JPS6059984B2 - 冷延鋼板の片面メツキ装置 - Google Patents
冷延鋼板の片面メツキ装置Info
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- JPS6059984B2 JPS6059984B2 JP56060050A JP6005081A JPS6059984B2 JP S6059984 B2 JPS6059984 B2 JP S6059984B2 JP 56060050 A JP56060050 A JP 56060050A JP 6005081 A JP6005081 A JP 6005081A JP S6059984 B2 JPS6059984 B2 JP S6059984B2
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/50—Controlling or regulating the coating processes
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は冷延鋼板をハーフディップ方式により片面
亜鉛メッキを行なう装置に関する。
亜鉛メッキを行なう装置に関する。
従来から冷延鋼板を片面のみにメッキを行なうにはハ
ーフディップ方式が多く使用されている。
ーフディップ方式が多く使用されている。
この方式はジンクロールに鋼帯を通して溶融亜鉛等のメ
ッキ洛中に片面のみを浸漬してメッキを行なう装置であ
る。第1図はジンクロールによる片面メッキ装置を示す
略図である。1はジンクロールであり、ロール下部は溶
融亜鉛浴2中に浸漬された状態にあり、このジンクロー
ル1に通された鋼帯3は亜鉛浴2中に片面のみ浸漬メッ
キされて片面メッキ鋼板として巻き取られる。このよう
な片面メッキ装置において、ジンクロール1の温度が低
いと、溶融亜鉛がロールに付着して巻き上げられ鋼帯の
非メッキ面3’に溶着する現象がおこる。この非メッキ
面への溶着現象は鋼帯の両端部に多く発生し、亜鉛の損
失になるばかりではなく、コイルに巻取つた場合ビルド
アップ現象をおこし大径のコイルには巻取り不能となる
問題がある。このような非メッキ面への亜鉛の溶着を少
なくするため、ジンクロールをバーナ等により加熱する
ことも実施されている。第1図4は加熱するバーナであ
り、ジンクロール1の上部にロール巾数個のバーナを設
けてロール表面を加熱するものである。しカルバーナに
よる加熱では、ロールの中央部が高温となり易く各部分
の温度制御ができないため、その効果は充分でない。そ
のためバーナの燃焼を多くして温度を上げると、溶融亜
鉛の表面が酸化しドロスと称する酸化亜鉛が発生する。
またこのような大量の燃焼排ガスは四方に拡がりその排
出が困難てあり、作業環境が極めて悪い等の欠点がある
。 この発明はこのような欠点を除くもので、ジンクロ
ールの適切な個所を適当な温度で温度調節が可能にして
非メッキ面への亜鉛の溶着を極少に抑え、かっ大量の燃
焼排ガス等の発生しないクリーンな片面メッキ装置を提
供するものであつて、その特徴とするところは、ジンク
ロールの表面、および側面、ならびに鋼帯端部を加熱す
る電磁誘導加熱装置を設けるとともに、鋼帯がジンクロ
ールと接する個所にガスワイピング装置を設けたことを
特徴とするものである。
ッキ洛中に片面のみを浸漬してメッキを行なう装置であ
る。第1図はジンクロールによる片面メッキ装置を示す
略図である。1はジンクロールであり、ロール下部は溶
融亜鉛浴2中に浸漬された状態にあり、このジンクロー
ル1に通された鋼帯3は亜鉛浴2中に片面のみ浸漬メッ
キされて片面メッキ鋼板として巻き取られる。このよう
な片面メッキ装置において、ジンクロール1の温度が低
いと、溶融亜鉛がロールに付着して巻き上げられ鋼帯の
非メッキ面3’に溶着する現象がおこる。この非メッキ
面への溶着現象は鋼帯の両端部に多く発生し、亜鉛の損
失になるばかりではなく、コイルに巻取つた場合ビルド
アップ現象をおこし大径のコイルには巻取り不能となる
問題がある。このような非メッキ面への亜鉛の溶着を少
なくするため、ジンクロールをバーナ等により加熱する
ことも実施されている。第1図4は加熱するバーナであ
り、ジンクロール1の上部にロール巾数個のバーナを設
けてロール表面を加熱するものである。しカルバーナに
よる加熱では、ロールの中央部が高温となり易く各部分
の温度制御ができないため、その効果は充分でない。そ
のためバーナの燃焼を多くして温度を上げると、溶融亜
鉛の表面が酸化しドロスと称する酸化亜鉛が発生する。
またこのような大量の燃焼排ガスは四方に拡がりその排
出が困難てあり、作業環境が極めて悪い等の欠点がある
。 この発明はこのような欠点を除くもので、ジンクロ
ールの適切な個所を適当な温度で温度調節が可能にして
非メッキ面への亜鉛の溶着を極少に抑え、かっ大量の燃
焼排ガス等の発生しないクリーンな片面メッキ装置を提
供するものであつて、その特徴とするところは、ジンク
ロールの表面、および側面、ならびに鋼帯端部を加熱す
る電磁誘導加熱装置を設けるとともに、鋼帯がジンクロ
ールと接する個所にガスワイピング装置を設けたことを
特徴とするものである。
以下図面にもとづいて説明する。
第2図、第3図はこの発明片面メッキ装置の実施例を示
す図である。シンクロール1の上部にはバーナに替えて
電磁誘導加熱装置5を設ける。この電磁誘導加熱装置は
交流電源を与えることによつてシンクロール1の表面を
誘導加熱するもので、ロール全巾に1個設けてもよいが
数個に分けて設ける方がロール表面温度を各部に分けて
調節できるので好ましい。またシンクロール1の側面に
も同様の電磁誘導加熱装置6を設け、更に鋼帯端部にも
電磁誘導加熱装置7を設けるものである。シンクロール
1のロール表面と側面を加熱する電磁誘導加熱装置5お
よび6は50Hz程度の比較的低周波の電磁誘導加熱装
置を用いる方がその使用目的から好ましい。またこの温
度調節には誘導電圧調整器により電圧を調整して行なう
。第4図は電圧を調整する制御系を示す図である。8は
測温計、9は温度制御器、10は誘導電圧調整器、11
は力率改善用のコンデンサーである。
す図である。シンクロール1の上部にはバーナに替えて
電磁誘導加熱装置5を設ける。この電磁誘導加熱装置は
交流電源を与えることによつてシンクロール1の表面を
誘導加熱するもので、ロール全巾に1個設けてもよいが
数個に分けて設ける方がロール表面温度を各部に分けて
調節できるので好ましい。またシンクロール1の側面に
も同様の電磁誘導加熱装置6を設け、更に鋼帯端部にも
電磁誘導加熱装置7を設けるものである。シンクロール
1のロール表面と側面を加熱する電磁誘導加熱装置5お
よび6は50Hz程度の比較的低周波の電磁誘導加熱装
置を用いる方がその使用目的から好ましい。またこの温
度調節には誘導電圧調整器により電圧を調整して行なう
。第4図は電圧を調整する制御系を示す図である。8は
測温計、9は温度制御器、10は誘導電圧調整器、11
は力率改善用のコンデンサーである。
シンクロール表面ならびに側面の温度を測温計8により
測定して誘導電圧調整器10により第3図の電磁誘導加
熱装置5の加熱温度を調節するものである。また鋼帯端
部を加熱する第3図の電磁誘導加熱装置7は比較的高周
波の電磁誘導加熱装置が極部的に加熱するもので適して
いる。またその加熱温度の調節はサイリスタ式高周波電
源装置又は高周波発振管により調節する。第5図はサイ
リスタ式高周波電源装置による加熱温度制御系を示す。
12はサイリスタ式高周波電源装置てある。
測定して誘導電圧調整器10により第3図の電磁誘導加
熱装置5の加熱温度を調節するものである。また鋼帯端
部を加熱する第3図の電磁誘導加熱装置7は比較的高周
波の電磁誘導加熱装置が極部的に加熱するもので適して
いる。またその加熱温度の調節はサイリスタ式高周波電
源装置又は高周波発振管により調節する。第5図はサイ
リスタ式高周波電源装置による加熱温度制御系を示す。
12はサイリスタ式高周波電源装置てある。
測温8により鋼帯端部を測温して高周波発振管12によ
り電磁誘導加熱装置7の加熱温度を調節するものである
。又この電磁誘導加熱装置7は鋼帯の巾によつて巾方向
に移動可能に設けてある。このようにしてシンクロール
1のロール表面および側面ならびに鋼帯端部の加熱温度
を自在に調節・設定して鋼帯の非メッキ面への亜鉛の巻
上り溶着を防止するものである。さらにこの発明装置は
鋼帯がシンクロールに接する個所にガスワイピング装置
を設ける。第2図13はガスワイピング装置にして鋼帯
端部に向けプロパンガスを酸素とともに噴出燃焼させ高
温高速の燃焼ガスにより亜鉛の巻上りを吹き飛ばし除去
するもので、前述の誘導加熱装置と併用することにより
効果的に亜鉛の巻上り溶着を極少に抑えることができる
ものである。この発明片面メッキ装置を用いての操業例
についてのべる。
り電磁誘導加熱装置7の加熱温度を調節するものである
。又この電磁誘導加熱装置7は鋼帯の巾によつて巾方向
に移動可能に設けてある。このようにしてシンクロール
1のロール表面および側面ならびに鋼帯端部の加熱温度
を自在に調節・設定して鋼帯の非メッキ面への亜鉛の巻
上り溶着を防止するものである。さらにこの発明装置は
鋼帯がシンクロールに接する個所にガスワイピング装置
を設ける。第2図13はガスワイピング装置にして鋼帯
端部に向けプロパンガスを酸素とともに噴出燃焼させ高
温高速の燃焼ガスにより亜鉛の巻上りを吹き飛ばし除去
するもので、前述の誘導加熱装置と併用することにより
効果的に亜鉛の巻上り溶着を極少に抑えることができる
ものである。この発明片面メッキ装置を用いての操業例
についてのべる。
巾1500rn!n径100『のシンクロールに第1表
に示す仕様の誘導加熱装置を設置した。
に示す仕様の誘導加熱装置を設置した。
またガスワイピング装置の仕様を第2表に示す。
この装置を用い、巾1000Twt1厚み2.37rr
1fLの鋼板に亜鉛浴による片面亜鉛メッキを行なつた
。
1fLの鋼板に亜鉛浴による片面亜鉛メッキを行なつた
。
第6図は、本発明装置と従来装置でのシンクロール表面
の温度曲線を示す図である。横軸はロール表面各位置を
示し、縦軸はその温度を示す。図中実線は本発明装置の
温度曲線であり、点線は従来装置の温度曲線である。図
で明らかなように従来装置ではロール表面中央部の温度
が高く鋼帯端部、ロール端部になると降下している。こ
れに対し本発明装置ではロール表面の温度は鋼帯端部を
除き殆んど一定で460℃あり、鋼帯端部のみ550℃
まで上昇している。すなわち亜鉛の巻上り溶着の起る部
分を選択的に高温に調整したものである。このように鋼
帯端部を高温に保持してガスワイピングにより高温高速
の噴射ガスにより亜鉛を吹き飛ばすとによつて亜鉛の巻
上り溶着を極少に抑えることができるものである。この
ような操業の結果本発明装置は従来装置に比較し大巾に
亜鉛の溶着を抑えることができた。
の温度曲線を示す図である。横軸はロール表面各位置を
示し、縦軸はその温度を示す。図中実線は本発明装置の
温度曲線であり、点線は従来装置の温度曲線である。図
で明らかなように従来装置ではロール表面中央部の温度
が高く鋼帯端部、ロール端部になると降下している。こ
れに対し本発明装置ではロール表面の温度は鋼帯端部を
除き殆んど一定で460℃あり、鋼帯端部のみ550℃
まで上昇している。すなわち亜鉛の巻上り溶着の起る部
分を選択的に高温に調整したものである。このように鋼
帯端部を高温に保持してガスワイピングにより高温高速
の噴射ガスにより亜鉛を吹き飛ばすとによつて亜鉛の巻
上り溶着を極少に抑えることができるものである。この
ような操業の結果本発明装置は従来装置に比較し大巾に
亜鉛の溶着を抑えることができた。
第7図は本発明装置と従来装置での非メッキ面へ溶着巾
を示す図である。横軸は鋼帯速度であり、縦軸は非メッ
キ面への溶着巾である。図中実線は本発明装置の溶着巾
であり、点線は従来装置での溶着巾である。図で明らか
のように本発明装置は従来装置に対し溶着巾を約112
に減少させるとができた。溶着巾を小さくすれば溶着厚
みも薄くなる。溶着厚みが薄くなれ(よ、ビルドアップ
量が少なくなり、コイル巻取厚を大きくすることが出来
る。第8図は本発明装置と従来装置でのコイル巻取可能
厚さを示す図である。
を示す図である。横軸は鋼帯速度であり、縦軸は非メッ
キ面への溶着巾である。図中実線は本発明装置の溶着巾
であり、点線は従来装置での溶着巾である。図で明らか
のように本発明装置は従来装置に対し溶着巾を約112
に減少させるとができた。溶着巾を小さくすれば溶着厚
みも薄くなる。溶着厚みが薄くなれ(よ、ビルドアップ
量が少なくなり、コイル巻取厚を大きくすることが出来
る。第8図は本発明装置と従来装置でのコイル巻取可能
厚さを示す図である。
横軸は鋼帯速度であり、縦軸はコイル巻取可能厚さであ
る。図中実線は本発明装置での実績であり、点線は従来
装置での実績てある。このコイル巻取可能厚さは前述し
たように鋼帯の非メッキ面へ亜鉛の溶着が多いとビルド
アップ現象によりコイルとして巻取不可能となるがその
巻取り可能のコイル肉厚を測定したものである。図で明
らかのように本発明装置では亜鉛の溶着が少ないためコ
イルの巻取り可能厚さは従来装置での厚さの約2倍のコ
イル巻取りが可能となつた。以上のように本発明片面メ
ッキ装置は、シンクロール表面温度を適切な位置を適当
な温度に調整が可能であり、この適切な温度をもつたシ
ンクロールと、ガスワイピングの相乗的効果により鋼帯
の非メッキ面への亜鉛の巻上り溶着を極少に抑えること
ができるのである。
る。図中実線は本発明装置での実績であり、点線は従来
装置での実績てある。このコイル巻取可能厚さは前述し
たように鋼帯の非メッキ面へ亜鉛の溶着が多いとビルド
アップ現象によりコイルとして巻取不可能となるがその
巻取り可能のコイル肉厚を測定したものである。図で明
らかのように本発明装置では亜鉛の溶着が少ないためコ
イルの巻取り可能厚さは従来装置での厚さの約2倍のコ
イル巻取りが可能となつた。以上のように本発明片面メ
ッキ装置は、シンクロール表面温度を適切な位置を適当
な温度に調整が可能であり、この適切な温度をもつたシ
ンクロールと、ガスワイピングの相乗的効果により鋼帯
の非メッキ面への亜鉛の巻上り溶着を極少に抑えること
ができるのである。
また大量の燃焼排ガス等の発生がないため、環境の良好
な片面メッキ作業が可能となりその効果多大なものであ
る。
な片面メッキ作業が可能となりその効果多大なものであ
る。
第1図はシンクロールによる片面メッキ装置を示す略図
、第2図、第3図はこの発明片面メッキ装置の実施例を
示す図、第4図は電圧を調整する制御系を示す図、第5
図はサイリスタ式高周波電源装置による加熱温度制御系
を示す図、第6図は本発明装置と従来装置でのシンクロ
ール表面の温度曲線を示す図、第7図は本発明装置と従
来装置での非メッキ面への溶着巾を示す図、第8図は本
発明装置と従来装置でのコイル巻取可能厚さを示す図で
ある。 図中1・・・・・ウンクロール、2・・・・・・亜鉛浴
、3・・・・・・鋼帯、4・・・・・・バーナ、5,6
,7・・・・・・電磁誘導”加熱装置、8・・・・・・
測温計、9・・・・・・温度制御器、10・・・・・・
誘導電圧調整器、11・・・・・コンデンサー、12・
・・・・・サイリスタ式高周波電源装置、13・・ガス
ワイピング装置。
、第2図、第3図はこの発明片面メッキ装置の実施例を
示す図、第4図は電圧を調整する制御系を示す図、第5
図はサイリスタ式高周波電源装置による加熱温度制御系
を示す図、第6図は本発明装置と従来装置でのシンクロ
ール表面の温度曲線を示す図、第7図は本発明装置と従
来装置での非メッキ面への溶着巾を示す図、第8図は本
発明装置と従来装置でのコイル巻取可能厚さを示す図で
ある。 図中1・・・・・ウンクロール、2・・・・・・亜鉛浴
、3・・・・・・鋼帯、4・・・・・・バーナ、5,6
,7・・・・・・電磁誘導”加熱装置、8・・・・・・
測温計、9・・・・・・温度制御器、10・・・・・・
誘導電圧調整器、11・・・・・コンデンサー、12・
・・・・・サイリスタ式高周波電源装置、13・・ガス
ワイピング装置。
Claims (1)
- 1 ハーフディップ方式の片面メッキ装置において、シ
ンクロールの表面および側面、ならびに鋼帯端部を加熱
する電磁誘導加熱装置を設けるとともに、鋼帯の出側の
シンクロールに接する個所にガスワイピング装置を設け
たことを特徴とする冷延鋼板の片面メッキ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56060050A JPS6059984B2 (ja) | 1981-04-20 | 1981-04-20 | 冷延鋼板の片面メツキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56060050A JPS6059984B2 (ja) | 1981-04-20 | 1981-04-20 | 冷延鋼板の片面メツキ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57174441A JPS57174441A (en) | 1982-10-27 |
JPS6059984B2 true JPS6059984B2 (ja) | 1985-12-27 |
Family
ID=13130861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56060050A Expired JPS6059984B2 (ja) | 1981-04-20 | 1981-04-20 | 冷延鋼板の片面メツキ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6059984B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6348177U (ja) * | 1986-09-13 | 1988-04-01 | ||
JPS6425783U (ja) * | 1987-08-06 | 1989-02-13 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006023283B3 (de) * | 2006-05-18 | 2007-11-08 | Wieland-Werke Ag | Beschichtungsanlage für Metallbänder und Verfahren zur Herstellung einseitig beschichteter Metallbänder |
JP6848801B2 (ja) * | 2017-10-11 | 2021-03-24 | Jfeスチール株式会社 | 溶融金属めっき鋼帯の製造設備 |
-
1981
- 1981-04-20 JP JP56060050A patent/JPS6059984B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6348177U (ja) * | 1986-09-13 | 1988-04-01 | ||
JPS6425783U (ja) * | 1987-08-06 | 1989-02-13 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57174441A (en) | 1982-10-27 |
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