JPS60161384A - 炭化物セラミツクス表面の金属化法 - Google Patents
炭化物セラミツクス表面の金属化法Info
- Publication number
- JPS60161384A JPS60161384A JP1658584A JP1658584A JPS60161384A JP S60161384 A JPS60161384 A JP S60161384A JP 1658584 A JP1658584 A JP 1658584A JP 1658584 A JP1658584 A JP 1658584A JP S60161384 A JPS60161384 A JP S60161384A
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- JP
- Japan
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- carbide ceramics
- carbide
- zrc
- ceramics
- tic
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、炭化物セラミックスの表面を金属化する方法
及び炭化物′セラミックス同士を接合する方法に係る、
詳しく云えば、炭化物セラミックスの表面をS1金属で
コーティングする方法上同上セラミックス焼結体同士を
接着する方法に関するものである。
及び炭化物′セラミックス同士を接合する方法に係る、
詳しく云えば、炭化物セラミックスの表面をS1金属で
コーティングする方法上同上セラミックス焼結体同士を
接着する方法に関するものである。
炭化物セラミックス、特にS+ C、B4C及びZrC
焼結体は、高温構造材料の有力候補にあげられている。
焼結体は、高温構造材料の有力候補にあげられている。
しかし、炭化物セラミックスは、本来脆性材料で、応力
が加えられた場合、はとんど塑性変形せず破壊に到る。
が加えられた場合、はとんど塑性変形せず破壊に到る。
従って、セラミックス中の穴、異物、表面の傷等の欠陥
部に応力が集中すると、亀裂が発生し、亀裂の伝播が止
る事なく進行する。
部に応力が集中すると、亀裂が発生し、亀裂の伝播が止
る事なく進行する。
そのため焼結体は、全体として、極めて低い応力下で破
断に至る。いいかえると、セラミックス焼結体の強度は
、焼結体の欠陥によって左右される。
断に至る。いいかえると、セラミックス焼結体の強度は
、焼結体の欠陥によって左右される。
すなわち、炭化物セラミックスは、素材としては、極め
て強度の高い焼結体となり、得る反面、焼結体の欠陥の
存在及びそのサイズに依り強度は著しく変化し・バラツ
キが大きなもりとなる・従−て・現在では、セラミック
スを安定性ある材料として使うためには、その脆さを補
うために、金属材料と複合もしくは接合して使う必要が
ある。本発明者は、この点に鑑み、炭化物セラミックス
と金属との濡れについて、鋭意研究を重ねたところ、S
+ Cp B4 C、T + C及びZrCがSiに
容易に濡れることを見出し、本発明をなすに到った。
て強度の高い焼結体となり、得る反面、焼結体の欠陥の
存在及びそのサイズに依り強度は著しく変化し・バラツ
キが大きなもりとなる・従−て・現在では、セラミック
スを安定性ある材料として使うためには、その脆さを補
うために、金属材料と複合もしくは接合して使う必要が
ある。本発明者は、この点に鑑み、炭化物セラミックス
と金属との濡れについて、鋭意研究を重ねたところ、S
+ Cp B4 C、T + C及びZrCがSiに
容易に濡れることを見出し、本発明をなすに到った。
すなわち、本発明は、高温でも安定な接着力の高い炭化
物セラミックス同士の接合体を得るため、炭化物セラミ
ックスの表面を金属化する乙とを目的とし、S + C
,84C或いはZrC焼結体の表面にSi板もしくは粉
末を置き、不活性もしくは真空中で、加熱処理すること
を特徴とする炭化物表面の金属化法或いは炭化物セラミ
ックスと金属との接着に関するものである。
物セラミックス同士の接合体を得るため、炭化物セラミ
ックスの表面を金属化する乙とを目的とし、S + C
,84C或いはZrC焼結体の表面にSi板もしくは粉
末を置き、不活性もしくは真空中で、加熱処理すること
を特徴とする炭化物表面の金属化法或いは炭化物セラミ
ックスと金属との接着に関するものである。
本発明に用いられる炭化物は、前述のように、SiC,
B C,TiC及びZrCである。 SiC、B4C。
B C,TiC及びZrCである。 SiC、B4C。
TiC及びZrC焼結体は1反応焼結、ホットプレス及
び常圧焼結法いずれのものであってもよい。同上セラミ
ックスに塗布及び接着されるSlは粉末及び板状のもの
いずれでもよい。接着温度は、Slの融点、即ち141
0℃以上あればよいが、炭化物セラミックスと81の濡
れの関係から1500℃以上が好ましい。加熱時間は5
分〜5時間がよい。加熱温度及び時間は接着雰囲気に関
係し、4 X 10Torrの真空下では、1500〜
1700℃2時間は5分〜1時間が適当である。接着温
度が1700℃2時間が5時間をこえるとセラミックス
表面に付着したSlが蒸発し好ましくない。
び常圧焼結法いずれのものであってもよい。同上セラミ
ックスに塗布及び接着されるSlは粉末及び板状のもの
いずれでもよい。接着温度は、Slの融点、即ち141
0℃以上あればよいが、炭化物セラミックスと81の濡
れの関係から1500℃以上が好ましい。加熱時間は5
分〜5時間がよい。加熱温度及び時間は接着雰囲気に関
係し、4 X 10Torrの真空下では、1500〜
1700℃2時間は5分〜1時間が適当である。接着温
度が1700℃2時間が5時間をこえるとセラミックス
表面に付着したSlが蒸発し好ましくない。
雰囲気は^r、 ++e、 H,、等の不活性雰囲気及
び減圧下で可能である。特に注意しなければならないの
は、雰囲気中の酸素及び−酸化炭素で、酸素の存在は、
加熱時にSiの表面を酸化し、COガスの存在は、Si
の表面をSiCに変化し、いずれもSlの炭化物セラミ
ックスに対する濡れ及びセラミックス同士の接着に好ま
しくない。Si金属は、板例えばS1ウエハーを炭化物
セラミックスに置いてもよいし、SI粉末をアルコール
、エチレングリコール。
び減圧下で可能である。特に注意しなければならないの
は、雰囲気中の酸素及び−酸化炭素で、酸素の存在は、
加熱時にSiの表面を酸化し、COガスの存在は、Si
の表面をSiCに変化し、いずれもSlの炭化物セラミ
ックスに対する濡れ及びセラミックス同士の接着に好ま
しくない。Si金属は、板例えばS1ウエハーを炭化物
セラミックスに置いてもよいし、SI粉末をアルコール
、エチレングリコール。
酢酸エチル等でペースト状にし、炭化物セラミックス上
に塗布してもよい。これらの方法で、炭化物表面に81
をコーティングしたセラミックス焼結体が得られるが、
このセラミックスは更に、通常の方法で銀ロウ付けを施
し、金属と接着す“ることが出来る。
に塗布してもよい。これらの方法で、炭化物表面に81
をコーティングしたセラミックス焼結体が得られるが、
このセラミックスは更に、通常の方法で銀ロウ付けを施
し、金属と接着す“ることが出来る。
以下、実施例を用い本発明の詳細な説明する。
実施例 1
常圧焼結SiC(京都セラミック製S C201Jホツ
トプレスB4G 、ホットプレスTiC及びホットプレ
スZrC(いずれも、B4C,TIC及びZrC粉末を
2000℃、 300 kg/Cd、1時間ホットプレ
スして製造した。)焼結体からIOX IOX 10m
mの角柱を切り出し、端面を400番のダイヤモンド砥
石で研崩した。この試片上に、厚さ500 )IIN、
5 X 5 +nmのSi板を置き、1600℃減圧
下、20分加熱し、SiとSiC。
トプレスB4G 、ホットプレスTiC及びホットプレ
スZrC(いずれも、B4C,TIC及びZrC粉末を
2000℃、 300 kg/Cd、1時間ホットプレ
スして製造した。)焼結体からIOX IOX 10m
mの角柱を切り出し、端面を400番のダイヤモンド砥
石で研崩した。この試片上に、厚さ500 )IIN、
5 X 5 +nmのSi板を置き、1600℃減圧
下、20分加熱し、SiとSiC。
ZrC及びB4Cとの接触角を測定した。その結果を第
1表に示す。
1表に示す。
第1表
SiC、B4C、ZrC及びTiCいずれも1500−
1800℃で、Slにより容易に濡れ、炭化物セラミッ
クスの表面を金属化することが出来る。
1800℃で、Slにより容易に濡れ、炭化物セラミッ
クスの表面を金属化することが出来る。
実施例 2
実施例】で用いたSiC,B C,TiC及(/ZrC
焼給体の間に、厚さ500 pm、 IOX 10mm
角のS−ウェハーをはさみ、1600℃、 4 X l
0Torr、 20分加熱し、接着を行った。接着試片
の剪断試験を行い、その結果を第2表に示す。
焼給体の間に、厚さ500 pm、 IOX 10mm
角のS−ウェハーをはさみ、1600℃、 4 X l
0Torr、 20分加熱し、接着を行った。接着試片
の剪断試験を行い、その結果を第2表に示す。
第2表
SiC及びB4Cは接着面から破断したが、lrCは焼
結体の強度が十分でなく、焼結体内から破断したので、
接着面の真の強度は不明である。TiCはいずれの面も
Slで金属化出来たが、TiC同士の接着体は得られな
かった。
結体の強度が十分でなく、焼結体内から破断したので、
接着面の真の強度は不明である。TiCはいずれの面も
Slで金属化出来たが、TiC同士の接着体は得られな
かった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ill炭化物セラミックスの表面に金属をコーティング
し金属化すること及び炭化物セラミックス同士を接合す
ることを特徴とする炭化物セラミックス (2)炭化物セラミックスがSiC、ZrC、TiC、
及び84Gであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の炭化物セラミックス (3)コーティング金属がSiであることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の炭化物セラミックス
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1658584A JPS60161384A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 炭化物セラミツクス表面の金属化法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1658584A JPS60161384A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 炭化物セラミツクス表面の金属化法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60161384A true JPS60161384A (ja) | 1985-08-23 |
Family
ID=11920349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1658584A Pending JPS60161384A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 炭化物セラミツクス表面の金属化法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60161384A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60166288A (ja) * | 1984-02-03 | 1985-08-29 | 工業技術院長 | 炭化物セラミツクス表面の金属化法 |
JP2009196861A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 炭化珪素を用いた部材の製造方法 |
JP2011023451A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | SiC構造体、半導体装置およびSiC構造体の製造方法 |
WO2016194444A1 (ja) * | 2015-06-01 | 2016-12-08 | 株式会社日立製作所 | 炭化珪素セラミックス接合体 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57106587A (en) * | 1980-12-24 | 1982-07-02 | Ngk Spark Plug Co | Silicon carbide sintered body with metallized surface and manufacture |
-
1984
- 1984-01-31 JP JP1658584A patent/JPS60161384A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57106587A (en) * | 1980-12-24 | 1982-07-02 | Ngk Spark Plug Co | Silicon carbide sintered body with metallized surface and manufacture |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60166288A (ja) * | 1984-02-03 | 1985-08-29 | 工業技術院長 | 炭化物セラミツクス表面の金属化法 |
JP2009196861A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 炭化珪素を用いた部材の製造方法 |
JP2011023451A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | SiC構造体、半導体装置およびSiC構造体の製造方法 |
WO2016194444A1 (ja) * | 2015-06-01 | 2016-12-08 | 株式会社日立製作所 | 炭化珪素セラミックス接合体 |
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