JPS6052083B2 - 高純度セラミツク粉末の製造法 - Google Patents

高純度セラミツク粉末の製造法

Info

Publication number
JPS6052083B2
JPS6052083B2 JP56060627A JP6062781A JPS6052083B2 JP S6052083 B2 JPS6052083 B2 JP S6052083B2 JP 56060627 A JP56060627 A JP 56060627A JP 6062781 A JP6062781 A JP 6062781A JP S6052083 B2 JPS6052083 B2 JP S6052083B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aluminum silicate
ceramic powder
mullite
aluminum
purity ceramic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56060627A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57175724A (en
Inventor
正幸 金野
一精 早川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to JP56060627A priority Critical patent/JPS6052083B2/ja
Publication of JPS57175724A publication Critical patent/JPS57175724A/ja
Publication of JPS6052083B2 publication Critical patent/JPS6052083B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、微細なケイ酸アルミニウム等の高純度セラ
ミック粉末の製造法に関するものである。
高純度で微細なセラミック粉末は窯業用に広く用いられ
ており、例えば、高純度で微細なケイ酸アルミニウムを
焼成した3Ae。q−2SiO2なる組成式て示される
ムライト粉末は優れた耐熱性を有するため、耐熱材料と
してのムライト焼結体の原料として極めて重要なもので
ある。 従来このケイ酸アルミニウム等の微細な粉末を
得る方法としては、例えばムライトの粗粒粉末を粉砕分
級する方法が一般的であるがこの方法では、得られる微
細粉末の粒度は例えば1μ程度と限界があり、また粉砕
時に不純物が混入し易いため、高純度の微細粉末を得る
ことはできなかつた。
そこで高純度のセラミック粉末を得るのに直接化学的
に合成する方法が用いられ、具体的にはケイ酸アルミニ
ウム及びムライト粉末を合成する方法として、アルミナ
ゾルとシリカゾルを混合し、ゲル化して加熱する方法及
び硫酸アルミニウム、ケイ酸ソーダと硫酸ソーダを混合
し加熱する方法等が用いられている。
しかしながら、前者では微細な粉末が得られず、又後者
では生成物にNaが入り易いため高純度の粉末が得られ
ない欠点があつた。 本発明の高純度セラミック粉末の
製造法は、従来のこれらの欠点を改善するためになされ
たものであり、微細な高純度セラミック粉末を得る方法
であつて、一般式Ae(OR)Oで示されるアルコキシ
ド又はアルミニウム塩と一般式SinOn−1(OR)
、、、O〔n≧1、R:アルキル基〕で示されるアルコ
キシドを好ましくは生成するケイ酸アルミニウムがムラ
イト組成になるよう予じめ調整して、非水溶媒に溶解し
、水又は水を含む酸を加えてpHを5以下にした後、さ
らにアンモニア水を加えてPHを8以上に調整すること
により得られた加水分解生成物を加熱することによつて
微細なケイ酸アルミニウムを生成する高純度セラミック
粉末の製造法である。
即ち本発明はアルコキシドを含む原料を非水溶媒に溶解
しその溶液に水又は水を含む酸を加えて一旦酸性とした
後アンモニア水を加えてアルカリ性に調整することによ
つて得られた加水分解生成物の加熱により微細なケイ酸
アルミニウムを得る方法である。
なお本発明に於けるケイ酸アルミニウムとはアルミナと
シリカの化合物又は微細なアルミナとシリカから成る集
合体という。
本発明の構成を更に詳しく説明すればSiO2源として
一般式SinOn−1(0R)2n+2(n≧1,R:
アルキル基)の形で示されるアルコキシド例えばエチル
シリケート、イソプロピルシリケート等とAe(0R)
3源として一般式Ae(0R)3(R:アルキル基)の
形で示されるアルコキシド例えばアルミニウムメトキシ
ド、アルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポ
キシド又はアルミニウム塩例えば硝酸アルミニウム、硫
酸アルミニウム、塩化アルミニウム、アンモニウムミヨ
ウバンとを所定の割合好ましくは生成するケイ酸アルミ
ニウムがムライト組成(3Ae203・2Si02)に
なるよう、予じめ調整して調合し非水溶媒に溶解する。
この場合好ましい原料としてSiO2源として、エチル
シリケート、イソプロピルシリケート、Ae2O3源と
してアルミニウムイソプロポキシド、硝酸アルミニウム
等がよい。又非水溶媒としては原料に対し溶解性のある
有機溶媒例えばメタノール、エタノール、プロピルアル
コール、その他のアルコール、アセトン、エーテル等を
用用いることができるが、好ましくは原料と同じアルキ
ル基を有するエタノール、プロピルアルコール等を用い
るとよい。そして原料の非水溶媒への溶解を完全に行う
ため原料と非水溶媒の混合液を攪拌しながら還流冷却器
をつけて溶媒の沸点付近の温度で完全に溶解する。
次に水又は水を含む酸を加えてPH5以下好ましくは2
以下に調整する。このPH調整はAe2O3源として硝
酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム
等を使用するときは単に水を加えるのみで良い場合もあ
るが一般的には、塩酸、弗酸、硝酸、硫酸等の無機酸や
、酢酸等の有機酸の水溶液を加える。特に好ましいのは
、塩酸、硫酸、硝酸等がよい。このように溶液のPHを
5以下にした後、次にアンモニア水を徐々に添加し溶液
のPHを8以上、好ましくは10以上にする。PHを5
以下にすることにより溶液が安定化し、次いでアンモニ
ア添加によるケイ化に於て所望比の均一なゲルが得られ
る。このPH調整により加水分解とゲル化が生じて、ケ
イ酸アルミニウムが生成する。この場合温度が高い方が
反応性がいので30〜80℃程度に加熱した方がよい。
この生成したゲル状のケイ酸アルミニウムを水又はアル
コールで洗浄し乾燥すると、微細な粉末lが得られる。
この乾燥粉末は、一般的に20〜40%程度の水分を含
んでいるので好ましくは600℃程度の温度に加熱して
無水のケイ酸アルミニウム粉末を得る。なお原料混合時
に生成するケイ酸アルミニウムがムライト組成になるよ
うに予じめ調整.してあれば、加水分解によつて生成す
るゲル状のケイ酸アルミニウムはほぼムライト組成にな
つているものであり、これを900℃〜1500℃、好
ましくは1000℃〜1300℃で焼成すると極めて微
細なムライト粉末が生成する。なお生成したムライト粉
末は、通常10〜100rr1/gの比表面積を有し焼
成温度が高い程又焼成時間が長い程粉末の粒度は粗くな
る。
本発明により得られるケイ酸アルミニウム及びムライト
粉末は通常99.8%以上の純度を有しているが出発原
料あらかじめ精製することにより純度99.95%の粉
末を容易に得ることができる。
なお本発明の製造法において、所望比のAl2O3とS
iO2から成るケイ酸アルミニウムあるいはムライト等
から成る高純度セラミック粉末を安定して得るには、溶
液のPH調整が最も重要であり溶液のPHを水又は水を
含む酸を加えることにより5以下にした後アンモニア水
の添加によりPHを8以上に調整することが最も大切で
ある。これは溶液のPHがこの範囲をはずれて5以上あ
るいは8以下になれば原料の選択的な加水分解が生じ均
一な所望比のケイ酸アルミニウムが得られないからであ
る。又ムライト組成のケイ酸アルミニウムの焼成温度を
900℃〜1500℃に現定した理由は、900℃以下
ではムライトが生成せず又1500℃以上では、ムライ
トの粒成長速度がきくなるため、微細なムライト粉末が
得られないからである。次に本発明の実施例について述
べる。実施例1 第1表に示すシリカ源としてのアルコキシドとアルミナ
源としてのアルコキシド又はアルミニウム塩とを第1表
に示す酸化物換算比になるよう調合し、非水溶媒として
エタノール中で攪拌しながら80℃8時間加熱して完全
に溶解した。
次に得られた溶液に第1表に示す各種酸を添加してPH
を第1表に記載する値に調整し80゜Cで3時間攪拌し
た。その後室温に冷却して28%のアンモニア水を添加
しPHを第1表に示す値に調整して80℃1時間攪拌保
持した。
アンモニア添加直後に加水分解にともなうゲル化が始ま
り、ほぼ5紛程度でゲル化が終了した。
生じた、ゲル状のケイ酸アルミニウムをエタノールで充
分洗浄した後60℃で乾燥し600℃に加熱して粉末状
のケイ酸アルミニウムを得た。得られたケイ酸アルミニ
ウムの純度は、すべて99.8%以上であつた。又得ら
れたケイ酸アルミニウムについて、比表面積Ae2O3
/SlO2比の測定を行つた。ムライト(3Ae203
・2Si02)組成は第1表、中Ae2O3:SlO2
=60.0:40.0(モル比)で示される。なお比較
のために本発明数値限定範囲外のPHで処理したものを
参考例として記載した。
第1表にみられるように本発明の方法は、高い比表面積
で、ほぼ調合組成に等しいケイ酸アルミニウム粉末が得
られたのに対し、参考例では調合組成とはかなりずれた
、又比表面積の小さいケイ酸アルミニウムしか得られな
かつた。
実施例2 実施例1のNO.2の試料を空気中で1200℃1時間
焼成した。
得られた焼成物はX線回折の結果全体がムライトであり
、比表面積は30rr1/gであつた。また比較のため
に、参考例1を12000C1時間焼成した場合、ムラ
イトの他にアルミナが多量生成した。以上のべたとおり
、本発明の高純度セラミック粉末の製造法はアルコキシ
ドを含む原料を非水溶媒に溶解し、その溶液に水又は水
を含む酸を加えて一旦PH5以下の酸性とした後アンモ
ニア水を加えてPH8以上のアルカリ性とすることによ
り、得られた加水分解生成物を加熱することによつてケ
イ酸アルミニウムより成る高純度セラミック粉末を製造
する方法であり、この製造方法により微細で高純度な粉
末が得られるのであつて各種窯業用に広く用いることの
できるケイ酸アルミニウムを安定して得ることができ、
産業上極めて有用な方法である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式Al(OR)_3のアルコキシド又はアルミ
    ニウム塩と一般式Si_nO_n_−_1(OR)_2
    _n_+_2(n≧1、R:アルキル基)のアルコキシ
    ドとを非水溶媒に溶解し、水又は水を含む酸を加えてp
    Hを5以下にした後、さらにアンモニア水を加えpHを
    8以上に調整することにより得られた加水分解生成物を
    加熱することによつて微細なケイ酸アルミニウムを生成
    することを特徴とする高純度セラミック粉末の製造法。 2 ケイ酸アルミニウムが予め調整されたムライト組成
    になつている特許請求の範囲第1項記載の高純度セラミ
    ック粉末の製造法。3 加熱を900℃〜1500℃で
    行うことによりムライト結晶を晶出させる特特許請求の
    範囲第1又は第2項記載の高純度セラミック粉末の製造
    法。
JP56060627A 1981-04-23 1981-04-23 高純度セラミツク粉末の製造法 Expired JPS6052083B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56060627A JPS6052083B2 (ja) 1981-04-23 1981-04-23 高純度セラミツク粉末の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56060627A JPS6052083B2 (ja) 1981-04-23 1981-04-23 高純度セラミツク粉末の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57175724A JPS57175724A (en) 1982-10-28
JPS6052083B2 true JPS6052083B2 (ja) 1985-11-18

Family

ID=13147721

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56060627A Expired JPS6052083B2 (ja) 1981-04-23 1981-04-23 高純度セラミツク粉末の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6052083B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63114064U (ja) * 1987-01-19 1988-07-22
JPS63115237U (ja) * 1987-01-22 1988-07-25

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4418025A (en) * 1982-05-25 1983-11-29 General Electric Company Process for producing optically translucent mullite ceramic
US4418024A (en) * 1982-05-25 1983-11-29 General Electric Company Process for producing optically translucent ceramic
JPH0666532B2 (ja) * 1984-04-09 1994-08-24 富士通株式会社 ガラス―セラミックス複合基板の製造方法
JPH0653605B2 (ja) * 1985-05-30 1994-07-20 工業技術院長 高温強度が優れたアルミナ・シリカ系セラミックス焼結体の製造方法
JPH0611667B2 (ja) * 1985-05-30 1994-02-16 工業技術院長 高温強度が優れたアルミナ・シリカ系セラミックス焼結体の製造方法
JPS61286264A (ja) * 1985-06-11 1986-12-16 株式会社ニッカト− 加熱炉用管状部材及びその製造方法
JPS6252169A (ja) * 1985-08-27 1987-03-06 東ソー株式会社 ムライト系焼結体の製造方法
JPH0615421B2 (ja) * 1985-09-04 1994-03-02 株式会社ノリタケカンパニ−リミテド ムライト焼結体の製造方法
JPS62108765A (ja) * 1985-11-08 1987-05-20 株式会社神戸製鋼所 強靭セラミツク材料の製造方法
JPS6389455A (ja) * 1986-10-01 1988-04-20 東レ株式会社 ムライト焼結体
JPS63159254A (ja) * 1986-12-23 1988-07-02 株式会社ニッカト− ムライト質電気絶縁材料の製造法
JP2710311B2 (ja) * 1987-04-23 1998-02-10 工業技術院長 セラミツク絶縁材料
IT1275412B (it) * 1995-06-01 1997-08-05 Enichem Spa Procedimento per la preparazione di ossidi misti silice-allumina porosi in forma sferica
JP5213111B2 (ja) * 2008-05-20 2013-06-19 独立行政法人産業技術総合研究所 水分子を規則的に配列させるアルミニウムケイ酸塩及びその合成方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63114064U (ja) * 1987-01-19 1988-07-22
JPS63115237U (ja) * 1987-01-22 1988-07-25

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57175724A (en) 1982-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6052083B2 (ja) 高純度セラミツク粉末の製造法
US4367292A (en) Method for manufacture of powder composition for cordierite
JPS5973431A (ja) スピネル微粉末の製造法
JPS62167209A (ja) α−サイアロン質粉末及びその製造法
JP2839725B2 (ja) 高純度結晶質シリカの製造方法
EP0502259B1 (en) Preparation of pollucite ceramics
JPH0611667B2 (ja) 高温強度が優れたアルミナ・シリカ系セラミックス焼結体の製造方法
US4774068A (en) Method for production of mullite of high purity
Bernier et al. Synthesis and sintering comparison of cordierite powders
JPS6357383B2 (ja)
JPH0339967B2 (ja)
JP3265344B2 (ja) ジルコン粉末の合成法
JPS62209039A (ja) 塩基性酢酸イツトリウム水溶液及びその製造方法
JPS58199717A (ja) ゲルマン酸塩の製造方法
US6039929A (en) Synthesis of monoclinic celsian
JPH0421605B2 (ja)
JPS60260410A (ja) βサイアロン粉末の製造方法
JPS62283811A (ja) 菫青石前駆物質の製造
JPH0474715A (ja) 複合酸化物粉末の製造方法
JPH0193404A (ja) ガーネット構造を持つ化合物の原料粉末の製造方法
JPS60145902A (ja) サイアロン質粉末の製造法
JPS58104010A (ja) 炭化珪素粉末の製造法
JPH09315816A (ja) 酸化イットリウム微粉末の製造方法
JPS5844607B2 (ja) コ−デイエライト組成粉末の製造法
JPS5846446B2 (ja) フオルステライトクリンカ−の製造方法