JP2002141267A - 露光装置の調節方法及び露光装置 - Google Patents
露光装置の調節方法及び露光装置Info
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Abstract
(57)【要約】
【課題】 インターロック用マークのずれ量測定時間を
短縮することができる露光装置の調節方法を提供する。 【解決手段】 第１の基準点が明示されたウエハ保持面
を有するウエハチャックと、露光光が透過する開口が設
けられたマスク保持面を有するマスクチャックとを、該
ウエハ保持面と該マスク保持面とが相互に平行に対向す
る。第２の基準点が明示された調節用部品を、マスクチ
ャックの位置決め部材により位置決めして、該マスクチ
ャックに保持する。第１の基準点と第２の基準点との、
ウエハ保持面の面内方向に関する相対位置を観測し、観
測結果に基づいてウエハチャック及びマスクチャックの
少なくとも一方をウエハ保持面に平行な方向に移動さ
せ、両者の位置を調節する。
短縮することができる露光装置の調節方法を提供する。 【解決手段】 第１の基準点が明示されたウエハ保持面
を有するウエハチャックと、露光光が透過する開口が設
けられたマスク保持面を有するマスクチャックとを、該
ウエハ保持面と該マスク保持面とが相互に平行に対向す
る。第２の基準点が明示された調節用部品を、マスクチ
ャックの位置決め部材により位置決めして、該マスクチ
ャックに保持する。第１の基準点と第２の基準点との、
ウエハ保持面の面内方向に関する相対位置を観測し、観
測結果に基づいてウエハチャック及びマスクチャックの
少なくとも一方をウエハ保持面に平行な方向に移動さ
せ、両者の位置を調節する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置の調節方
法及び露光装置に関し、特に、ウエハチャックとマスク
チャックとの中心点合わせを行うのに適した露光装置の
調節方法及び露光装置に関する。
法及び露光装置に関し、特に、ウエハチャックとマスク
チャックとの中心点合わせを行うのに適した露光装置の
調節方法及び露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体プロセスにおいて、微細パターン
を形成する技術としてＸ線露光が注目されている。Ｘ線
源としてシンクロトロン放射光を利用する場合には、一
般的にウエハとマスクとが鉛直面に平行に立てられ、そ
れぞれウエハチャック及びマスクチャックに吸着され
る。ウエハチャック及びマスクチャックは、共にひとつ
の除振台の上に固定される。ウエハチャックは、ＸＹス
テージにより、ウエハの吸着面に平行な２次元方向に移
動可能である。
を形成する技術としてＸ線露光が注目されている。Ｘ線
源としてシンクロトロン放射光を利用する場合には、一
般的にウエハとマスクとが鉛直面に平行に立てられ、そ
れぞれウエハチャック及びマスクチャックに吸着され
る。ウエハチャック及びマスクチャックは、共にひとつ
の除振台の上に固定される。ウエハチャックは、ＸＹス
テージにより、ウエハの吸着面に平行な２次元方向に移
動可能である。
【０００３】ウエハの被露光面には、複数の露光領域が
画定されている。１回の露光で、一つの露光領域が露光
される。一つの露光領域の露光が終了すると、ウエハを
被露光面に平行な方向に移動させ、次の露光領域の露光
が行われる。ウエハ及びマスクには、露光領域毎に位置
合わせを行うためのアライメントマークが形成されてい
る。また、ウエハ及びマスクには、インターロック用の
マークも形成されている。ここで、インターロックと
は、露光領域毎のウエハとマスクとの双方のアライメン
トマークが、位置合わせ光学系の視野内に入るように、
粗い位置合わせを行うことを意味する。
画定されている。１回の露光で、一つの露光領域が露光
される。一つの露光領域の露光が終了すると、ウエハを
被露光面に平行な方向に移動させ、次の露光領域の露光
が行われる。ウエハ及びマスクには、露光領域毎に位置
合わせを行うためのアライメントマークが形成されてい
る。また、ウエハ及びマスクには、インターロック用の
マークも形成されている。ここで、インターロックと
は、露光領域毎のウエハとマスクとの双方のアライメン
トマークが、位置合わせ光学系の視野内に入るように、
粗い位置合わせを行うことを意味する。
【０００４】従来のＸ線露光の手順について説明する。
まず、マスクをマスクチャックに固定し、露光すべきウ
エハをウエハチャックに固定する。操作者は、ウエハと
マスクとのインターロック用マークのずれ量を測定す
る。露光領域毎の位置合わせを行う際に、インターロッ
ク用マークのずれ量をオフセットとして、ウエハとマス
クとの位置調節を行う。これにより、ウエハとマスクと
のアライメントマークを、位置合わせ光学系の視野内に
入れることができる。
まず、マスクをマスクチャックに固定し、露光すべきウ
エハをウエハチャックに固定する。操作者は、ウエハと
マスクとのインターロック用マークのずれ量を測定す
る。露光領域毎の位置合わせを行う際に、インターロッ
ク用マークのずれ量をオフセットとして、ウエハとマス
クとの位置調節を行う。これにより、ウエハとマスクと
のアライメントマークを、位置合わせ光学系の視野内に
入れることができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ウエハとマスクとのイ
ンターロック用マークのずれ量を測定する際に、両者の
位置ずれ量が大きいと、測定に長時間を要する。この測
定時間が長くなるとスループットの低下につながる。
ンターロック用マークのずれ量を測定する際に、両者の
位置ずれ量が大きいと、測定に長時間を要する。この測
定時間が長くなるとスループットの低下につながる。
【０００６】本発明の目的は、インターロック用マーク
のずれ量測定時間を短縮することができる露光装置の調
節方法及び露光装置を提供することである。
のずれ量測定時間を短縮することができる露光装置の調
節方法及び露光装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の一観点による
と、第１の基準点が明示されたウエハ保持面を有するウ
エハチャックと、露光光が透過する開口が設けられたマ
スク保持面を有するマスクチャックとを、該ウエハ保持
面と該マスク保持面とが相互に平行に対向するように配
置する工程と、第２の基準点が明示された調節用部品
を、マスクチャックの位置決め部材により位置決めし
て、該マスクチャックに保持する工程と、前記第１の基
準点と第２の基準点との、前記ウエハ保持面の面内方向
に関する相対位置を観測し、観測結果に基づいて前記ウ
エハチャック及びマスクチャックの少なくとも一方を前
記ウエハ保持面に平行な方向に移動させ、両者の位置を
調節する工程とを有する露光装置の調節方法が提供され
る。
と、第１の基準点が明示されたウエハ保持面を有するウ
エハチャックと、露光光が透過する開口が設けられたマ
スク保持面を有するマスクチャックとを、該ウエハ保持
面と該マスク保持面とが相互に平行に対向するように配
置する工程と、第２の基準点が明示された調節用部品
を、マスクチャックの位置決め部材により位置決めし
て、該マスクチャックに保持する工程と、前記第１の基
準点と第２の基準点との、前記ウエハ保持面の面内方向
に関する相対位置を観測し、観測結果に基づいて前記ウ
エハチャック及びマスクチャックの少なくとも一方を前
記ウエハ保持面に平行な方向に移動させ、両者の位置を
調節する工程とを有する露光装置の調節方法が提供され
る。
【０００８】本発明の他の観点によると、ウエハ保持面
を有するウエハチャックと、露光光が透過する開口が設
けられたマスク保持面を有するマスクチャックとを、該
ウエハ保持面と該マスク保持面とが相互に平行に対向す
るように配置する工程と、第１の基準点が明示されたウ
エハ側調節用部品を、ウエハチャックの位置決め部材に
より位置決めして、ウエハ保持面に保持する工程と、第
２の基準点が明示されたマスク側調節用部品を、マスク
チャックの位置決め部材により位置決めして、該マスク
チャックに保持する工程と、前記第１の基準点と第２の
基準点との、前記ウエハ保持面の面内方向に関する相対
位置を観測し、観測結果に基づいて前記ウエハチャック
及びマスクチャックの少なくとも一方を前記ウエハ保持
面に平行な方向に移動させ、両者の位置を調節する工程
とを有する露光装置の調節方法が提供される。
を有するウエハチャックと、露光光が透過する開口が設
けられたマスク保持面を有するマスクチャックとを、該
ウエハ保持面と該マスク保持面とが相互に平行に対向す
るように配置する工程と、第１の基準点が明示されたウ
エハ側調節用部品を、ウエハチャックの位置決め部材に
より位置決めして、ウエハ保持面に保持する工程と、第
２の基準点が明示されたマスク側調節用部品を、マスク
チャックの位置決め部材により位置決めして、該マスク
チャックに保持する工程と、前記第１の基準点と第２の
基準点との、前記ウエハ保持面の面内方向に関する相対
位置を観測し、観測結果に基づいて前記ウエハチャック
及びマスクチャックの少なくとも一方を前記ウエハ保持
面に平行な方向に移動させ、両者の位置を調節する工程
とを有する露光装置の調節方法が提供される。
【０００９】ウエハチャックとマスクチャックとの位置
を調節しておくことにより、マスクとウエハとのインタ
ーロック用マークの位置ずれを少なくすることができ
る。これにより、インターロック用マークの位置ずれ量
を、短時間で測定することが可能になる。
を調節しておくことにより、マスクとウエハとのインタ
ーロック用マークの位置ずれを少なくすることができ
る。これにより、インターロック用マークの位置ずれ量
を、短時間で測定することが可能になる。
【００１０】本発明の他の観点によると、第１の基準点
が明示されたウエハ保持面を有するウエハチャックと、
露光光が透過する開口が設けられ、位置決め部材によっ
て位置決めしてマスクを保持するマスク保持面を有し、
該マスク保持面が前記ウエハ保持面に平行に対向するよ
うに配置されるマスクチャックと、第２の基準点が明示
され、マスクチャックの位置決め部材により位置決めし
て、前記マスク保持面に保持される調節用部品と、前記
第１の基準点と第２の基準点との、前記ウエハ保持面の
面内方向に関する相対位置を観測する観測装置と、前記
ウエハチャック及びマスクチャックの少なくとも一方を
前記ウエハ保持面に平行な方向に移動させる２次元移動
機構とを有する露光装置が提供される。
が明示されたウエハ保持面を有するウエハチャックと、
露光光が透過する開口が設けられ、位置決め部材によっ
て位置決めしてマスクを保持するマスク保持面を有し、
該マスク保持面が前記ウエハ保持面に平行に対向するよ
うに配置されるマスクチャックと、第２の基準点が明示
され、マスクチャックの位置決め部材により位置決めし
て、前記マスク保持面に保持される調節用部品と、前記
第１の基準点と第２の基準点との、前記ウエハ保持面の
面内方向に関する相対位置を観測する観測装置と、前記
ウエハチャック及びマスクチャックの少なくとも一方を
前記ウエハ保持面に平行な方向に移動させる２次元移動
機構とを有する露光装置が提供される。
【００１１】第１の基準点と第２の基準点との、ウエハ
保持面の面内方向に関する相対位置を観測し、ウエハチ
ャック及びマスクチャックの少なくとも一方をウエハ保
持面に平行な方向に移動させることにより、両者の中心
軸を一致させることができる。
保持面の面内方向に関する相対位置を観測し、ウエハチ
ャック及びマスクチャックの少なくとも一方をウエハ保
持面に平行な方向に移動させることにより、両者の中心
軸を一致させることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１に、本発明の実施例で用いら
れる露光装置の概略図を示す。除振台１の上に、マスク
ステージ２及びウエハステージ３が取り付けられてい
る。マスクステージ２の、ウエハステージ３に対向する
面上に、マスクチャック４が取り付けられている。マス
クチャック４のマスク保持面上に、２本の位置決めピン
が設けられている。マスク１０が、位置決めピン７Ｂ及
び図１には現れていない他の位置決めピン（後に図２を
参照して説明する位置決めピン７Ａ）により、マスク保
持面内の位置を拘束され、マスクチャック４のマスク保
持面に真空吸着される。
れる露光装置の概略図を示す。除振台１の上に、マスク
ステージ２及びウエハステージ３が取り付けられてい
る。マスクステージ２の、ウエハステージ３に対向する
面上に、マスクチャック４が取り付けられている。マス
クチャック４のマスク保持面上に、２本の位置決めピン
が設けられている。マスク１０が、位置決めピン７Ｂ及
び図１には現れていない他の位置決めピン（後に図２を
参照して説明する位置決めピン７Ａ）により、マスク保
持面内の位置を拘束され、マスクチャック４のマスク保
持面に真空吸着される。
【００１３】ウエハステージ３の、マスクステージ２に
対向する面上にレベリング機構９を介してＸＹステージ
５が取り付けられ、ＸＹステージ５の可動部にウエハチ
ャック６が固定されている。ウエハチャック６のウエハ
保持面は、マスクチャック４のマスク保持面とほぼ平行
に配置される。ウエハチャック６は、そのウエハ保持面
上にウエハ１１を真空吸着する。ウエハ保持面内に関す
るウエハ１１の位置は、ウエハ保持面上に設けられた位
置決めピン等で拘束される。
対向する面上にレベリング機構９を介してＸＹステージ
５が取り付けられ、ＸＹステージ５の可動部にウエハチ
ャック６が固定されている。ウエハチャック６のウエハ
保持面は、マスクチャック４のマスク保持面とほぼ平行
に配置される。ウエハチャック６は、そのウエハ保持面
上にウエハ１１を真空吸着する。ウエハ保持面内に関す
るウエハ１１の位置は、ウエハ保持面上に設けられた位
置決めピン等で拘束される。
【００１４】レベリング機構９は、ウエハチャック６
を、そのウエハ保持面に垂直な方向に移動させる。ＸＹ
ステージ５は、ウエハチャック６を、そのウエハ保持面
に平行な２次元方向に移動させるとともに、ウエハ保持
面に垂直な軸を中心とした回転方向の位置を調節するこ
とができる。
を、そのウエハ保持面に垂直な方向に移動させる。ＸＹ
ステージ５は、ウエハチャック６を、そのウエハ保持面
に平行な２次元方向に移動させるとともに、ウエハ保持
面に垂直な軸を中心とした回転方向の位置を調節するこ
とができる。
【００１５】マスクチャック４に、露光光（Ｘ線）が透
過する開口が設けられている。Ｘ線８が、マスクステー
ジ２側からマスクチャック４の開口を通ってマスク１０
に入射し、マスク１０に形成されたマスクパターンが、
ウエハ１１上に転写される。
過する開口が設けられている。Ｘ線８が、マスクステー
ジ２側からマスクチャック４の開口を通ってマスク１０
に入射し、マスク１０に形成されたマスクパターンが、
ウエハ１１上に転写される。
【００１６】図２を参照して、本発明の実施例による露
光装置の調節方法で用いられる調節用部品について説明
する。調節用部品２０は、円環状の支持枠２０Ａと、支
持枠２０Ａで外周部を支持された透明膜２０Ｂとを含ん
で構成される。透明膜２０Ｂは、例えば透明樹脂フィル
ムで形成される。支持枠２０Ａの外周部にほぼ半円状の
切り欠き２０Ｃが形成されている。図２には明示されて
いないマスクチャック４のマスク保持面上に位置決めピ
ン７Ａ及び７Ｂが設けられている。
光装置の調節方法で用いられる調節用部品について説明
する。調節用部品２０は、円環状の支持枠２０Ａと、支
持枠２０Ａで外周部を支持された透明膜２０Ｂとを含ん
で構成される。透明膜２０Ｂは、例えば透明樹脂フィル
ムで形成される。支持枠２０Ａの外周部にほぼ半円状の
切り欠き２０Ｃが形成されている。図２には明示されて
いないマスクチャック４のマスク保持面上に位置決めピ
ン７Ａ及び７Ｂが設けられている。
【００１７】調節用部品２０をマスクチャック４に固定
する際に、切り欠き７Ｂが位置決めピン７Ｂに嵌合する
とともに、支持枠２０Ａの外周面の一部が位置決めピン
７Ａに接触することにより、調節用部品２０のマスク保
持面内の位置が拘束される。位置決めピン７Ｂを調節用
部品２０の下に設けておくと、吸着機構に異常が発生し
た場合にも調節用部品２０の落下を防止することができ
る。
する際に、切り欠き７Ｂが位置決めピン７Ｂに嵌合する
とともに、支持枠２０Ａの外周面の一部が位置決めピン
７Ａに接触することにより、調節用部品２０のマスク保
持面内の位置が拘束される。位置決めピン７Ｂを調節用
部品２０の下に設けておくと、吸着機構に異常が発生し
た場合にも調節用部品２０の落下を防止することができ
る。
【００１８】透明膜２０Ｂの中心に基準点を明示するマ
ーク２１が印刷されている。透明膜２０Ｂの中心を通過
し、マスク保持面に垂直な軸をマスクチャック４の中心
軸と呼ぶこととする。透明膜２０Ｂに、格子状模様２２
が印刷されている。格子状模様２２は、調節用部品２０
をマスクチャック４に吸着した状態で、各縞が水平方向
もしくは鉛直方向に平行になる。
ーク２１が印刷されている。透明膜２０Ｂの中心を通過
し、マスク保持面に垂直な軸をマスクチャック４の中心
軸と呼ぶこととする。透明膜２０Ｂに、格子状模様２２
が印刷されている。格子状模様２２は、調節用部品２０
をマスクチャック４に吸着した状態で、各縞が水平方向
もしくは鉛直方向に平行になる。
【００１９】ウエハチャック６のウエハ保持面の中心
に、基準点を明示するマーク２３が形成されている。マ
ーク２３は、例えば小さな窪み等で構成される。ウエハ
保持面の中心点を通過し、かつウエハ保持面に垂直な軸
をウエハチャック６の中心軸と呼ぶこととする。ウエハ
保持面に、格子状模様２４が形成されている。格子状模
様２４の各縞は、水平方向もしくは鉛直方向に平行であ
る。なお、基準点を明示するマーク２３として、吸着機
構の空気穴等を利用してもよい。例えば、４つの空気穴
の重心位置を基準点とすることも可能である。
に、基準点を明示するマーク２３が形成されている。マ
ーク２３は、例えば小さな窪み等で構成される。ウエハ
保持面の中心点を通過し、かつウエハ保持面に垂直な軸
をウエハチャック６の中心軸と呼ぶこととする。ウエハ
保持面に、格子状模様２４が形成されている。格子状模
様２４の各縞は、水平方向もしくは鉛直方向に平行であ
る。なお、基準点を明示するマーク２３として、吸着機
構の空気穴等を利用してもよい。例えば、４つの空気穴
の重心位置を基準点とすることも可能である。
【００２０】観測装置３０が、ウエハ保持面に平行な２
次元の方向に関して、マーク２１と２３との相対位置を
検出する。観測装置３０は、例えばＣＣＤカメラで構成
される。
次元の方向に関して、マーク２１と２３との相対位置を
検出する。観測装置３０は、例えばＣＣＤカメラで構成
される。
【００２１】次に、図１及び図２に示した露光装置の調
節方法について説明する。マスクステージ２及びウエハ
ステージ３を除振台１に取り付ける。このとき、マスク
チャック４の中心軸とウエハチャック６の中心軸とは、
必ずしも一致しない。マスクチャック４に、図２に示し
た調節用部品２０を、位置決めピン７Ａ及び７Ｂで位置
決めして吸着させる。調節用部品２０がマスクチャック
４に吸着されて固定された後は、位置決めピン７Ａ及び
７Ｂをマスクチャック４から取り外してもよい。レベリ
ング機構９を動作させて、調節用部品２０とウエハ保持
面との間に微少な間隙が形成されるように、ウエハチャ
ック６をマスクチャック４に近づける。このとき、ウエ
ハ保持面とマスク保持面とは、相互にほぼ平行であり、
ウエハチャック６はＸＹステージ５のホームポジション
に位置する。
節方法について説明する。マスクステージ２及びウエハ
ステージ３を除振台１に取り付ける。このとき、マスク
チャック４の中心軸とウエハチャック６の中心軸とは、
必ずしも一致しない。マスクチャック４に、図２に示し
た調節用部品２０を、位置決めピン７Ａ及び７Ｂで位置
決めして吸着させる。調節用部品２０がマスクチャック
４に吸着されて固定された後は、位置決めピン７Ａ及び
７Ｂをマスクチャック４から取り外してもよい。レベリ
ング機構９を動作させて、調節用部品２０とウエハ保持
面との間に微少な間隙が形成されるように、ウエハチャ
ック６をマスクチャック４に近づける。このとき、ウエ
ハ保持面とマスク保持面とは、相互にほぼ平行であり、
ウエハチャック６はＸＹステージ５のホームポジション
に位置する。
【００２２】観測装置３０により、マーク２１とマーク
２３との、ウエハ保持面の面内方向に関する相対位置を
観測する。観測結果に基づいて、ウエハチャック５を動
作させ、マーク２１とマーク２３とが、所望の相対位置
関係になるようにウエハチャック６の位置を調節する。
これにより、マスクチャック４とウエハチャック６と
を、それらの中心軸同士が一致するように調節すること
ができる。
２３との、ウエハ保持面の面内方向に関する相対位置を
観測する。観測結果に基づいて、ウエハチャック５を動
作させ、マーク２１とマーク２３とが、所望の相対位置
関係になるようにウエハチャック６の位置を調節する。
これにより、マスクチャック４とウエハチャック６と
を、それらの中心軸同士が一致するように調節すること
ができる。
【００２３】実際の露光を行う場合には、マスク１０を
マスクチャック４に吸着させ、ウエハ１１をウエハチャ
ック６に吸着させる。マスクチャック４とウエハチャッ
ク６との中心軸同士が一致しているため、マスク１０の
インターロック用マークとウエハ１１のインターロック
用マークとの位置ずれ量が小さい。このため、短時間
に、マスク１０とウエハ１１とのインターロック用マー
クの位置ずれ量を測定することができる。
マスクチャック４に吸着させ、ウエハ１１をウエハチャ
ック６に吸着させる。マスクチャック４とウエハチャッ
ク６との中心軸同士が一致しているため、マスク１０の
インターロック用マークとウエハ１１のインターロック
用マークとの位置ずれ量が小さい。このため、短時間
に、マスク１０とウエハ１１とのインターロック用マー
クの位置ずれ量を測定することができる。
【００２４】また、格子状模様２２と４２との相対的な
位置関係を観測することにより、マスクチャック４とウ
エハチャック６との中心軸周りの回転方向に関する相対
位置を合わせることができる。
位置関係を観測することにより、マスクチャック４とウ
エハチャック６との中心軸周りの回転方向に関する相対
位置を合わせることができる。
【００２５】上記実施例による位置ずれ量の測定は、マ
スクステージ２とウエハステージ３とを除振台１に取り
付けた後に行われる。理想的には、装置を分解しない限
り位置ずれ量は変動しないが、実際には長期間の使用に
より位置ずれ量が変動する場合もある。このため、長期
間の使用の後、上記実施例による位置ずれ量の測定を行
ってもよい。
スクステージ２とウエハステージ３とを除振台１に取り
付けた後に行われる。理想的には、装置を分解しない限
り位置ずれ量は変動しないが、実際には長期間の使用に
より位置ずれ量が変動する場合もある。このため、長期
間の使用の後、上記実施例による位置ずれ量の測定を行
ってもよい。
【００２６】上記実施例では、ウエハチャック６のウエ
ハ保持面に基準点を明示するマーク２３が形成されてい
たが、ウエハチャック側でも、マスクチャック側と同様
に、基準点を明示する調整用部品を用いてもよい。
ハ保持面に基準点を明示するマーク２３が形成されてい
たが、ウエハチャック側でも、マスクチャック側と同様
に、基準点を明示する調整用部品を用いてもよい。
【００２７】図３に、ウエハチャック側の調整用部品４
０の概略斜視図を示す。調整用部品４０は、露光すべき
ウエハと同一の形状を有し、複数の位置決めピン４３に
よりウエハ保持面内の二次元方向に関して位置決めされ
る。調整用部品４０の、被露光面に相当する面に、その
中心点を明示するマーク４１が印刷されている。さら
に、格子状模様４２が印刷されている。
０の概略斜視図を示す。調整用部品４０は、露光すべき
ウエハと同一の形状を有し、複数の位置決めピン４３に
よりウエハ保持面内の二次元方向に関して位置決めされ
る。調整用部品４０の、被露光面に相当する面に、その
中心点を明示するマーク４１が印刷されている。さら
に、格子状模様４２が印刷されている。
【００２８】図２に示したウエハチャック６のウエハ保
持面上のマーク２３の代わりに、調節用部品４０のマー
ク４１を観測することにより、マスクチャック４とウエ
ハチャック６との中心軸同士を合わせることができる。
持面上のマーク２３の代わりに、調節用部品４０のマー
ク４１を観測することにより、マスクチャック４とウエ
ハチャック６との中心軸同士を合わせることができる。
【００２９】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
ウエハチャックとマスクチャックとの中心軸同士を容易
に合わせることができる。これにより、ウエハとマスク
とのインターロック用マークのずれ量を少なくし、短時
間でこのずれ量を測定することが可能になる。
ウエハチャックとマスクチャックとの中心軸同士を容易
に合わせることができる。これにより、ウエハとマスク
とのインターロック用マークのずれ量を少なくし、短時
間でこのずれ量を測定することが可能になる。
【図１】 本発明の実施例による方法で用いられる露光
装置の概略正面図である。
装置の概略正面図である。
【図２】 実施例による方法で用いられる調節用部品及
びウエハチャックの斜視図である。
びウエハチャックの斜視図である。
【図３】 他の実施例による方法で用いられるマスク側
の調整用部品とウエハ側の調整用部品と概略斜視図であ
る。
の調整用部品とウエハ側の調整用部品と概略斜視図であ
る。
１ 除振台 ２ マスクステージ ３ ウエハステージ ４ マスクチャック ５ ＸＹステージ ６ ウエハチャック ７Ａ、７Ｂ、４３ 位置決めピン ８ Ｘ線 ９ レベリング機構 １０ マスク １１ ウエハ ２０ 調節用部品 ２０Ａ 支持枠 ２０Ｂ 透明膜 ２０Ｃ 切り欠き ２１、２３、４１ マーク ２２、２４、４２ 格子状模様 ３０ 観測装置 ４０ ウエハ側調節用部品
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１６Ｂ ５０３Ｃ ５０３Ｄ ５３１Ａ Ｆターム(参考） 2F065 AA20 BB27 CC17 DD06 FF04 JJ03 JJ26 PP12 2F069 AA17 BB15 CC06 DD12 FF01 GG04 GG07 GG45 MM03 MM24 PP02 5F031 CA02 CA07 HA13 HA53 JA22 JA38 KA03 KA06 KA08 KA11 MA27 5F046 CC08 CC09 CC11 DA05 DB04
Claims (5)
- 【請求項１】 第１の基準点が明示されたウエハ保持面
を有するウエハチャックと、露光光が透過する開口が設
けられたマスク保持面を有するマスクチャックとを、該
ウエハ保持面と該マスク保持面とが相互に平行に対向す
るように配置する工程と、 第２の基準点が明示された調節用部品を、マスクチャッ
クの位置決め部材により位置決めして、該マスクチャッ
クに保持する工程と、 前記第１の基準点と第２の基準点との、前記ウエハ保持
面の面内方向に関する相対位置を観測し、観測結果に基
づいて前記ウエハチャック及びマスクチャックの少なく
とも一方を前記ウエハ保持面に平行な方向に移動させ、
両者の位置を調節する工程とを有する露光装置の調節方
法。 - 【請求項２】 前記調節用部品が、環状の支持枠と、該
支持枠に周辺部を支持された透明膜とを含み、前記第２
の基準点を明示するマークが該透明膜に印されており、
前記調節用部品をマスクチャックに保持する工程におい
て、前記支持枠を前記マスク保持面に接触させて保持す
る請求項１に記載の露光装置の調節方法。 - 【請求項３】 ウエハ保持面を有するウエハチャック
と、露光光が透過する開口が設けられたマスク保持面を
有するマスクチャックとを、該ウエハ保持面と該マスク
保持面とが相互に平行に対向するように配置する工程
と、 第１の基準点が明示されたウエハ側調節用部品を、ウエ
ハチャックの位置決め部材により位置決めして、ウエハ
保持面に保持する工程と、 第２の基準点が明示されたマスク側調節用部品を、マス
クチャックの位置決め部材により位置決めして、該マス
クチャックに保持する工程と、 前記第１の基準点と第２の基準点との、前記ウエハ保持
面の面内方向に関する相対位置を観測し、観測結果に基
づいて前記ウエハチャック及びマスクチャックの少なく
とも一方を前記ウエハ保持面に平行な方向に移動させ、
両者の位置を調節する工程とを有する露光装置の調節方
法。 - 【請求項４】 第１の基準点が明示されたウエハ保持面
を有するウエハチャックと、 露光光が透過する開口が設けられ、位置決め部材によっ
て位置決めしてマスクを保持するマスク保持面を有し、
該マスク保持面が前記ウエハ保持面に平行に対向するよ
うに配置されるマスクチャックと、 第２の基準点が明示され、マスクチャックの位置決め部
材により位置決めして、前記マスク保持面に保持される
調節用部品と、 前記第１の基準点と第２の基準点との、前記ウエハ保持
面の面内方向に関する相対位置を観測する観測装置と、 前記ウエハチャック及びマスクチャックの少なくとも一
方を前記ウエハ保持面に平行な方向に移動させる２次元
移動機構とを有する露光装置。 - 【請求項５】 前記調整用部品が、環状の支持枠と、該
支持枠に周辺部を支持された透明膜とを含み、前記第２
の基準点を明示するマークが該透明膜に印されている請
求項４に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000334116A JP3869645B2 (ja) | 2000-11-01 | 2000-11-01 | 露光装置の調節方法及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000334116A JP3869645B2 (ja) | 2000-11-01 | 2000-11-01 | 露光装置の調節方法及び露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002141267A true JP2002141267A (ja) | 2002-05-17 |
| JP3869645B2 JP3869645B2 (ja) | 2007-01-17 |
Family
ID=18810093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000334116A Expired - Fee Related JP3869645B2 (ja) | 2000-11-01 | 2000-11-01 | 露光装置の調節方法及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3869645B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100390502C (zh) * | 2003-03-12 | 2008-05-28 | 中国科学院沈阳自动化研究所 | 一种精密平行度测量方法 |
| CN115547915A (zh) * | 2022-11-28 | 2022-12-30 | 四川上特科技有限公司 | 一种晶圆曝光夹具及曝光装置 |
-
2000
- 2000-11-01 JP JP2000334116A patent/JP3869645B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100390502C (zh) * | 2003-03-12 | 2008-05-28 | 中国科学院沈阳自动化研究所 | 一种精密平行度测量方法 |
| CN115547915A (zh) * | 2022-11-28 | 2022-12-30 | 四川上特科技有限公司 | 一种晶圆曝光夹具及曝光装置 |
| CN115547915B (zh) * | 2022-11-28 | 2023-02-14 | 四川上特科技有限公司 | 一种晶圆曝光夹具及曝光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3869645B2 (ja) | 2007-01-17 |
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