JPS62103353A - 薄目付溶融メツキ法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、鋼ストリフプの連続溶融メッキ法において、
溶融メッキ金属を通過して浮上する鋼ストリップに付着
する溶融メッキの付着値を少なくする殉目付溶融メッキ
法に（Ａするものである。

従来の技術 一般に、鋼ストリツプの溶融メッキ法におけるメンキ金
属目付量の制御は、主としてガスワイピング法で行なわ
れている。この方法は、溶融メッキ金属浴を連続的に通
過して浮上する鋼ストリフプに付着した溶融状態のメッ
キ金属に空気、窒素ガス、水蒸気などの高温、高圧の気
体を吹き付けて、余剰のメッキを払拭し、所定のメッキ
目付脣に制御するものである。

しかし、この方法でメッキ金属の薄目付化あるいは鋼ス
トリップの高速メッキ化を行なわんとすると、かなりの
高圧ガスを吹き付けるため、ガスの作業環境を悪化し、
溶融メッキ金属のスプラシュを増して得られたメッキ鋼
板の外観性を著しく悪化する問題があった。

これらの問題点を解決する方法として１例えば、特公昭
５８−２３４８４号公報のように溶融メッキ金属浴から
浮上した鋼ストリップ及び浮上箇所近傍の浴表面に移動
磁界を付加し、鋼ストリップの表面及び鋼ストリップの
浮上箇所近傍の浴表面に沿って、溶融メッキ層のドラッ
グアウトを防止する向きに電磁力を誘発させながら、該
ｒｒＬ＆ｉ力が作用する範囲外の上方に位置したノズル
から加熱気体を吹付けて、メンキ厚の最終仕上げ的制御
と均−化を行なう方法がある。

この方法は、輻射気体の乱流を小さくするため、ノズル
を移動磁界装置とはなし電磁力の作用する範囲に設置し
ているが、ドラッグアウト金属の多い高速通板メッキの
場合あるいは極薄目付メッキの場合は、鋼ストリツプ表
面の溶融メッキ金属の一部を掻き取る必要があり、ガス
ワイピング位置で電磁力が働いてないため電磁力でのワ
イピング効果が十分発揮できない欠点があった。

発明が解決しようとする問題点 本発明は、上記した従来の問題点を解決したもので、亜
鉛、錫、アルミニウムあるいはこれらの合金など各種金
属の溶融メッキ法において、所要の溶融メッキ金属目付
量に制御できる薄目付溶融メッキ法を提供するものであ
る。

問題点を解決するための手段 本発明の要旨は溶融メッキ金属浴中を通過して浮上する
鋼ストリップに付着した溶融メッキ金属に移ｆＪＪ磁界
を付加して該メッキ浴面側へ電磁力を作用させる移動磁
界発生装置に気体ワイピングノズルを介装設置して余剰
の溶融メッキ金属を払拭する薄目付溶融メッキ法である
。

作用 以下、本発明について図面を参照しながら詳細に説明す
る。

第１図は両面溶融メッキ装置の鋼ストリツプ出側を示す
。図において１は連続的に走行する鋼ストリップである
。２は溶融メッキ金属浴で、亜鉛、錫、アルミニウムあ
るいはこれらの合金などのメッキ金属を溶解している。

３はデフレクタ−ロールで、溶融メッキ金属浴２内に設
けられている。すなわち鋼ストリップ１は、溶融メッキ
金属浴２中のデフレクタ−ロール３を周回して浮上する
ように設けられている。

４．４′は移動磁界発生装置である。５．５′は移動磁
界発生用単層巻コイルである。すなわち移動磁界発生装
置４，４′は移動磁界発生用単層巻コイル５．５′を内
蔵して構成されている。

また移動磁界発生装置４．４′は第２図で示すように移
動磁界発生用二層巻コイル６．６′を内蔵して構成して
もよい。

第３図および第４図は移動磁界発生コイルを例示したも
ので、三相可変電圧可変周波数電源１１で駆動されるリ
ニアインダクションモータを用いたものである。第３図
は１個のスロット８に一層のコイル５を施した単層巻、
また第４図はスロー／　ト８に゛二層のコイル６を施し
て両端部に半収納部を有しない全長二層巻移動磁界発生
装置を示す、尚。

第４図の巻き方は第３図に較ベモータエッジ部の’ｉｆ
ｍ力が大きい。

さらに第１図において９は気体ワイピングノズルで、移
動磁界発生装置４の中央部（第１図のごとき）またその
外端部（第２図のごとき）などのように、各コイル５又
は６間の任意の位置で、かつ鋼ストリップｌの直交方向
あるいは溶融メッキ金属浴２側に指向する体系で介装設
置され、空気、窒素、水蒸気などの高圧気体を噴射する
。

本発明は上記説明した第１図および第２図において、溶
融メッキ金属浴２中を通過して浮上する鋼ストリップｌ
に付着した溶融メッキ金ｊあ１０を挟んで設置した移動
磁界発生装置４．４′　（移動磁界発生用コイル５．５
′）に多相交流を通電し、４　（５，６）と４′　（５
′、６′）方向の磁界を鋼ストリップの長子方向下向き
に移動させ、移動磁界により溶融メッキ金属ＩＯに誘導
電流を誘起し、磁界と′電流との相互作用で溶融金属浴
２面側に誘起されるＷＬ電磁力メッキ金属の薄目付化を
計り、さらに移動磁界発生装置４．４′に介装したワイ
ピングノズルで気体を吹付けて溶融メンキ金属を払拭し
ようとするものである。

上記のような本発明によると電磁力が作用する範囲内で
気体払拭すると、気体払拭対向位置の電磁力は、第１図
および第２図で示すように大きくなり、鋼ストリフプ１
に付着した溶融ノー２キ金属ｌＯの膜厚が一段と薄くな
って薄目付鋼板を容易に製造することができる。

実施例 次に本発明の詳細な説明する。

鋼ストリップに付着したメッキ溶融金属に′ｊヒ磁力を
１＠かすための第１図に示す移！、ＰＩＪ磁界を用いる
タイプの溶融金属付着量制御装器を溶融亜鉛連続メツキ
ラインに設置して行なった。

移動磁界装置をメッキ金属浴内を通過して一ヒ昇する鋼
ストリップを挟んで対向して設置し、移動磁界を発生さ
せ、溶融金属に誘起される二次電流との相互作用で溶融
金属のドラッグアウトを抑制するように電磁力を発生さ
せている。

移動磁界発生装置の対向する面の高さは２００ｍｖａ、
幅は鋼ストリップｌより広く、鋼ストリップ１から５０
ｍｍ＃して、磁界密度はＢ　＝　０．１５ｗｂ／　ｒｎ
’で、同波数ｆ　＝　１５００Ｈｚの移動磁界を発生さ
せた。

鋼ストリップ１に付着した溶融状態のメッキ金１ｉ１ｆ
ｔ、ＩＯに電磁力を作用させながら鋼ストリップ１から
距離２０＠ａ＋離して移動磁界発生装置４に設置したガ
スワイピングノズル９から１．２Ｋｇ／ｃ＋ａ２の高圧
ガスを噴射させた。

ストリップの通板速度が９０ｍ／ｗｉｎでメッキした結
果、従来法のカスワイピングでは、付着量が７１ｇ／ｍ
’片面であるが、電磁力の作用する範囲内でガスワイピ
ンクを行なった場合は４３ｇ／ｍ’片面となった。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明実施例の説明図、第３図お
よび第４図は移動磁界発生装置の説明図である。 ｌ・・会ストリップ、２・・・メッキ浴、３拳・・デフ
レクタ−ロール、４．４′拳・働移動磁界発生装置、５
，５′　・・・単層巻コイル、６．６′　・−−２１＋
コイル、７・ｍ−スロット、９・・・気体ワイピングノ
ズル、１０・１１１１付着メッキ金属、Ｉｌ−・・電源
、１２１１・・コア。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 溶融メッキ金属浴中を通過して浮上する鋼ストリップに
   付着した溶融メッキ金属に移動磁界を付加して該メッキ
   浴面側へ電磁力を作用させる移動磁界発生装置に気体ワ
   イピングノズルを介装設置して余剰の溶融メッキ金属を
   払拭することを特徴とする薄目付溶融メッキ法。