JPH05331610A - 薄目付け連続溶融メッキ法 - Google Patents

薄目付け連続溶融メッキ法

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JPH05331610A
JPH05331610A JP13862492A JP13862492A JPH05331610A JP H05331610 A JPH05331610 A JP H05331610A JP 13862492 A JP13862492 A JP 13862492A JP 13862492 A JP13862492 A JP 13862492A JP H05331610 A JPH05331610 A JP H05331610A
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和範 永井
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 連続溶融メッキ法で発生するスプラッシュを
防止し、美麗な外観性状をもつ溶融メッキ鋼板を製造す
る方法。 【構成】 溶融メッキ金属浴中を通過して浮上する鋼ス
トリップのエッジ部近傍を挟んで鋼ストリップの幅方向
で内側に向って鋼ストリップと移動磁界装置の距離が拡
がるように移動磁界発生装置を鋼ストリップに対し5〜
40°の角度で配置し鋼ストリップのエッジ部近傍に付
着した溶融メッキ金属に移動磁界を付加して該メッキ浴
面側へ電磁力を作用させ、さらに該電磁力が作用する鋼
ストリップエッジ部を含んだ位置で溶融メッキ金属に気
体を吹き付けて余剰の溶融メッキ金属を払拭する事を特
徴とする薄目付溶融メッキ法。 【効果】 従来法に比べよりコンパクトな装置で同一レ
ベルのメッキ量の薄目付化が可能となり、スプラッシュ
を防止し、美麗な外観性状の優れた溶融メッキ鋼板が得
られた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、鋼ストリップの連続溶
融メッキ法において、溶融メッキ金属浴中を通過して上
昇する鋼ストリップに溶着した溶融メッキ金属を薄目付
け制御する連続溶融メッキ法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、溶融メッキ法で鋼ストリップに
付着した溶融メッキ金属の制御法は、主としてガスワイ
ピング法で行われている。この方法は、溶融メッキ金属
浴を連続的に走行して通過し上昇する鋼ストリップに付
着した溶融状態のメッキ金属に空気や窒素などの気体を
高速度に吹付けて、余剰の溶融メッキ金属を払拭し、所
定のメッキ目付量に制御したメッキ鋼板を製造するもの
である。しかしながら、このような製造法では、メッキ
目付量の少ない極薄メッキ鋼板を製造することは困難で
あった。しかも、ガスワイピングノズルから高圧ガスを
溶融メッキ金属を溶着した鋼ストリップに吹き付けるた
め、騒音が激しく、作業環境を悪化する問題があった。
【0003】このような問題を解消するメッキ方法とし
て、例えば特公昭58−23464号公報、特開昭61
−266560号公報や特開平1−7261号公報など
のように、溶融メッキ金属浴中を通過して上昇する鋼ス
トリップに付着した余剰のメッキ金属を、電磁力とガス
ワイピングノズルを併用して薄目付量に制御する溶融メ
ッキ法が開発されている。これらの溶融メッキ方法は、
磁界発生装置を使用する事によってガスワイピングノズ
ルから噴出される気体の圧力が低減されて騒音問題が多
少改善されるものの、かなり高い圧力ガスを吹き付ける
ため払拭された溶融メッキ金属のスプラッシュが多く出
現し、製造されたメッキ製品の外観性を著しく悪化させ
る問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、連続溶融メ
ッキ法で発生するスプラッシュを防止し、美麗な外観性
状をもつ溶融メッキ鋼板を製造する事を目的にして多く
の実験と検討を重ねた結果の一例を、図3に示す。図3
は、鋼ストリッブ1200mm巾の端縁部より長さ45
0mの移動磁界発生装置を、鋼ストリップに平行にまた
20°の離隔角度で配置した場合の鋼ストリップ端部に
働く電磁力分布を示す。磁界発生装置を走行する鋼スト
リップ巾方向でかつ該ストリップに等間隔(平行)で架
設すると点線で示すように、鋼ストリップ巾中央部に向
かって電磁力が急激に低下するため、余剰の溶融メッキ
金属が溶融めっき浴側に押し下げられず、多量の余剰溶
融メッキ金属がガスワイピングノズルによってのみ払拭
される理由から多くのスプラッシュが発生する。ところ
が、磁界発生装置を鋼ストリップ端縁部からその巾方向
中央部にかけて漸次離隔させて架設すると、実線で示す
ように、電磁力の急激低下が避けられるため、スプラッ
シュの発生が著しく抑制できる事を知見した。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明はこの知見に基づ
いて構成したもので、その要旨は、溶融メッキ金属浴中
を通過して上昇する鋼ストリップに溶着した溶融メッキ
金属を浴面側に押し下げる電磁力を発生する移動磁界発
生装置を鋼ストリップ端縁部からその巾方向中央部にか
けて漸次離隔させて架設すると共に、電磁力作用範囲の
溶融メッキ金属に気体を吹き付けて余剰の溶融メッキ金
属を払拭する薄目付け連続溶融メッキ法である。
【0006】以下、本発明法について図面を参照しなが
ら詳細に説明する。図1および図2は本発明法の一実施
例を概略図で示したもので、図1は連続溶融メッキ装置
の側視断面図、図2は図1の溶融メッキ金属払拭域のA
−A線横断面図を示す。図1において1は溶融メッキ金
属浴で、亜鉛、錫、アルミニウムなどの耐食性メッキ金
属が溶解されている。2はポツトロールで、溶融メッキ
金属浴1に浸漬して設けられている。3はイクジットロ
ールで、溶融メッキ金属浴面下に配置されている。4は
走行する鋼ストリップで、メッキされる材料である。す
なわち、走行する鋼ストリップ4は、ポットロール2を
転回し、イクジットロール3を経て溶融メッキ金属5を
溶着し、上昇するように構成されている。6は移動磁界
発生装置で、磁界発生用コイル7の複数個を鋼ストリッ
プ4の走行方向に並べて構成されている。また、該磁界
発生装置6は、図2で示すように、鋼ストリップ4の端
縁部からその巾方向中央部にかけて広角度に漸次離隔さ
せて架設されている。8はガスワイピングノズルであ
る。ガスワイピングノズル8は、移動磁界発生装置6の
電磁力作用範囲内の位置に架設されて、走行する鋼スト
リップ4に付着して上昇する溶融メッキ金属に気体を吹
き付けて余剰の溶融メッキ金属を払拭するものである。
【0007】すなわち、本発明は、溶融メッキ金属浴1
を通過して上昇する鋼ストリップに溶着した余剰のメッ
キ金属を電磁力とガスワイピングノズル8で浴面側に押
し下げながら、薄目付の溶融メッ鋼板を、連続して製造
する。ところが、本発明では、移動磁界発生装置を鋼ス
トリップ端縁部からその巾方向中央部にかけて漸次離隔
されるように架設しているため、電磁力が鋼ストリップ
端縁部で大きく働き該ストリップ中央部に向かって連続
的に小さくなる事で、電磁力の急激な低下変化が防止さ
れ、鋼ストリップに付着した溶融メッキ金属の急激な厚
み変化を防止され、スプラッシュの発生が抑制される効
果を奏する。上記のような本発明法によると、溶融メッ
キ金属のスプラッシュの付着を防止した外観性の優れた
メッキ製品が製造される。次に、本発明の実施例につい
て説明する。
【0008】
【実施例】板厚0.8mm、板巾1200mmの鋼スト
リップを150m/分の速度で通板しガスワイピングノ
ズルで溶融亜鉛のメッキポットから引上げられた鋼スト
リップに付着した溶融亜鉛を払拭した。この時装置巾4
50mm、装置高さ350mmの移動磁界発生装置を鋼
ストリップのエッジを挟んで鋼ストリップ幅方向の内側
に向って20°傾けて設置した。また、移動磁界発生装
置は、鋼ストリップ最エッジ部で鋼ストリップから25
0mm離した。その位置で磁束密度がB=0.25wb
/m2 で周波数f=1500Hzの移動磁界を発生させ
た。この時スプラッシュの発生なくガスワイピングでき
た時のメッキ量は30g/m 2 片で移動磁界発生装置の
消費電力は900KVAであった。一方、従来法の鋼ス
トリップ全幅に渡り移動磁界発生装置を配置して磁束密
度をB=0.25wb/m2 で周波数f=1500Hz
の移動磁界を発生させ、スプラッシュの発生なくガスワ
イピングできた時のメッキ量は28g/m2 片で移動磁
界発生装置の消費電力は1200KVAであった。以上
の様に本発明法で従来法と同レベルの薄目付化効果が得
られかつ消費電力も従来法に比べ少ない。
【0009】
【発明の効果】以上述べたように、溶融メッキ金属の薄
目付化あるいは、鋼ストリップの高速メッキ化を阻害す
るガスワイピングによるスプラッシュを抑制するため、
スプラッシュが特に発生しやすい鋼ストリップ最エッジ
部に、メッキポットから引上げられる鋼ストリップに付
着した溶融メッキ金属を抑制する移動磁界発生装置(電
磁力発生装置)を鋼ストリップの両エッジ部分に鋼スト
リップの幅方向で内側に向って鋼ストリップとの距離を
長くする様に配置する事で従来法に比べよりコンパクト
な装置で従来法と同レベルのメッキ量の薄目付化を可能
とした。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明法の一実施例を示す概略図。
【図2】図1の溶融メッキ金属払拭域のA−A線横断面
図、
【図3】鋼ストリップ1200mm巾の端縁部より長さ
450mの移動磁界発生装置を、鋼ストリップに平行に
また20°の離隔角度で配置した場合の鋼ストリップ端
部に働く電磁力分布を示す図である。
【符号の説明】
1 溶融メッキ金属浴 2 ポットロール 3 イクジットロール 4 鋼ストリップ 5 溶融メッキ金属 6 移動磁界発生装置 7 磁界発生用コイル 8 ガスワイピングノズル

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶融メッキ金属浴中を通過して上昇する
    鋼ストリップに溶着した溶融メッキ金属を浴面側に押し
    下げる電磁力を発生する移動磁界発生装置を鋼ストリッ
    プ端縁部からその巾方向中央部にかけて漸次離隔させて
    架設すると共に、電磁力作用範囲の溶融メッキ金属に気
    体を吹き付けて余剰の溶融メッキ金属を払拭する事を特
    徴とする薄目付け連続溶融メッキ法。
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