JPS6077179A - 窒化ケイ素質セラミツクス焼結体の接着方法 - Google Patents

窒化ケイ素質セラミツクス焼結体の接着方法

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JPS6077179A
JPS6077179A JP18467283A JP18467283A JPS6077179A JP S6077179 A JPS6077179 A JP S6077179A JP 18467283 A JP18467283 A JP 18467283A JP 18467283 A JP18467283 A JP 18467283A JP S6077179 A JPS6077179 A JP S6077179A
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JP
Japan
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silicon nitride
nitride ceramic
ceramic sintered
carbon
sintered bodies
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JP18467283A
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JPS6225635B2 (ja
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守 中村
久保 勝司
修三 神崎
田端 英世
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、窒化ケイ素質セラミックス焼結体の接着方法
、さらに詳しくいえば、2個の窒化ケイ来質焼結体の間
に、加熱により炭化ケイ素層を形成しうる炭素又は炭素
質の層を介在させて加熱することによシ、従来の方法に
比べて短時間で強固な接着強度が得られる、窒化ケイ素
質セラミックス焼結体相互の接着方法に関するものであ
る・窒化ケイ素質セラミックス焼結体は、耐熱性や耐摩
耗性に擾れ、しかも機械的強興が大きくかつ熱膨張係数
が低いなど、優れた特性を有していることから、近年構
造材料用セラミックスとして特に注目を集めており、 
例えば自動車エンジン部品、ガスタービン部品、切削工
具などに使用されている。
ところで、窒化ケイ素質セラミックス焼結体を用いて複
雑形状の部品を製造したり、るるいは破損部分の修復な
どを行う場合、窒化ケイ素質セラミックス焼結体相互の
接着技術が重要な問題となる。従来、この接着技術に関
しては、例えば2個の窒化ケイ素質セラミックス焼結体
の接合面に、Cu5−LaC!r02・5i02混合粉
末やクイ累粉末を有機溶剤中に混入したものを塗布した
シ、あるいは2個の窒化ケイ素質セラミックス焼結体の
間に金属薄膜を介在させたりして加熱反応させることに
より、窒化ケイ素質セラミックス焼結体相互の接着を行
う方法が知られている。
しかしながらt’ CuS−LaCr02Si02混合
粉末や金属薄膜を用いる方法においては、窒化ケイ素質
セラミックス焼結体の接着部に、窒化ケイ累よシ明らか
に高温強度が劣る金属やセラミックス層が残存し、高温
での接着強度に劣る欠点かアD、一方、ケイ素粉末を用
いる方法においては、窒素ガス雰囲気中でケイ素粉末を
窒化焼結させて、ち密な窒化ケイ素焼結体にすることが
困難でラシ、その上数十時間にも達する長時間の複雑な
処理を必要とするなどの欠点がある。
本発明者らは、このような欠点を克服し、高温において
窒化ケイ素質セラミックス焼結体の強度と同等かそれ以
上の接着強度が得られ、かつ処理操作が簡単な窒化ケイ
素質セラミックス焼結体相斤の接着方法を提供すべく鋭
意研究を重ねた結果、2個の窒化グイ素質セラミックス
焼結体の間に、炭素又は加熱により炭素に変化しつる物
質の層を介在させ、ある雰囲気中で加熱することにより
、その目的を達成しうろことを見出し、この知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、2個の窒化ケイ素質セラミックス
焼結体の間に、炭素又は加熱!シ炭素に変化しうる物質
の層を介在させ、次いで不活性ガス若しくは非酸化性ガ
スの雰囲気中又は減圧若しくは真空下において加熱し、
窒化ケイ素と炭素との反応によシ形成される炭化ケイ素
層を介して前記2個の窒化ケイ素質セラミックス焼結体
を接着することを特徴とする窒化ケイ素質セラミックス
焼結体の接着方法を提供するものである。
本発明方法において用いられる窒化ケイ葉質セラミック
ス焼結体としては、例えば反応焼結、常圧焼結、ホット
プレス、熱間静水圧プレス、CVDなどのいずれの方法
によって得られたものでもよく、また焼結助剤としてM
gO1At2o5、Y2O5などを数十係も含むものや
、Si 5N4− A1203=AtN系の組成を有す
るサイアロン焼結体などにも使用しうる。
本発明方法において、2個の窒化ケイ素質セラミックス
焼結体の間に介在させる炭素としては、石墨形の結晶構
造をもつもの又は非晶質状のもの、いずれでもよく、ま
たそれらの混合物も使用することができる。この炭素の
形態としては、微粒状の粉体であることが望ましく、そ
の平均粒径は10μm以下であることが好ましい。さら
にこの炭素は最初から単体の炭素でなくてもよく、加熱
により炭素に変化しうる化合物も使用することができる
本発明方法によって窒化ケイ素質セラミックス焼結体相
互を接着するには、まず該窒化ケイ素質セラミックス焼
結体の接着すべき面を、相互に大きな隙間が生じないよ
うに平滑にしておくことが重要であり、その表面粗さと
しては、Rmaxで10μm以下に仕上げておくことが
好寸しい。次いでこの被接着面に炭素層又は加熱によシ
炭素に変化しつる物質の層を設ける。炭素層を設ける場
合は、炭素粉末を有機溶媒又は水なとに懸濁させたもの
を一方の窒化ケイ素質セラミックス焼結体の被接着面に
塗布し、その上に他方の窒化ケイ素質セラミックス焼結
体の被接着面が接するように重ね合わせ、まだ加熱によ
り炭素に変化しつる物質の層を設ける場合は、例えばポ
リエチレン薄膜などを接着すべき2個の窒化ケイ素質セ
ラミックス焼結体の間に介在させる。このようにして被
接着面に炭素層又は加熱により炭素に変比しつる物質の
層を設けたのち、不活性ガス若しくは非酸化性ガスの雰
囲気又は減圧若しくは真空下において、好ましくは10
00〜1850℃の温度範囲で加熱する。
この場合、接着をよシ強固にするために加圧することが
好ましい。この加圧は通常−軸性ホットプレス又は熱間
静水圧プレスを用いて行われ、圧力は一般に高いほど良
好な結果が得られる。また、処理時間は30分〜1時間
程度で十分である。
このように処理することにより、窒化ケイ素と炭素とが
反応して、高温においても窒化ケイ素と同等かそれ以上
の強度を有する炭化ケイ素層が2個の窒化ケイ素質セラ
ミック×焼結体の間に形成され、このものを介して該窒
化ケイ素質セラミノクス焼結体は強固に接着する。
本発明方法による接着部の強度は、120Q℃のような
高温においても、常温における強度に比べてほとんど低
下しない。
次に実施例によって本発明をさらに詳細に説明するO 実施例1 2個の常圧焼結窒化ケイ素質セラミックス焼結体の間に
、炭素源としてポリエチレン薄膜を介在させ、窒素雰囲
気中において平均圧力2 Kg f/ ml、温度15
00℃で30分間加熱して該焼結体相互の接着を行った
この接着強度を抗折試験によってめたところ、約22K
gf/m+4ft)ツタ。
実施例2 炭素源としてカーボンブラックを用い、該カーボンブラ
ンクをアルコール中に懸濁させたものを一方のホットプ
レスされた窒化ケイ素質セラミックス焼結体の被接着面
に塗布し、その上に他方の窒化ケイ素質セラミックス焼
結体の被接着面が接するように重ね合わせたのち、窒素
雰囲気中において圧力2 Kgf/m4、温度1350
℃で30分間加熱して該焼結体相互の接着を行った。
この接着強度を抗折試験によってめたところ、約17に
9f/mdでアッタ。
実施例3 2個の常圧焼結窒化ケイ素質セラミックス焼結体の間に
、炭素源としてポリエチレン薄膜を介在させ、窒素雰囲
気中において平均圧力約zKH7mi、温度1500℃
で60分間加熱して該焼結体相互の接着を行った。
この接着強度を抗折試験知よってめたところ、約16に
9f/mがであった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 12個の窒化ケイ素質セラミックス焼結体の間に、炭素
    又は加熱により炭素に変化しうる物質の層を介在させ、
    次いで不活性ガス若しくは非酸化性ガスの雰囲気中又は
    減圧若しくは真空下において加熱し、窒化ケイ素と炭素
    との反応によ多形成される炭化ケイ素層を介して前記2
    個の窒化ケイ素質セラミックス焼結体を接着することを
    特徴とする窒化ケイ素質セラミックス焼結体の接着方法
JP18467283A 1983-10-03 1983-10-03 窒化ケイ素質セラミツクス焼結体の接着方法 Granted JPS6077179A (ja)

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JP18467283A JPS6077179A (ja) 1983-10-03 1983-10-03 窒化ケイ素質セラミツクス焼結体の接着方法

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JP18467283A JPS6077179A (ja) 1983-10-03 1983-10-03 窒化ケイ素質セラミツクス焼結体の接着方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6077179A true JPS6077179A (ja) 1985-05-01
JPS6225635B2 JPS6225635B2 (ja) 1987-06-04

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ID=16157335

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JP18467283A Granted JPS6077179A (ja) 1983-10-03 1983-10-03 窒化ケイ素質セラミツクス焼結体の接着方法

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7372968B2 (en) 2000-11-08 2008-05-13 New Transducers Limited Loudspeaker driver
US7593159B2 (en) 2003-09-30 2009-09-22 Panasonic Corporation Display device
CN107141008A (zh) * 2016-03-01 2017-09-08 株洲天机巧陶瓷科技发展有限公司 一种双层毛瓷无缝干接工艺
US10691006B2 (en) 2014-12-09 2020-06-23 Imax Theatres International Limited Methods and systems of vibrating a screen

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US10691006B2 (en) 2014-12-09 2020-06-23 Imax Theatres International Limited Methods and systems of vibrating a screen
CN107141008A (zh) * 2016-03-01 2017-09-08 株洲天机巧陶瓷科技发展有限公司 一种双层毛瓷无缝干接工艺

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JPS6225635B2 (ja) 1987-06-04

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