JPH0853742A - 巾方向均一連続溶融メッキ法 - Google Patents

巾方向均一連続溶融メッキ法

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JPH0853742A
JPH0853742A JP6188594A JP18859494A JPH0853742A JP H0853742 A JPH0853742 A JP H0853742A JP 6188594 A JP6188594 A JP 6188594A JP 18859494 A JP18859494 A JP 18859494A JP H0853742 A JPH0853742 A JP H0853742A
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JP
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steel strip
hot
metal
dip
hot dip
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JP6188594A
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English (en)
Inventor
Kazunori Nagai
和範 永井
Seiji Sugiyama
誠司 杉山
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 連続溶融メッキ法で鋼ストリップの巾方向の
溶融メッキ金属の付着量を均一にし、美麗な外観性状を
もつ溶融メッキ鋼板を製造する。 【構成】 溶融メッキポットの溶融メッキ金属巾を通過
して上昇する鋼ストリップに付着した溶融メッキ金属に
気体を吹付けて余剰の溶融メッキ金属を払拭した後で溶
融メッキ金属が凝固するまでに電磁力を発生する移動磁
界発生装置を鋼ストリップに離隔させて架設し浴面側に
押し下げる電磁力と鋼ストリップ最エッジから鋼ストリ
ップ中央に向かう電磁力の相互作用により鋼ストリップ
の巾方向の溶融メッキ金属の付着量を均一にすることを
特徴とする連続溶融メッキ方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、鋼ストリップの連続溶
融メッキ法において溶融メッキ金属浴中を通過して上昇
する鋼ストリップに溶着した溶融メッキ金属を鋼ストリ
ップ巾方向に均一に連続溶融メッキする方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来の連続溶融メッキにおいては、メッ
キ直後の鋼ストリップ面にガスを吹付けるガスワイピン
グによって、余分に付着したメッキ金属を払拭して付着
金属を均一にすることが行われている。ところが、鋼ス
トリップ表・裏のメッキ金属の付着量を確保する際に、
鋼ストリップ表・裏に配置したガスワイピングノズルか
ら鋼ストリップに対しガスを吹付けると鋼ストリップ最
エッジ部近傍では、鋼ストリップ表・裏のガスワイピン
グノズルから吹出したワイピングガスどうしが衝突し干
渉しあい鋼ストリップ最エッジ部の付着量が増大する傾
向がある。これを防止するために例えば特開昭62−4
0350号公報には、ガスワイピングのための主ノズル
に近接して、その上方あるいは下方に鋼ストリップの巾
方向両端縁に指向して補助ノズルを設け、この補助ノズ
ルからのガス吹付けにより板巾方向の目付量を均一にす
ることが記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この補
助ノズル方式においては、補助ノズルを主ノズルの下に
設けた場合には、主ノズルにより払拭されたメタルが補
助ノズル部分に溜まり、正常なガス噴出が不可能とな
る。また、補助ノズルを主ノズルの上方位置に設けた場
合には、補助ノズルを主ノズルの下方位置に設ける場合
のような問題点はなくなるにしても、主ノズルと補助ノ
ズルの配置関係が適切でないと主ノズルからのガスと補
助ノズルからのガスどうしが干渉しあって付着量を増大
する傾向になったり、主ノズルからのガスによる溶融金
属払拭位置と補助ノズルからのガスによる溶融金属払拭
位置が異なることによる付着量の不均一が生じ鋼ストリ
ップの巾方向の目付均一効果が小さくなる。
【0004】周知のように、エッジ部メタルの付着量が
鋼ストリップセンター部の付着量に比べ多くなった状態
でコイル状に巻き取ると、コイルがつづみ状になり溶融
メッキ鋼板の板エッジ部の形状がくずれ製品にならなく
なったり、また、形状不良部をトリムしたりすると製品
歩留りが悪くなる問題が生じる。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、連続溶融メッ
キ法で鋼ストリップの巾方向の溶融メッキ金属の付着量
を均一にし、美麗な外観性状をもつ溶融メッキ鋼板を製
造することを目的に多くの実験と検討を重ねた結果発明
したものである。
【0006】ここに結果の一例を図3に示す。
【0007】巾1200mmの鋼ストリップを焼鈍した
後に所定の温度に冷却し、溶融メッキポットに浸漬さ
せ、溶融メッキポットから引き上げた後にガスワイピン
グノズルからガスを鋼ストリップに吹付けて所定の付着
量にした後にガスワイピングノズルの上に鋼ストリップ
1200mm巾の端縁部より長さ450mmの移動磁界
発生装置を鋼ストリップに平行に、また20°の離隔角
度θで配置した場合の鋼ストリップ端部に働く電磁力分
布を示す。磁界発生装置を走行する鋼ストリップ巾方向
でかつ該ストリップに等間隔(平行)で架設すると一点
鎖線で示す鋼ストリップ最エッジから鋼ストリップ中央
に向かう電磁力と点線で示すように浴面側に押し下げる
電磁力が生じる。この場合、鋼ストリップ巾中央に向か
って電磁力が急激に低下するために電磁力による鋼スト
リップ上の溶融メタルの流れが急激に変化して鋼ストリ
ップ巾方向の付着量が不均一になった。ところが、磁界
発生装置を鋼ストリップ端縁部からその巾方向中央部に
かけて漸次離隔させて架設すると実線で示すように浴面
側に押し下げる電磁力の急激な低下が避けられるため、
この浴面側に押し下げる電磁力と鋼ストリップ最エッジ
から鋼ストリップ中央に向かう電磁力の相互作用により
鋼ストリップ巾方向の付着量を均一にできることを知見
した。
【0008】本発明はこの知見に基づいて構成したもの
で、その要旨は溶融メッキポットの溶融メッキ金属中を
通過して上昇する鋼ストリップに付着した溶融メッキ金
属に気体を吹付けて余剰の溶融メッキ金属を払拭した後
で、溶融メッキ金属が凝固するまでに電磁力を発生する
移動磁界発生装置を鋼ストリップに離隔させて架設し、
浴面側に押し下げる電磁力と鋼ストリップ最エッジから
鋼ストリップ中央に向かう電磁力の相互作用により鋼ス
トリップの巾方向の溶融メッキ金属の付着量を均一にす
ることを特徴とする連続溶融メッキ方法である。
【0009】
【実施例】以下、本発明法について図面を参照しながら
詳細に説明する。
【0010】図1及び図2は本発明法の一実施例を概略
図で示したもので、図1は連続溶融メッキ装置の側視断
面図、図2は図1のA−A′線横断面図を示す。図1に
おいて1は、溶融メッキポット中の溶融メッキ金属浴
で、Zn鍋、アルミニウムなどの耐食性メッキ金属が溶
解されている。2はポットロールで溶融メッキ金属浴1
に浸漬して設けられている。3はイグジットロールで溶
融メッキ金属浴面下に配置されている。4は走行する鋼
ストリップでメッキされる材料である。すなわち、走行
する鋼ストリップ4は、ポットロール2を回転し、イグ
ジットロール3を経て溶融メッキ金属5を溶着し、上昇
するように構成されている。6は、移動磁界発生装置で
磁界発生用コイル7の複数個を鋼ストリップ4の走行方
向に並べて構成されている。また、該磁界発生装置6
は、図2で示すように鋼ストリップ4の端縁部からその
巾方向中央部にかけて広角度に漸次離隔させて架設され
ている。8はガスワイピングノズルである。ガスワイピ
ングノズル8は、移動磁界発生装置6の下方に架設され
て走行する鋼ストリップ4に付着して上昇する溶融メッ
キ金属に気体を吹付けて余剰の溶融メッキ金属を払拭す
るものである。
【0011】すなわち、本発明は溶融メッキ金属1を通
過して上昇する鋼ストリップに溶着した余剰のメッキ金
属をガスワイピングノズル8で払拭した後に移動磁界発
生装置を鋼ストリップ端縁部からその巾方向中央部にか
けて漸次離隔されるように架設しているため、電磁力が
鋼ストリップ端縁部で大きく働き該ストリップ中央部に
向かって連続的に小さくなることで電磁力の急激な低下
変化が防止され浴面側に押し下げる電磁力と鋼ストリッ
プ最エッジから鋼ストリップ中央に向かう電磁力の相互
作用で鋼ストリップ巾方向の付着量の均一化効果を奏す
ることが可能となる。
【0012】上記のような本発明法によると、巾方向の
目付量が均一な溶融メッキ製品が製造される。
【0013】次に本発明の実施例について説明する。板
厚0.8mm、板巾1200mmの鋼ストリップを15
0m/分の速度で通板し、ガスワイピングノズルで溶融
亜鉛のメッキポットから引上げられた鋼ストリップに付
着した溶融亜鉛を払拭した。この時、ガスワイピングノ
ズルの上方に装置巾450mm、装置高さ350mmの
移動磁界発生装置を鋼ストリップのエッジを挟んで鋼ス
トリップ巾方向の内側に向かって20°傾けて設置し
た。また、移動磁界発生装置は、鋼ストリップ最エッジ
部で鋼ストリップから100mm離した。その位置で磁
束密度がB=0.15wb/m2 で周波数f=1500
Hzの移動磁界を発生させた。
【0014】この時鋼ストリップセンターから50mm
ピッチの12点の付着量の平均値に対しストリップ最エ
ッジ部(50mm巾)の付着量は、わずか2g/m2
面多かったのに対し、ガスワイピングのみの場合の付着
量は、平均値に対し8g/m2 片面も付着量過多になっ
ていた。
【0015】
【発明の効果】以上述べたように、溶融メッキ鋼板の巾
方向に不均一付着量を解消するため、メッキポットから
引上げられる鋼ストリップに付着した溶融メッキ金属を
払拭するガスワイピングノズルの上に移動磁界発生装置
(電磁力発生装置)を鋼ストリップの両エッジ部分に鋼
ストリップの巾方向で内側に向かって鋼ストリップとの
距離を長くするように配置することで従来法に比べ鋼ス
トリップ巾方向の付着量のより一層の均一化を可能とし
た。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明法の一実施例を示す概略図である。
【図2】 図1のA−A′線横断面図である。
【図3】 鋼ストリップ1200mm巾の端縁部より長
さ450mmの移動磁界発生装置を鋼ストリップに平行
にまた20°の離隔角度で配置した場合の鋼ストリップ
端部に働く電磁力分布を示す図である。
【符号の説明】
1.溶融メッキ金属浴 2.ポットロール 3.イグジットロール 4.鋼ストリップ 5.溶融メッキ金属 6.移動磁界発生装置 7.磁界発生用コイル 8.ガスワイピングノズル

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶融メッキポットの溶融メッキ金属中を
    通過して上昇する鋼ストリップに付着した溶融メッキ金
    属に気体を吹付けて余剰の溶融メッキ金属を払拭した後
    で溶融メッキ金属が凝固するまでに電磁力が発生する移
    動磁界発生装置を鋼ストリップに離隔させて架設し、浴
    面側に押し下げる電磁力と鋼ストリップ最エッジから鋼
    ストリップ中央に向かう電磁力の相互作用により鋼スト
    リップの巾方向の溶融メッキ金属の付着量を均一にする
    ことを特徴とする連続溶融メッキ方法。
  2. 【請求項2】 溶融メッキポットの溶融メッキ金属中を
    通過して上昇する鋼ストリップに付着した溶融メッキ金
    属の余剰の溶融メッキ金属を払拭する気体吹きつけ装置
    の上方に、鋼ストリップの端部近傍にのみ電磁力を発生
    する移動磁界発生装置を鋼ストリップに離隔させて配置
    したことを特徴とする巾方向均一連続溶融メッキ装置。
  3. 【請求項3】 溶融メッキポットの溶融メッキ金属中を
    通過して上昇する鋼ストリップに付着した溶融メッキ金
    属の余剰の溶融メッキ金属を払拭する気体吹きつけ装置
    の上方に、鋼ストリップの端部近傍にのみ電磁力を発生
    する移動磁界発生装置を鋼ストリップに離隔させて配置
    するとともに、この離隔の程度をストリップの端部から
    中央に向って漸次大きくなるように傾斜角θをもたせた
    ことを特徴とする巾方向均一連続溶融メッキ装置。
JP6188594A 1994-08-10 1994-08-10 巾方向均一連続溶融メッキ法 Withdrawn JPH0853742A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000077272A1 (en) * 1999-06-11 2000-12-21 Abb Ab A method and a device for applying a coating onto an elongated object
KR100368727B1 (ko) * 1998-12-29 2003-03-29 주식회사 포스코 연속용융도금공정용전자기나이프
JP2007284775A (ja) * 2006-04-20 2007-11-01 Jfe Steel Kk 連続溶融金属めっきの付着量制御装置

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KR100368727B1 (ko) * 1998-12-29 2003-03-29 주식회사 포스코 연속용융도금공정용전자기나이프
WO2000077272A1 (en) * 1999-06-11 2000-12-21 Abb Ab A method and a device for applying a coating onto an elongated object
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Effective date: 20011106