JPS63206365A - セラミツクスと金属の接合体 - Google Patents
セラミツクスと金属の接合体Info
- Publication number
- JPS63206365A JPS63206365A JP3995587A JP3995587A JPS63206365A JP S63206365 A JPS63206365 A JP S63206365A JP 3995587 A JP3995587 A JP 3995587A JP 3995587 A JP3995587 A JP 3995587A JP S63206365 A JPS63206365 A JP S63206365A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- ceramic
- joined body
- metal layer
- ceramics
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 38
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 38
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 25
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical compound [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- MOWMLACGTDMJRV-UHFFFAOYSA-N nickel tungsten Chemical compound [Ni].[W] MOWMLACGTDMJRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 8
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229910017944 Ag—Cu Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- VNTLIPZTSJSULJ-UHFFFAOYSA-N chromium molybdenum Chemical compound [Cr].[Mo] VNTLIPZTSJSULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
Landscapes
- Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はセラミックスと金属との間に、熱応力緩和体と
しての中間層を介在させたセラミックスと金属の接合体
に関するものである。
しての中間層を介在させたセラミックスと金属の接合体
に関するものである。
一般に、セラミックスは金属に比べて耐摩耗性、耐熱性
、耐食性等に優れた特性を有するものであるが、複雑な
形状の成型加工性に劣り、その上機械的な衝撃に脆い等
の問題を有していた。
、耐食性等に優れた特性を有するものであるが、複雑な
形状の成型加工性に劣り、その上機械的な衝撃に脆い等
の問題を有していた。
そこで高荷重が作用する部分には高強度で成型加工性に
優れた金属で構成し、上記セラミックスとを組み合わせ
た複合構造体とすることが注目され、従来より各種のセ
ラミックスと金属の接合体が研究され提寓されてきた。
優れた金属で構成し、上記セラミックスとを組み合わせ
た複合構造体とすることが注目され、従来より各種のセ
ラミックスと金属の接合体が研究され提寓されてきた。
従来、セラミックスと金属との接合体を得る方法として
、拡散接合等の固相接合法や接着剤を用いる方法、焼嵌
めやロウ付は等の締り嵌合する方法等が知られている。
、拡散接合等の固相接合法や接着剤を用いる方法、焼嵌
めやロウ付は等の締り嵌合する方法等が知られている。
しかし乍ら、面相接合法では接合界面に低融点層や脆化
層を生成し易く、耐熱性や耐衝撃性に乏しく、その上、
設備面からの制約が大きく生産性の低いものであった。
層を生成し易く、耐熱性や耐衝撃性に乏しく、その上、
設備面からの制約が大きく生産性の低いものであった。
また、接着剤を用いる方法は接合強度が低く、耐熱性や
耐衝撃性に乏しいという問題があった。
耐衝撃性に乏しいという問題があった。
さらに、焼嵌めやロウ付は等の締り嵌合する方法では嵌
合に際し、セラミックスと金属との熱膨張率の差により
接合界面に発生する高い熱応力を抑制することが難しく
、該応力に抗し切れずセラミックスより破壊したり、ま
たは接合界面での剥離を生じる等の問題があった。
合に際し、セラミックスと金属との熱膨張率の差により
接合界面に発生する高い熱応力を抑制することが難しく
、該応力に抗し切れずセラミックスより破壊したり、ま
たは接合界面での剥離を生じる等の問題があった。
そこで、前記熱応力を緩和吸収せんとして、例えばセラ
ミックスの熱膨張率に近い金属に該セラミックスを嵌挿
し、焼嵌めやロウ付は等で締り嵌合させて接合すること
が提案されている。
ミックスの熱膨張率に近い金属に該セラミックスを嵌挿
し、焼嵌めやロウ付は等で締り嵌合させて接合すること
が提案されている。
しかし乍ら、かかる接合体においては、セラミックスに
かかる前記熱応力が不均一となり易く応力集中箇所を生
じセラミックスが破壊したり、高温下では熱膨張の差に
より温度上昇と共に金属が膨張し、締り嵌合が弛緩する
恐れが極めて大である等、熱応力の緩和効果も不十分な
ものであった。
かかる前記熱応力が不均一となり易く応力集中箇所を生
じセラミックスが破壊したり、高温下では熱膨張の差に
より温度上昇と共に金属が膨張し、締り嵌合が弛緩する
恐れが極めて大である等、熱応力の緩和効果も不十分な
ものであった。
本発明者は上記不都合を解消すべく種々実験の結果、セ
ラミックスと金属との熱膨張率の差により発生する熱応
力を緩和すべくセラミックスと金属の接合部にセラミッ
クスと熱膨張率の近い金属と、セラミックスと接合金属
との中間的なまたは該セラミックスに近い熱膨張率を有
する軟質金属との2層からなる中間層を介在させること
により上記熱応力を有効に緩和し得ることを知見した。
ラミックスと金属との熱膨張率の差により発生する熱応
力を緩和すべくセラミックスと金属の接合部にセラミッ
クスと熱膨張率の近い金属と、セラミックスと接合金属
との中間的なまたは該セラミックスに近い熱膨張率を有
する軟質金属との2層からなる中間層を介在させること
により上記熱応力を有効に緩和し得ることを知見した。
本発明は上記知見に基づき、接合時にセラミックスを破
損に招く恐れがなく、高温まで接合強度が劣化しないセ
ラミックスと金属の接合体を提供することをその目的と
するものである。
損に招く恐れがなく、高温まで接合強度が劣化しないセ
ラミックスと金属の接合体を提供することをその目的と
するものである。
ちなみに、この種接合体に用いられるセラミックス、中
間層金属及び接合金属の熱膨張係数は下記の通りである
。
間層金属及び接合金属の熱膨張係数は下記の通りである
。
本発明のセラミックスと金属の接合体は、セラミックス
と金属との間にモリブデン、タングステン、タングステ
ン−ニッケル系合金のうちいずれかより成る第1金属層
と、銅、鉄−ニッケル−コバルト系合金のいずれかより
成る第2金属層とから成る中間層を介在させて接合した
ことを特徴とするものである。
と金属との間にモリブデン、タングステン、タングステ
ン−ニッケル系合金のうちいずれかより成る第1金属層
と、銅、鉄−ニッケル−コバルト系合金のいずれかより
成る第2金属層とから成る中間層を介在させて接合した
ことを特徴とするものである。
以下、本発明を実施例に基づき説明する。
窒化珪素(SiJ+)とイツトリア(Y2O2)、酸化
タングステン(WOs)等の焼結助剤から成り、常圧焼
成法により製作された窒化珪素質焼結体を#17o規格
相当のダイヤモンド砥石を用いて端面を研摩加工すると
ともに、外径?+amの円柱に研摩仕上げし、他方、5
0M420規格相当のクロムモリブデン鋼から成る外径
7III11の円柱をそれぞれ供試材として準備した。
タングステン(WOs)等の焼結助剤から成り、常圧焼
成法により製作された窒化珪素質焼結体を#17o規格
相当のダイヤモンド砥石を用いて端面を研摩加工すると
ともに、外径?+amの円柱に研摩仕上げし、他方、5
0M420規格相当のクロムモリブデン鋼から成る外径
7III11の円柱をそれぞれ供試材として準備した。
先ず、クロムモリブデン鋼製円柱の一端面にシート状の
3Ni−4規格のニッケルロウを用いて第1表に示す厚
さの第1金属層を真空中、1050 ℃の温度で接合し
た0次いで上記第1金属層表面及び窒化珪素質焼結体円
柱の研摩加工端面にチタン−銀−Ti4(Ti−Ag−
Cu)系ロウまたはBAg−4規格の銀ロウのペースト
を厚み50乃至100μ−塗布し、乾燥後、アルゴン雰
囲気中、600℃の温度で約1時間保持して脱脂し、そ
の後、第1表に未す厚さの第2金属層を上記ロウ材面間
に挟持し、真空炉にて約900℃の温度に加熱して円柱
状の接合体を得た。
3Ni−4規格のニッケルロウを用いて第1表に示す厚
さの第1金属層を真空中、1050 ℃の温度で接合し
た0次いで上記第1金属層表面及び窒化珪素質焼結体円
柱の研摩加工端面にチタン−銀−Ti4(Ti−Ag−
Cu)系ロウまたはBAg−4規格の銀ロウのペースト
を厚み50乃至100μ−塗布し、乾燥後、アルゴン雰
囲気中、600℃の温度で約1時間保持して脱脂し、そ
の後、第1表に未す厚さの第2金属層を上記ロウ材面間
に挟持し、真空炉にて約900℃の温度に加熱して円柱
状の接合体を得た。
なお、試料番号1及び2は本発明品と比較するための比
較試料であり、試料番号1は中間層を介在せずにTi−
Ag−Cu系ロウ材を用いて直接窒化珪素質焼結体円柱
とクロムモリブデン鋼製円柱を接合したものであり、試
料番号2は中間層としてWを例とした第1金属層のみを
介在させ、Ti−へg−Cu系ロウ材を用いて上記2円
柱を接合したものである。
較試料であり、試料番号1は中間層を介在せずにTi−
Ag−Cu系ロウ材を用いて直接窒化珪素質焼結体円柱
とクロムモリブデン鋼製円柱を接合したものであり、試
料番号2は中間層としてWを例とした第1金属層のみを
介在させ、Ti−へg−Cu系ロウ材を用いて上記2円
柱を接合したものである。
その後、該接合体をインストロン万能試験機により引張
り強さを測定し、接合強度を評価した。
り強さを測定し、接合強度を評価した。
以上の結果を第1表に示す。
第1表より明らかな様に、中間層を有しない試料番号1
の接合体は接合強度が0.9Kg/mm”と掻めて低く
、セラミックスに近い熱膨張率を有する−を例とした第
1金属層のみを有する試料番号2の接合体でも接合強度
が3.0Kg/lIm”と低いのに対して、本発明の2
層から成る中間層を介在させ、とりわけ接合材としてT
i−Ag−Cu系のロウ材を用いた接合体(試料番号3
乃至23.26乃至50)では接合強度が7.1Kg/
n+n+”以上と高く、なかんずく接合断面積に対する
第1金属層の厚さの比率が20乃至302でなおかつ第
1金属層の厚さに対する第2金属層の厚さの比率が5乃
至50χの接合体く試料番号5乃至8.11乃至14.
19乃至21.28乃至30.35.36.41.42
.47.48)では接合強度が9.9Kg/a++s”
以上とより好ましいことが判る。
の接合体は接合強度が0.9Kg/mm”と掻めて低く
、セラミックスに近い熱膨張率を有する−を例とした第
1金属層のみを有する試料番号2の接合体でも接合強度
が3.0Kg/lIm”と低いのに対して、本発明の2
層から成る中間層を介在させ、とりわけ接合材としてT
i−Ag−Cu系のロウ材を用いた接合体(試料番号3
乃至23.26乃至50)では接合強度が7.1Kg/
n+n+”以上と高く、なかんずく接合断面積に対する
第1金属層の厚さの比率が20乃至302でなおかつ第
1金属層の厚さに対する第2金属層の厚さの比率が5乃
至50χの接合体く試料番号5乃至8.11乃至14.
19乃至21.28乃至30.35.36.41.42
.47.48)では接合強度が9.9Kg/a++s”
以上とより好ましいことが判る。
なお、本発明は上述の実施例のみに限定されるものでは
なく、セラミックスとしては上述したSiJ*−YzO
sJ10z添加系の他、アルミナ(Altos)、その
他の希土類元素酸化物等の添加した公知の窒、化珪素質
焼結体、炭化珪素(SiC)にホウ素(B)、炭素(C
)添加系の他にイツトリア等の希土類元素酸化物を添加
した炭化珪素質焼結体、アルミナにシリカ(SiOz)
、マグネシア(MgO)等を添加したアルミナ質焼結体
、炭化チタン(Tic) 、窒化チタン(TiN)にニ
ッケル(Ni)等を添加したサーメットやアルミナにジ
ルコニア(ZrOz)等を添加した高靭性アルミナ等で
あっても同様の結果が得られることを確認している。
なく、セラミックスとしては上述したSiJ*−YzO
sJ10z添加系の他、アルミナ(Altos)、その
他の希土類元素酸化物等の添加した公知の窒、化珪素質
焼結体、炭化珪素(SiC)にホウ素(B)、炭素(C
)添加系の他にイツトリア等の希土類元素酸化物を添加
した炭化珪素質焼結体、アルミナにシリカ(SiOz)
、マグネシア(MgO)等を添加したアルミナ質焼結体
、炭化チタン(Tic) 、窒化チタン(TiN)にニ
ッケル(Ni)等を添加したサーメットやアルミナにジ
ルコニア(ZrOz)等を添加した高靭性アルミナ等で
あっても同様の結果が得られることを確認している。
以上、詳細に説明したように、本発明のセラミックスと
金属の接合体は、2層からなる金属の中間層を介在させ
て接合したことから、セラミックスと金属との熱膨張率
の差により発生する熱応力を有効に緩和できるため高い
接合強度が得られ、信頼性の高い各種複合構造体への適
用が可能である。
金属の接合体は、2層からなる金属の中間層を介在させ
て接合したことから、セラミックスと金属との熱膨張率
の差により発生する熱応力を有効に緩和できるため高い
接合強度が得られ、信頼性の高い各種複合構造体への適
用が可能である。
Claims (1)
- セラミックスと金属との結合面間に、モリブデン(M
o)、タングステン(W)、タングステン−ニッケル(
W−Ni)系合金のうちいずれかより成る第1金属層と
、銅(Cu)、鉄−ニッケル−コバルト(Fe−Ni−
Co)系合金のいずれかより成る第2金属層とからなる
中間層を介在させて接合したことを特徴とするセラミッ
クスと金属の接合体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3995587A JPS63206365A (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | セラミツクスと金属の接合体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3995587A JPS63206365A (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | セラミツクスと金属の接合体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63206365A true JPS63206365A (ja) | 1988-08-25 |
Family
ID=12567376
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3995587A Pending JPS63206365A (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | セラミツクスと金属の接合体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63206365A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0234577A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-02-05 | Mitsubishi Electric Corp | セラミック−金属複合基板 |
EP0930282A1 (en) * | 1998-01-16 | 1999-07-21 | Denso Corporation | Ceramic-metal junction structure and a method for manufacturing the same |
JP2019185905A (ja) * | 2018-04-04 | 2019-10-24 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミックス部材および緩衝部材の製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60145972A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-08-01 | 株式会社東芝 | セラミックス−金属接合体 |
JPS61117171A (ja) * | 1984-11-08 | 1986-06-04 | 新明和工業株式会社 | 熱応力緩和体 |
-
1987
- 1987-02-23 JP JP3995587A patent/JPS63206365A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60145972A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-08-01 | 株式会社東芝 | セラミックス−金属接合体 |
JPS61117171A (ja) * | 1984-11-08 | 1986-06-04 | 新明和工業株式会社 | 熱応力緩和体 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0234577A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-02-05 | Mitsubishi Electric Corp | セラミック−金属複合基板 |
EP0930282A1 (en) * | 1998-01-16 | 1999-07-21 | Denso Corporation | Ceramic-metal junction structure and a method for manufacturing the same |
JP2019185905A (ja) * | 2018-04-04 | 2019-10-24 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミックス部材および緩衝部材の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS61158876A (ja) | セラミツク対金属の直接液相結合 | |
US4542073A (en) | Ceramic bonded structure and method of manufacturing the same | |
JPH0367985B2 (ja) | ||
JPS62220299A (ja) | ろう付け用ろうおよびそれを用いる結合方法 | |
JP3095490B2 (ja) | セラミックス−金属接合体 | |
JPS63206365A (ja) | セラミツクスと金属の接合体 | |
JPS62289396A (ja) | セラミツクスの接合方法 | |
JPS6077177A (ja) | セラミツクス接合体 | |
JPH0492871A (ja) | セラミックス―金属接合体及びその製造方法 | |
JPH0328391B2 (ja) | ||
JP2001048670A (ja) | セラミックス−金属接合体 | |
JP3153872B2 (ja) | 金属−窒化物系セラミックスの接合構造 | |
JPS6177681A (ja) | 窒化物セラミツクスの接合方法 | |
JPH0240631B2 (ja) | ||
JPS63179733A (ja) | セラミツクスと金属の接合構造体およびその製造方法 | |
JP2005139057A (ja) | 粉末焼結セラミックスのメタライズ法 | |
JPS62113775A (ja) | Sic部材の接合方法 | |
JPH01141881A (ja) | 多孔質セラミックスと金属との接合法 | |
JPS59223280A (ja) | セラミツクと金属の接合方法 | |
JPS6351994B2 (ja) | ||
JPH04235246A (ja) | セラミックスのメタライズ用合金及びメタライズ方法 | |
JPS6077181A (ja) | セラミツクス−金属接合体 | |
JPH0460947B2 (ja) | ||
JPS61136969A (ja) | サイアロンと金属の接合方法 | |
JPS63201071A (ja) | セラミツクスと金属の接合方法 |