    に対向して且つ前記基板に同時に外接可能な位置に配置
    された少なくとも2本の第2軸方向位置決め用の位置決
    めピンとを有する位置決め装置。
  2. 【請求項2】 前記第1軸方向位置決め用の位置決めピ
    ンの内の1本が前記第2軸方向位置決め用の位置決めピ
    ンを兼ねた2方向位置決め用の位置決めピンであること
    を特徴とする請求項1に記載の位置決め装置。
  3. 【請求項3】 前記2方向位置決め用の位置決めピンを
    含む合計3本の第1軸方向位置決め用の位置決めピンと
    第2軸方向位置決めピンとを備え、これらが前記基板よ
    り幾分大径の円周上に当間隔で配置されていることを特
    徴とする請求項2に記載の位置決め装置。
  4. 【請求項4】 前記第1の嵌合部材及び第2の嵌合部材
    が回転自在のローラにより構成されていることを特徴と
    する請求項1ないし3のいずれか一項に記載の位置決め
    装置。
  5. 【請求項5】 前記各位置決めピンが、回転自在のロー
    ラにより構成されていることを特徴とする請求項1ない
    し4のいずれか一項に記載の位置決め装置。
  6. 【請求項6】 前記第1軸方向と第2軸方向とが直交2
    軸方向に設定されていることを特徴とする請求項1ない
    し5のいずれか一項に記載の位置決め装置。
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