JPS6011261A - セラミツクス焼結体の製造方法 - Google Patents

セラミツクス焼結体の製造方法

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JPS6011261A
JPS6011261A JP58113521A JP11352183A JPS6011261A JP S6011261 A JPS6011261 A JP S6011261A JP 58113521 A JP58113521 A JP 58113521A JP 11352183 A JP11352183 A JP 11352183A JP S6011261 A JPS6011261 A JP S6011261A
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JP
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sintering
sintered body
density
powder
pressure
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JP58113521A
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鈴木 弘茂
祐 恩田
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Krosaki Harima Corp
Original Assignee
Kurosaki Refractories Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は強度と均質性を持つ緻密質セラミックス焼結体
の製造方法に関する。
〔従来技術とその問題点〕
一般に難焼結性セラミックスの製法には、反応焼結法、
常圧焼結法、加圧焼結法、HIP法等がある。
反応焼結法は、焼結収縮が少く複雑な形状や高い寸法精
度のものが作り易い反面、気孔が多く残り緻密な焼結体
あるいは高純度の焼結体を得られないという問題がある
また、常圧焼結法では、複雑な形状のものの焼結も可能
で、また緻密質の焼結体が得られるという利点はあるが
、線収縮率が非常に大きく、例えば理論密度の55%の
圧粉体を98%まで焼結するには17.5%もの線収縮
率を必要とする。このため焼結中に変形が起り易く精密
な寸法を得るのが困難である。また、圧粉体中に存在す
る大きな空隙は焼結によっても消滅せず、そのため強度
が低下し、又製品品質にバラツキが大きくなる。それを
防ぐためには、予め均一でかつカサ比重の高い圧粉体を
準備してお(必要がある。
さらに、加圧焼結法では高密度で均質な焼結体を得やす
いが単純形状の圧粉体しか適用できず、そのため比較的
複雑な形状の製品を得るためには仕上段階の加工量が多
くなるという欠点がある。
さらにまた、HIP法は高密度で均質な焼結体を得易い
方法であるが、シール用カプセルや大型の高圧ガス装置
等を必要とし、生産性に問題を持っている。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、複雑な形状を持つ焼結体を寸法精度よ
く作製することができるセラミックス焼結体の製造方法
を提供することにあり、炭化物。
窒化物、酸窒化物、酸化物等のセラミックス焼結体の製
造方法全般に適用できるが、特に難焼結性で強度のバラ
ツキが大き(なり易い材質や難加工性のセラミックスに
対して有効である。
〔発明の構成〕
本発明においては、焼結用粉末を通常の焼結温度以下で
仮焼結して理論密度の80%以上の高いカサ密度を持つ
仮焼結体を作り、その後、その仮焼結体を焼結する。こ
れによって焼結体内の大きな気孔を排除し、かつ焼結に
伴う収縮代を格段に少なくすることができる。また、仮
焼結体は、高いカサ密度を有するものであるので機械加
工が比較的容易で、これによって寸法精度が高く、かつ
高い強度とそのバラツキの少い焼結体が容易に得られる
ものである。
仮焼結体のカサ密度は理論値の80%以下では焼結段階
での収縮率が大きくなって最終製品のバラツキは大きく
なり、また93%以上では機械加工が非常に難しくなる
本発明には、Na 、 llIb 、 TVb族元素の
炭化物。
窒化物、酸窒化物、酸化物粉体等のセラミックスが任意
に適用でき、必要に応じて少量の焼結助剤を添加する。
焼結助剤は前記IVa t I[rb 、 IVb族元
素の化合物中に含有させることもできる。
焼結用粉体は、前記セラミックスの1種または2種以上
と混合粉体に樹脂等のバインダーを混合して調製する。
本発明において前記の仮焼結体は、焼結用粉体を黒鉛グ
イ又は高強度セラミックス製グイ等に充填して、その通
常の焼結温度より低い温度で短時間加圧成形することに
よって得られる。この仮焼結体を得る又1つの方法とし
てHIP法を用いることも勿論可能である。高温下で外
圧を加えると粒子間の接点には局所的に大きな実効応力
が加ゎり塑性流動を起して粒子の再配列が起る。また、
高温に加熱すると微細なセラミ・ノクス粉体は表面拡散
機構により合体成長し、同時に大きな空隙が粒界に形成
され易いが、それらの空隙体外圧を加えると容易につぶ
れてしまうため密度は急激に高くなる。
本発明は、通常の焼結温度以下の温度に均一に加熱した
粉体を数分以内で適当な圧力で加圧することによって粉
体粒子は塑性変形や再配列によって充分高いカサ密度に
充填され、その際、高し)機械加工性を残していると云
う知見に基づ(ものである。
仮焼結体を得るに当っての加圧圧力、温度及び時間等の
条件は、材質とその製品の使用目的等によって最も適当
な値を予備的実験によって予め決める必要がある。温度
が高すぎたり、あるいは、加熱加圧時間が長すぎると、
粒子間に強固な結合が生じてしまい、本焼結に当って高
い緻密性を得ることはできない。温度は通常の焼結温度
に対し100〜300℃低い温度で行うことが適当で、
液相焼結を行う物質については液相を形成する温度直下
が良く、又時間も1〜5分間が望ましい。
このようにして造られた仮焼結体が、理論密度の93%
を越える場合には粒子間の結合が強固になり望ましくな
い。加工性と後工程の収縮率を考慮した場合、理論密度
の80〜92%、望ましくは80〜85%が適当である
このようにして得た仮焼結体は、所望形状に砥石等で機
械加工した後最終密度まで焼結を行って緻密質焼結体を
得る。焼結は、一般の非加圧条件の下で行っても良く、
ガス圧焼結法、或いはHIP法でも何ら支障はない。
この焼結段階の線収縮率は6〜2%で従来の常圧焼結法
での15%以上の線収縮と比較して極めて小さく、焼結
後の仕上加工が省略、あるいは非常に僅かで済むという
効果がある。
〔実施例〕
以下に実施例とともに比較例を挙げて本発明の詳細な説
明する。
実施例1 比表面積15 g / gの市販α−5iC粉体に焼結
助剤としてアモルファスホウ素1重量%とノボラック型
フェノール樹脂2重量%及び硬化促進剤としてヘキサメ
チレンテトラミンを0.2重量%加え、エタノール中で
ボールミル混合を行った後、スプレィドライを用いて平
均20μm径に造粒した。
次にこの造粒体を5Q 1111φの黒鉛ダイに入れヘ
リウムガス中で1750℃に均一化するまで加熱して3
00kg / co!で1分間加圧した。得られた仮焼
結体の密度は2.64g/caで理論密度の82.2%
であった。
この後この仮焼結体を真円度0.3以下の円柱に成形加
工した後ヘリウムガス中、2200℃の無加圧条件で1
時間焼結した。焼結に伴う線収縮は6%、密度は3.1
6g/cIIlで理論密度の98.4%、又この焼結体
の真円度は0.6以下、室温の3点曲げ強度は平均60
.2kg/mm2で、ワイブル係数はm = 187:
あった。
比較例1 実施例1と同様にして得た造粒粉体を3000kg /
 ctAの静水圧力で成形して50I11φ×50fi
の成形体を得た。この成形体をヘリウム中において22
00℃の無加圧条件で1時間焼結した。得られた焼結体
の密度は3.15 g/cJで理論密度の98.1%、
室温の3点曲げ強度は約51.1kg / tm2で、
ワイブル係数はm−12であった。
比較例2 実施例1と同様にして得た造粒粉体を黒鉛ダイに入れ、
ヘリウム中で2000 ”cに加熱して、300kg1
0Aで1分間加圧した。得られた仮焼結体の密度は2.
99g /−で理論密度の93.1%であった。この仮
焼結体は非常に加工しに<<、又ヘリウム中2200℃
の無加圧条件で30分間焼結しても密度は3.01g/
a(にしか上がらなかった。
比較例3 実施例1と同様にして得た造粒粉体を黒鉛ダイに入れ、
ヘリウム中で1750”Cに加熱して、300kg/c
1aで20分間加圧した。得られた仮焼結体の密度は2
.85g/cd、理論密度の88.8%で、この仮焼結
体をヘリウム中2200℃の無加圧条件で30分間焼結
したが密度は2.94g/c+dにしか上がらなかった
実施例2 比表面積1:M/gの市販窒化ケイ素粉に焼結助剤とし
てY2O36重量%、AQ2032重量%とPBAを加
えてエタノール中でボールミル混合を行った後スプレィ
ドライを用いて造粒した。次に造粒体を50顛φの黒鉛
ダイに入れ窒素雰囲気で1600℃に加熱し200kg
/c+aで1分間加圧した。得られた仮焼結体の密度は
2.72g/dで理論密度の83.7%であった。この
仮焼結体を内径25 **φの円筒で内径の真円度0.
4以下に加圧した後1850℃の窒素雰囲気中で30分
間焼結した。焼結に伴う線収縮率は5.7%、密度は3
.20g/cJで理論密度の98.5%であった。焼結
体の内径の真円度は0.5以下で、室温の3点曲げ強度
は平均98.2kg/in2で、ワイブル係数はm−1
8であった。
実施例3 比表面積4イ/gで純度99.7%の市販AQ203粉
末をスプレィドライにより造粒し50mφの黒鉛ダイに
入れアルゴン中で1200℃に均一加熱して200kg
 / cJで1分間加圧した。得られた仮焼結体の密度
は3.25g/cJで理論密度の83.3%であって、
真円度0.3以下の円柱に成形加工した。この仮焼結体
をアルゴン中1720℃の無加圧条件で5時間焼結した
。焼結に伴う線収縮は4%で密度は3.90g/c−で
あった。又この焼結体の真円度は0.5以下で、室温の
3点曲げ強度は平均31.5kg/m2で、ワイブル係
数はm=17であった。
実施例4 比表面積14m/gの市販MN粉体に焼結面剤としてC
aCO32重量%とPVBを加え、ボールミル中で混合
を行った後スプレィドライを用いて造粒した。次に造粒
粉体を50Mφの黒鉛ダイに入れ窒素雰囲気で1700
℃に均一加熱しで、200kg / cdで1分間加圧
した。得られた仮焼結体の密度は2.62g / c+
Jで理論密度の81.4%であった。この仮焼結体を厚
さ5■の板に成形加圧し窒素雰囲気2000°Cで1時
間焼結した。焼結に伴う線収縮率は5.8%、密度は3
.18g/cnで理論密度の98.7%であった。
又、この平板の平行度は0.3m以下で、室温での3点
曲げ強度は平均58.2kg/ *va2で、ワイブル
係数はm=20であった。
実施例5 平均粒径2.4μ幅の市販Si3N4粉末83重量%に
焼結助剤として平均粒径4.4μmの市販AQN粉末粉
末量重量市販MgO1重量%と、シリカゲル7重量%を
加えてエタノール中でボールミル混合した。
さらに乾燥粉砕して黒鉛ダイにつめ1550℃均一加熱
して200kg / caで1分間加圧した。得られた
仮焼結体の密度は2.72g/c+aで理論密度の83
.7%であった。この仮焼結体を厚さ5寵の板状に成形
加工し、窒素雰囲気、1650℃で1時間焼結した。
焼結に伴う線収縮は4%、密度は3.17g/cffl
で理論密度の97.5%であった。又平板の平行度は0
.31■以下であり、室温での3点曲げ強度は平均41
kg / tm ”で、ワイプル係数はm = 17.
5であった。
特許出願人 黒崎窯業株式会社(ばか1名)代理人 手
掘 益(ほか2名) 手続補正書 御午庁長官若杉和夫殿 1、 事イ牛の耘 B爵口58年 特許願 第113521号2、発明の名
称 セラミックス焼結体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 4、代理人 I年月日 明 細 書 1、発明の名称 セラミックス焼結体の製造方法2、特
許請求の範囲 1、焼結用セラミックス粉体と必要により少量の焼結助
剤とバインダーとからなる焼結用粉末を焼結温度より 
100〜300℃低い温度に均一に加熱した状態で短時
間の外圧を加えて理論密度の80〜92%のカサ密度を
もつ仮焼結体を造る工程と、同工程によって得られた仮
焼結体を機械加工した後、さらに焼結する工程を有する
ことを特徴とするセラミックス焼結体の製造方法。
3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は強度と均質性を持つ緻密質セラミックス焼結体
の製造方法に関する。
〔従来技術とその問題点〕
一般に蝋焼結性セラミックスの製法には、反応焼結法、
常圧焼結法、加圧焼結法、HIP法等がある。
反応焼結法は、焼結収縮が少く複雑な形状や高い寸法精
度のものが作り易い反面、気孔が多く残り緻密な焼結体
あるいは高純度の焼結体を得られないという問題がある
また、常圧焼結法では、複雑な形状の物の焼結も可能で
、また緻密質の焼結体が得られるという利点はあるが、
線収縮率が非常に大きく、例えば理論密度の55%の圧
粉体を98%まで焼結するには17.5%もの線収縮率
を必要とする。このため焼結中に変形が起り易く精密な
寸法を得るのが困難である。また、圧粉体中に存在する
大きな空隙は焼結によっても消滅せず、そのため強度が
低下し、又製品品質にバラツキが大きくなる。それを防
ぐためには、予め均一でかつカサ比重の高い圧粉体を準
備しておく必要がある。
さらに、加圧焼結法では高密度で均質な焼結体を得やす
いが単純形状の圧粉体しか通用できず、そのため比較的
複雑な形状の製品を得るためには仕上段階の加工量が多
くなるという欠点がある。
さらにまた、HIP法は高密度で均質な焼結体を得易い
方法であるが、シール用カプセルや大型の高圧ガス装置
等を必要とし、生産性に問題を持っている。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、複雑な形状を持つ焼結体を寸法精度よ
く作製することができるセラミックス焼結体の製造方法
を提供することにあり、炭化物。
窒化物、酸窒化物、酸化物等のセラミックス焼結体の製
造方法全般に適用できるが、特に蝋焼結性で強度のバラ
ツキが大きくなり易い材質や難加工性のセラミックスに
対して有効である。
〔発明の構成〕
本発明においては、焼結用粉末を通常の焼結温度以下で
仮焼結して理論密度の80%以上の高いカサ密度を持つ
仮焼結体を作り、その後、その仮焼結体を焼結する。こ
れによって焼結体内の大きな気孔を排除し、かつ焼結に
伴う収縮代を格段に少なくすることができる。また、仮
焼結体は、高いカサ密度を有するものであるので機械加
工を行うことによって寸法精度が高く、かつ高い強度と
そのバラツキの少い焼結体が容易に得られるものである
仮焼結体のカサ密度は理論値の80%以下では焼結段階
での収縮率が大きくなって最終製品のバラツキは大きく
なり、また93%以上では機械加工が非常に難しくなる
本発明には、IVa 、 I[[b 、 IVb族元素
の炭化物。
窒化物、酸窒化物、酸化物粉体等のセラミックスが任意
に適用でき、必要に応じて少量の焼結助剤を添加する。
焼結助剤は前記IVa 、 l1rb 、 IVb族元
素の化合物中に含有させることもできる。
焼結用粉体は、前記セラミックスの1種または2種以上
と混合粉体に樹脂等のバインダーを混合して開裂する。
本発明において前記の仮焼結体は、焼結用粉体を黒鉛グ
イ又は高強度セラミックス製グイ等に充填して、その通
常の焼結温度より低い温度で短時間加圧成形することに
よって得られる。この仮焼結体を得る又1つの方法とし
てHIP法を用いることも勿論可能である。高温下で外
圧を加えると粒子間の接点には局所的に大きな実効応力
が加わり塑性流動を起して粒子の再配列が起る。また、
高温に加熱すると微細なセラミックス粉体は表面拡散機
構により合体成長し、同時に大きな空隙が粒界に形成さ
れ易いが、それらの空隙は外圧を加えると容易につぶれ
てしまうため密度は急激に高くなる。
本発明は、通常の焼結温度以下の温度に均一に加熱した
粉体を数分以内で適当な圧力で加圧することによって粉
体粒子は塑性変形や再配列によって充分高いカサ密度に
充填され、その際、高い機械加工性を残していると云う
知見に基づくものである。
仮焼結体を得るに当っての加圧圧力、温度及び時間等の
条件鵜、材質とその製品の使用目的等によって最も適当
な値を予備的実験によって予め決める必要がある。温度
が高すぎたり、あるいは、加熱加圧時間が長すぎると、
粒子間に強固な結合が生じてしまい、本焼結に当って高
い緻密性を得ることはできない。温度は通常の焼結温度
に対し100〜300℃低い温度で行うことが適当で、
液相焼結を行う物質については液相を形成する温度直下
が良く、又時間も1〜5分間が望ましい。
このようにして造られた仮焼結体が、理論密度の93%
を越える場合には粒子間の結合が強固になり望ましくな
い。加工性と後工程の収縮率を考慮した場合、理論密度
の80〜92%、望ましくは80〜85%が適当である
このようにして得た仮焼結体は、所望形状に砥石等で機
械加工した後最終密度まで焼結を行って緻密質焼結体を
得る。焼結は、一般の非加圧条件の下で行っても良く、
ガス圧焼結法、或いはHIP法でも何ら支障はない。
この焼結段階の線収縮率は6〜2%で従来の常圧焼結法
での15%以上の線収縮と比較して極めて小さく1、焼
結後の仕上加工が省略、あるいは非常に僅かで済むとい
う効果がある。
〔実施例〕
以下に実施例とともに比較例を挙げて本発明の詳細な説
明する。
実施例1 比表面積15 g / gの市販α−3iC粉体に焼結
助剤としてアモルファスホウ素1重量%とノボラ・ツク
型フェノール樹脂2重量%及び硬化促進剤としてヘキサ
メチレンテトラミンを0.2重量%加え、エタノール中
でボールミル混合を行った後、スプレィドライを用いて
平均20μm径に造粒した。
次にこの造粒体を5Q inφの黒鉛ダイに入れヘリウ
ムガス中で1750℃に均一化するまで加熱して300
kg/ co!で1分間加圧した。得られた仮焼結体の
密度は2.64g /−で理論密度の82.2%であっ
た。
この後この仮焼結体を真円度0.3以下の円柱に整形加
工した後ヘリウムガス中、2200℃の無加圧条件で1
時間焼結した。焼結に伴う線収縮は6%、密度は3.1
6g/cJで理論密度の98.4%、又この焼結体の真
円度は0.6以下、室温の3点曲げ強度は平均60.2
kir/ 璽m”で、ワイブル係数はm=18であった
比較例1 実施例1と同様にして得た造粒粉体を3000kg /
 cIIlの静水圧力で成形して5011φM50mm
の成形体を得た。この成形体をヘリウム中において22
00℃の無加圧条件で1時間焼結した。得られた焼結体
の密度は3.15g/c4で理論密度の98.1%、室
温の3点曲げ強度は平均51.1kg/龍2で、ワイブ
ル係数はm−12であった。
比較例2 実施例1と同様にして得た造粒粉体を黒鉛ダイに入れ、
ヘリウム中で2000°Cに加熱して、300kg /
 ctAで1分間加圧した。得られた焼結体の密度は2
゜99g/−で理論密度の93.1%であった。この焼
結体は非常に加工しに<<、又ヘリウム中2200℃の
無加圧条件で30分間焼結しても密度は3.01g/d
にしか上がらなかった。
比較例3 実施例1と同様にして得た造粒粉体を黒鉛ダイに入れ、
ヘリウム中で1750℃に加熱して、300kg / 
ctAで20分間加圧した。得られた焼結体の密度は2
.85g/c−J、理論密度の88.8%で、この仮焼
結体をヘリウム中2200℃の無加圧条件で30分間焼
結したが密度は2.94g/cdにしか上がらなかった
実施例2 比表面積13rrr/gの市販窒化ケイ素粉に焼結助剤
としてY2036重量%、A(12032重量%とPV
Aを加えてエタノール中でボールミル混合を行った後ス
プレィドライを用いて造粒した。次に造粒体を50顛φ
の黒鉛ダイに入れ窒素雰囲気で1570℃に加熱し20
0kg / ctlで1分間加圧した。得られた仮焼結
体の密度は2.72g/cIAで理論密度の83.7%
であった。この仮焼結体を内径25鶴φの円筒で内径の
真円度0.4以下に加工した後1850℃の窒素雰囲気
中で30分間焼結した。焼結に伴う線収縮率は5.7%
、密度は3.20g/−で理論密度の98.5%であっ
た。焼結体の内径の真円度は0.5以下で、室温の3点
曲げ強度は平均98.2kg/ **2で、ワイブル係
数はm = 18であった。
実施例3 比表面積4 m / gで純度99,7%の市販M2O
3粉末をスプレィドライにより造粒し50顛φの黒鉛ダ
イに入れアルゴン中で1200℃に均一加熱して200
kg / cIilで1分間加圧した。得られた仮焼結
体の密度は3.25g/allで理論密度の83.3%
であって、真円度0.3以下の円柱に整形加工した。こ
の仮焼結体をアルゴン中1720℃の無加圧条件で5時
間焼結した。焼結に伴う線収縮は4%で密度は3.90
g/dであった。又この焼結体の真円度は0.5以下で
、室温の3点曲げ強度は平均31.5kH/w2で、ワ
イブル係数はm−17であった。
実施例4 比表面積14rrf/gの市販AαN粉体に焼結助剤と
してCaC0:s 2重量%とPVBを加え、ボールミ
ル中で混合を行った後スプレィドライを用いて造粒した
。次に造粒粉体を50mIIφの黒鉛ダイに入れ窒素雰
囲気で1700℃に均一加熱して、200kg / c
n!で1分間加圧した。得られた仮焼結体の密度は2.
62g/cJで理論密度の81.4%であった。この仮
焼結体を厚さ5mの板に整形加工し窒素雰囲気2000
°Cで1時間焼結した。焼結に伴う線収縮率は5.8%
、密度は3.18g/cJで理論密度の98.7%であ
った。
又、この平板の平行度は0.3++n以下で、室温での
3点曲げ強度は平均58.2kg/mu2で、ワイブル
係数はm−20であった。
実施例5 平均粒径2.4μmの市販Si3N4粉末83重量%に
焼結助剤として平均粒径4.4μmの市販AQN粉末粉
末量重量市販MgO1重量%と、シリカゲル7重量%を
加えてエタノール中でボールミル混合した。
さらに乾燥粉砕して黒鉛ダイにつめ1550℃均一加熱
して200kg / cJで1分間加圧した。得られた
仮焼結体の密度は2.72g/cjで理論密度の83.
7%であった。この仮焼結体を厚さ5鶴の板状に整形加
工し、窒素雰囲気、1650℃で1時間焼結した。
焼結に伴う線収縮は4%、密度は3.17g/cdで理
論密度の97.5%であった。又平板の平行度は0.3
mm以下であり、室温での3点曲げ強度は平均41kg
 / vam”で、ワイブル係数はm = 17.5で
あった。
特許出願人 黒崎窯業株式会社(ばか1名)代理人 手
掘 益(ほか2名)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、焼結用セラミックス粉体と必要により少量の焼結助
    剤とバインダーとからなる焼結用粉末を焼結温度より 
    100〜300℃低い温度に均一に加熱した状態で短時
    間の外圧を加えて理論密度の80〜92%のカサ密度を
    もつ仮焼結体を造る工程と、同工程によって得られた仮
    焼結体を機械加工した後、さらに焼結する工程を有する
    ことを特徴とするセラミックス焼結体の製造方法。
JP58113521A 1983-06-23 1983-06-23 セラミツクス焼結体の製造方法 Pending JPS6011261A (ja)

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JP58113521A JPS6011261A (ja) 1983-06-23 1983-06-23 セラミツクス焼結体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

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JP58113521A JPS6011261A (ja) 1983-06-23 1983-06-23 セラミツクス焼結体の製造方法

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JPS52142707A (en) * 1976-05-24 1977-11-28 Asahi Chemical Co Hydro oxy apatite sintered articles

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