JPS6046976A - セラミツクスの接着方法 - Google Patents
セラミツクスの接着方法Info
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- JPS6046976A JPS6046976A JP15228283A JP15228283A JPS6046976A JP S6046976 A JPS6046976 A JP S6046976A JP 15228283 A JP15228283 A JP 15228283A JP 15228283 A JP15228283 A JP 15228283A JP S6046976 A JPS6046976 A JP S6046976A
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- acid
- ceramic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
一般に、セラミックスは、耐熱性、耐磨耗性、絶縁性等
に優れる反面脆く衝隼に弱いため、構造材料として用い
られるときには、金属との接合体にし゛Ｃ使川用扛るこ
とが多く、この場合には金属とセラミックスを接合する
前に、先ずセラミックス表面をメタライズする必要があ
る。また、セラミックス全導電材料として月いる場合に
は、セラミックス表面にメタライズを行って使用され′
〔いる。セラミックスのメタライズ方法とし′Ｃは、テ
レフンケン法、活性金属法、水素化合物法、酸化物ソル
ダー法、炭酸銀法等が知ら扛ているが、こ粁らの方法の
いず２″Ｌヲ採用した場合にもセラミックス上に強固な
金属膜を形成させることは困難である。
に優れる反面脆く衝隼に弱いため、構造材料として用い
られるときには、金属との接合体にし゛Ｃ使川用扛るこ
とが多く、この場合には金属とセラミックスを接合する
前に、先ずセラミックス表面をメタライズする必要があ
る。また、セラミックス全導電材料として月いる場合に
は、セラミックス表面にメタライズを行って使用され′
〔いる。セラミックスのメタライズ方法とし′Ｃは、テ
レフンケン法、活性金属法、水素化合物法、酸化物ソル
ダー法、炭酸銀法等が知ら扛ているが、こ粁らの方法の
いず２″Ｌヲ採用した場合にもセラミックス上に強固な
金属膜を形成させることは困難である。
またセラミックスのうち炭化珪素、窒化珪素、サイアロ
ン等の非酸化物系セラミックスは、特に高温における強
度、耐熱衝撃性、耐薬品性等に優ｎる所から、金属酸化
物系セラミックス材料とは異なった新しい高温ｌｌ１Ｍ
熱材料とし′Ｃ１近年脚光をあび、その応用分野の開発
が種４進めらｔ′Ｃいる。
ン等の非酸化物系セラミックスは、特に高温における強
度、耐熱衝撃性、耐薬品性等に優ｎる所から、金属酸化
物系セラミックス材料とは異なった新しい高温ｌｌ１Ｍ
熱材料とし′Ｃ１近年脚光をあび、その応用分野の開発
が種４進めらｔ′Ｃいる。
例えばこ扛等材料は、高温機器、高精密機械部品、熱交
換器等に、また瞬間的に高温になる磁器部品や特殊な高
温絶縁体等とし′Ｃの用途にその利用の開発が検討さｎ
つつある。これ等非酸化物系セラミックスを利用し、そ
の特性を充分に発揮させるためには、各種機器類やその
部品等の製造過程でこれ等非酸化物系セフミックスをこ
ｎ等相互間または他の材料と接着させる必要があり、特
に種々の形状に成形さｎた非酸化物系セラミックスの接
着技術の開発が不可欠となる。しかしながら非酸化物系
セラミックスは、一般に溶融物の親和性所謂濡ｎ性が他
め′〔悪＜、シかもアルミナ、マグネシア等の故化物系
セラミックス材料とは異なって共イｊ結合性が強く、ま
た他の化合物との反応性も非水に低く、加え゛Ｃ熱膨張
係数もアルミナの半分以下でるシ、それ故その接着は極
めて困難となシ、接着強度の乏しい七うミックス積層体
が得られるに過ぎない。
換器等に、また瞬間的に高温になる磁器部品や特殊な高
温絶縁体等とし′Ｃの用途にその利用の開発が検討さｎ
つつある。これ等非酸化物系セラミックスを利用し、そ
の特性を充分に発揮させるためには、各種機器類やその
部品等の製造過程でこれ等非酸化物系セフミックスをこ
ｎ等相互間または他の材料と接着させる必要があり、特
に種々の形状に成形さｎた非酸化物系セラミックスの接
着技術の開発が不可欠となる。しかしながら非酸化物系
セラミックスは、一般に溶融物の親和性所謂濡ｎ性が他
め′〔悪＜、シかもアルミナ、マグネシア等の故化物系
セラミックス材料とは異なって共イｊ結合性が強く、ま
た他の化合物との反応性も非水に低く、加え゛Ｃ熱膨張
係数もアルミナの半分以下でるシ、それ故その接着は極
めて困難となシ、接着強度の乏しい七うミックス積層体
が得られるに過ぎない。
本発明者らは斯かる現状に鑑み、セラミックス上に強固
な金属１摸ヲ形成させること及びセラミックス同士を強
固に接着させること全目的とし′〔種々の研究を重ねた
結果、ついに本発明を完成するに至った。
な金属１摸ヲ形成させること及びセラミックス同士を強
固に接着させること全目的とし′〔種々の研究を重ねた
結果、ついに本発明を完成するに至った。
即ち本発明は、弗化水素、王水、硝酸、燐酸、４ｔｆ＝
ｎ＋２及び）μオロスルホン酸からなる群から辿ばｎ
た少くとも１種の酸を月」いてセラミックスの表曲を酸
処理し、次いで該セラミックスと金鵬又はセラミックス
とを接着させること全特徴とするセラミックスの接着方
法に係る。
ｎ＋２及び）μオロスルホン酸からなる群から辿ばｎ
た少くとも１種の酸を月」いてセラミックスの表曲を酸
処理し、次いで該セラミックスと金鵬又はセラミックス
とを接着させること全特徴とするセラミックスの接着方
法に係る。
本発明で用いら几るセラミックスとしては、非酸化物系
セラミックス及び酸化物系セラミックスである眠り従来
公知のものを広く使用できる。非酸化物系セラミックス
としてｒよ例えば炭化ケイ素、堅化ケイ素、炭化チタン
、サイアロン等を挙げることができる。また酸化物系セ
ラミックスとしＣは例えはアルミナ、ジルコニア、マグ
ネシア、ムライト、コーヂライト等を挙げることができ
る。
セラミックス及び酸化物系セラミックスである眠り従来
公知のものを広く使用できる。非酸化物系セラミックス
としてｒよ例えば炭化ケイ素、堅化ケイ素、炭化チタン
、サイアロン等を挙げることができる。また酸化物系セ
ラミックスとしＣは例えはアルミナ、ジルコニア、マグ
ネシア、ムライト、コーヂライト等を挙げることができ
る。
本発明で用いらｎるセフミックスの形状とし′〔ハ特に
限定されず使用目的により適１選択し′Ｃ用いることが
できるが、例えは板状、角状、筒状等が挙げらｎる。ま
た上記セラミックスの密度としては符に制限がなく広い
範囲内から適宜選択すｎばよいが、本発明の所期の効果
をよシ一層発揮させるためには相対密度が９０％以上で
あるセラミックスを使用するのが好適である。また上記
セラミックスの純度としても特に制限がなく広い範囲内
から適宜選択すれはよいが、本発明の所期の効果をよシ
一層発揮させるためには純度が９５チ以上であるセラミ
ックスを使用するのが望ましい。
限定されず使用目的により適１選択し′Ｃ用いることが
できるが、例えは板状、角状、筒状等が挙げらｎる。ま
た上記セラミックスの密度としては符に制限がなく広い
範囲内から適宜選択すｎばよいが、本発明の所期の効果
をよシ一層発揮させるためには相対密度が９０％以上で
あるセラミックスを使用するのが好適である。また上記
セラミックスの純度としても特に制限がなく広い範囲内
から適宜選択すれはよいが、本発明の所期の効果をよシ
一層発揮させるためには純度が９５チ以上であるセラミ
ックスを使用するのが望ましい。
本発明においてはまず上記セラミックスの表面全酸処理
する。使用される酸は弗化水素、王水、硝酸、５Ａ酸、
硫酸及び）ｐオロスｐホン酸からなる群から選ばれた少
くとも１種である。弗化水素は、濃弗化水素液を水で２
〜６倍に希釈した弗化水素酸として使用するのがよい。
する。使用される酸は弗化水素、王水、硝酸、５Ａ酸、
硫酸及び）ｐオロスｐホン酸からなる群から選ばれた少
くとも１種である。弗化水素は、濃弗化水素液を水で２
〜６倍に希釈した弗化水素酸として使用するのがよい。
王水は、濃硝酸と保塩酸とをｌ：３の割合で混合したも
のであるが、こｎｔ−水で希釈することなくそのまま使
用するのがよい。硝酸Ｌ１濃硝酸全そのまま使用しＣも
よく、又は濃硝酸を水で４倍程度にまで希釈した希硝酸
として使用し°Ｃもよい。燐酸は、沸騰燐酸として使用
するのが好適である。硫酸は、濃硫酸をそのまま使用し
てもよく、又は濃硫酸を水で４倍程度にまで希釈した希
硫酸として使用し′〔もよい。またフルオロスルホン酸
は、そのまま使用するのがよい。さらに、上記各棟酸の
混合物、例えば濃硝酸と濃硫酸との混合酸、望ましくは
５０％−５０％の等量混合酸を使用してもよい。
のであるが、こｎｔ−水で希釈することなくそのまま使
用するのがよい。硝酸Ｌ１濃硝酸全そのまま使用しＣも
よく、又は濃硝酸を水で４倍程度にまで希釈した希硝酸
として使用し°Ｃもよい。燐酸は、沸騰燐酸として使用
するのが好適である。硫酸は、濃硫酸をそのまま使用し
てもよく、又は濃硫酸を水で４倍程度にまで希釈した希
硫酸として使用し′〔もよい。またフルオロスルホン酸
は、そのまま使用するのがよい。さらに、上記各棟酸の
混合物、例えば濃硝酸と濃硫酸との混合酸、望ましくは
５０％−５０％の等量混合酸を使用してもよい。
上記酸を用いてセラミックスの表面を酸処理するに際し
ては、セフミックスの表面に酸を塗付しこｎを加熱し゛
〔もよいし、又はセラミックスを酸中に長時間浸漬し゛
〔もよい。セラミックス表面に酸を塗付するに当つ”〔
は従来公知の方法を広く利用でき、例えばハケ塗装、ス
プレー塗装等を挙けることができる。加熱温度とし°〔
は特に制限はないが、通常５０〜８０°Ｃが過当である
。またセラミックスを酸中に浸漬するに当っては、処理
すべきセラミックスの体積の３〜５倍量程度の酸を使用
するのがよい。浸漬時間は処理すべきセラミツクスの種
類により異なり一概には言えないが、酸化物系セラミッ
クスの場合には２〜ｌＯ時間程度浸漬するのが好ましく
、また非酸化物系セラミックスの場合には５〜２０時間
程度浸漬するのが好ましい。
ては、セフミックスの表面に酸を塗付しこｎを加熱し゛
〔もよいし、又はセラミックスを酸中に長時間浸漬し゛
〔もよい。セラミックス表面に酸を塗付するに当つ”〔
は従来公知の方法を広く利用でき、例えばハケ塗装、ス
プレー塗装等を挙けることができる。加熱温度とし°〔
は特に制限はないが、通常５０〜８０°Ｃが過当である
。またセラミックスを酸中に浸漬するに当っては、処理
すべきセラミックスの体積の３〜５倍量程度の酸を使用
するのがよい。浸漬時間は処理すべきセラミツクスの種
類により異なり一概には言えないが、酸化物系セラミッ
クスの場合には２〜ｌＯ時間程度浸漬するのが好ましく
、また非酸化物系セラミックスの場合には５〜２０時間
程度浸漬するのが好ましい。
本発明では次に上記酸処理さｎたセラミックスと金属又
はセラミックスとを接着させる。セラミックスと金１＾
との接着には、セラミックス上に金属膜を形成させる従
来公知の方法を広く通用でき、例えばテレフンケン法、
活性金属法、水素化合物法、酸化物ソルダー法、炭＃！
鏝法等が挙げられる。
はセラミックスとを接着させる。セラミックスと金１＾
との接着には、セラミックス上に金属膜を形成させる従
来公知の方法を広く通用でき、例えばテレフンケン法、
活性金属法、水素化合物法、酸化物ソルダー法、炭＃！
鏝法等が挙げられる。
炭酸銀法ケ例にとシ、よシ具体的に説明する。炭酸銀法
は炭Ｉ！ｌ１２銀が高温で分解して金ｒｉ４鈑になるこ
とを利用する方法であｐｌ例えば９００〜９４０℃に加
熱したセラミックス板上に直接炭！！１１２銀全散布し
゛〔銀膜を形成させればよい。用いられる金属とし“〔
は例えば銅、銀、鉄、ニッケル等この分野で慣用され°
Ｃいる金属を広く使用できる。
は炭Ｉ！ｌ１２銀が高温で分解して金ｒｉ４鈑になるこ
とを利用する方法であｐｌ例えば９００〜９４０℃に加
熱したセラミックス板上に直接炭！！１１２銀全散布し
゛〔銀膜を形成させればよい。用いられる金属とし“〔
は例えば銅、銀、鉄、ニッケル等この分野で慣用され°
Ｃいる金属を広く使用できる。
本発明におい′Ｃセラミックスとセラミックスとの接鳥
には、従来公知の接着剤を用いる方法を広く適用でき、
例えは硫化銅法吟ｅ［げることかできる。酸処理全施さ
ｎたセラミックスに接潰さｎるべきセラミックスとし゛
〔ハ、上述のセラミックスをいすｔも使用できる。斯か
るセラミックスは表面が酸処理され゛〔いＣも酸処理さ
れてぃなく −Ｃもよい。
には、従来公知の接着剤を用いる方法を広く適用でき、
例えは硫化銅法吟ｅ［げることかできる。酸処理全施さ
ｎたセラミックスに接潰さｎるべきセラミックスとし゛
〔ハ、上述のセラミックスをいすｔも使用できる。斯か
るセラミックスは表面が酸処理され゛〔いＣも酸処理さ
れてぃなく −Ｃもよい。
本発明ではセラミックスと金属又はセラミックスとｆｔ
接着させるに先立ち、上記酸処理さ扛たセラミックスの
表面部分をさらに表面処理しＣおい′Ｃもよく、斯かる
表面処理によシ本発明の所期の効果をより−１−発揮し
得る。該表面処理の手段としては研削、研摩及び再加熱
のいずｎでもよく、又はこｎらを任意に組み合わせたも
のであっ′Ｃもよい。研削及び研摩処理には従来公知の
方法を広く適用できる。また再加熱処理する際の温度と
し°Ｃは、通常６００〜ｔ ２００’Ｏａ＆、好ましく
は８００〜１０００°Ｃとするのが過当である。
接着させるに先立ち、上記酸処理さ扛たセラミックスの
表面部分をさらに表面処理しＣおい′Ｃもよく、斯かる
表面処理によシ本発明の所期の効果をより−１−発揮し
得る。該表面処理の手段としては研削、研摩及び再加熱
のいずｎでもよく、又はこｎらを任意に組み合わせたも
のであっ′Ｃもよい。研削及び研摩処理には従来公知の
方法を広く適用できる。また再加熱処理する際の温度と
し°Ｃは、通常６００〜ｔ ２００’Ｏａ＆、好ましく
は８００〜１０００°Ｃとするのが過当である。
本発明の方法によｎば、セラミックス上に強固な金属膜
を形成させることができ、またセラミックス同士を強固
に接着させることができる。
を形成させることができ、またセラミックス同士を強固
に接着させることができる。
以下に実施例ｆ：渇げ°Ｃ本発明をより一層明らかにす
る。
る。
実施例１
酸化物系セラミックスとし°Ｃアルミナ板（純度９９．
５％、相対密度９８％）を使用する。４７％弗化水素を
水で２倍に希釈した弗化水素中に、アルミナ板を５時曲
浸漬し、このアルミナ板上にＣｕ２８：５ｉ０２（９：
ｌ ）Ｏ接着剤を塗布し、同シく弗化水素酸で処理し
たアルミナ板を重ね合わせて、１０００°０１２０分曲
大気中処理し゛Ｃセラミックヌ積層体を得る。該積層体
の接着強度をめたところ２０００ Ｋｇ／ｃｍ２ テあ
ツタ。
５％、相対密度９８％）を使用する。４７％弗化水素を
水で２倍に希釈した弗化水素中に、アルミナ板を５時曲
浸漬し、このアルミナ板上にＣｕ２８：５ｉ０２（９：
ｌ ）Ｏ接着剤を塗布し、同シく弗化水素酸で処理し
たアルミナ板を重ね合わせて、１０００°０１２０分曲
大気中処理し゛Ｃセラミックヌ積層体を得る。該積層体
の接着強度をめたところ２０００ Ｋｇ／ｃｍ２ テあ
ツタ。
上記弗化水素酸中にアルミナ板を浸漬しない以外は上記
と同様にしてセラミックス積層体を得る。
と同様にしてセラミックス積層体を得る。
該積層体の接港強度をめたところ１３００Ｋｇ／Ｃｍ２
であった。
であった。
上記弗化水素酸中にアルミナ板を浸漬し、次いでアルミ
ナ板を２枚重ね合わせるに先立つ′〔アルミナ板の重ね
合わせ面を研にし、以下上記と゛同様にホットプレスし
′〔セラミック積層体を得る。該積層体の接着強度をめ
たところ１６００ ［ｇ／Ｃｍ２であった。
ナ板を２枚重ね合わせるに先立つ′〔アルミナ板の重ね
合わせ面を研にし、以下上記と゛同様にホットプレスし
′〔セラミック積層体を得る。該積層体の接着強度をめ
たところ１６００ ［ｇ／Ｃｍ２であった。
実施例２
非酸化物系セラミックスとし”Ｃ窒化ケイ素板（純１ｆ
９９．５９６、相対密度９８％）を使用する。１００％
硫酸中に窒化ケイ素板を８時間浸漬し、この窒化ケイ素
板上に弗化カルシウム：カリオン（Ｍｌ）の接着剤を塗
布し、同じく硫酸で処理した窒化ケイ素板を重ね合わせ
Ｃ１１４５０°Ｃｌ２Ｏ分間処理し゛Ｃセラミックス槓
Ｊｖ体を得る。該積層体の接着強度をめたところｇ、７
Ｋｇ／ｃｍ２ であった。
９９．５９６、相対密度９８％）を使用する。１００％
硫酸中に窒化ケイ素板を８時間浸漬し、この窒化ケイ素
板上に弗化カルシウム：カリオン（Ｍｌ）の接着剤を塗
布し、同じく硫酸で処理した窒化ケイ素板を重ね合わせ
Ｃ１１４５０°Ｃｌ２Ｏ分間処理し゛Ｃセラミックス槓
Ｊｖ体を得る。該積層体の接着強度をめたところｇ、７
Ｋｇ／ｃｍ２ であった。
上記硫酸中に窒化ケイ素板を浸漬しない以外は上記と同
様にしてセラミックス積層体を得る。該積層体の接着強
度をめたところ２．９ Ｋｇ／ｃｍ２であった。
様にしてセラミックス積層体を得る。該積層体の接着強
度をめたところ２．９ Ｋｇ／ｃｍ２であった。
実施例３
酸化物系セラミックスとし′ＣＣアルミナ板純度９９．
５％、相対密Ｊ＋ｃ ９ ｓ％）を使用し、また非酸化
物系セラミックスとして窒化ケイ素板（純度９９．５％
、相対密度９８％）を使用する。王水中にアルミナ板及
び菫化ケイ素板を５時ｌｉｄ］浸漬し、次いでこのアル
ミナ板と窒化ケイ素板とを重ね合わせ、弗化力ｐシウム
：カリオン（ｔ：Ｈの接着剤を用いて１４５０°Ｃで２
０分間処理してセラミックス４＋￥層体を得る。該積層
体の接着強ｊｌ求めたところ３．４ Ｌｇ／ｃ＋ｎ２で
あった。
５％、相対密Ｊ＋ｃ ９ ｓ％）を使用し、また非酸化
物系セラミックスとして窒化ケイ素板（純度９９．５％
、相対密度９８％）を使用する。王水中にアルミナ板及
び菫化ケイ素板を５時ｌｉｄ］浸漬し、次いでこのアル
ミナ板と窒化ケイ素板とを重ね合わせ、弗化力ｐシウム
：カリオン（ｔ：Ｈの接着剤を用いて１４５０°Ｃで２
０分間処理してセラミックス４＋￥層体を得る。該積層
体の接着強ｊｌ求めたところ３．４ Ｌｇ／ｃ＋ｎ２で
あった。
王水中にアルミナ板及び窒化ケイ素板ｋ ｉｆ ｌｊＪ
しない以外は上記と同様にＬ′Ｃセラミックス積層体を
得る。該積層体の接着強度をめたところ３．０’ｇ／ｃ
ｔｎｚであった。
しない以外は上記と同様にＬ′Ｃセラミックス積層体を
得る。該積層体の接着強度をめたところ３．０’ｇ／ｃ
ｔｎｚであった。
実施例４
酸化物系セラミックスとＬ′Ｃアルミナ板（純度９９．
５％、相対密度９８［有］）ゲ使用する。蹄騰燐ｍ 中
Ｋ ７ ／ｌ／ミナ＆ｅｔｏ分聞浸前し、次いでこのア
ルミナ板を９２０°Ｃに加熱し、その表面に炭酸銀を散
布し゛〔銀−アルミナ複合材料を得る。該複合材料の接
着強度をめたところ５０５ Ｋｇ／Ｃｍ２で、あった。
５％、相対密度９８［有］）ゲ使用する。蹄騰燐ｍ 中
Ｋ ７ ／ｌ／ミナ＆ｅｔｏ分聞浸前し、次いでこのア
ルミナ板を９２０°Ｃに加熱し、その表面に炭酸銀を散
布し゛〔銀−アルミナ複合材料を得る。該複合材料の接
着強度をめたところ５０５ Ｋｇ／Ｃｍ２で、あった。
上記洲騰燐酸中にアルミナ板ケ浸漬しない以外は上記と
同様にしＣ＆−アルミナ複合材料を得る。
同様にしＣ＆−アルミナ複合材料を得る。
該複合材料の接着強度をめたところ４１０ Ｌｇ／ＣＩ
ＵＺであった。
ＵＺであった。
実施例５
酸化物糸セラミックスとしＣアルミナ板（純度９９．５
％、相対密度９８％）（以下「セラミックスＡ」という
）を使用する。非酸化物系セラミックス粉末として呈化
ケイ素（以下「セラミックスＢ」という）を使用する。
％、相対密度９８％）（以下「セラミックスＡ」という
）を使用する。非酸化物系セラミックス粉末として呈化
ケイ素（以下「セラミックスＢ」という）を使用する。
また酸化物系セラミックスと非酸化物系セラミックスと
の混合物からなる七フミックス粉末とし゛ＣＣアルミナ
板化ケイ素（以下「セラミックスＣ」という）を使用す
る。
の混合物からなる七フミックス粉末とし゛ＣＣアルミナ
板化ケイ素（以下「セラミックスＣ」という）を使用す
る。
／ Ｃｍ ２０条件下で３０分間ホットプレスする。ホ
ットプレスにょｐ得られる積層体を４７％弗化水素を水
で２倍ｒ（希釈した弗化水素酸中に５時間浸ｌｅｔ し
た後、該積層体を９００’Ｃに加ｐｓシ、次いで該積層
体のセラミックスＡ）〜上に炭酸銀を散布し、５分間そ
の温腿下に放置し′Ｃおくことにょシ、銀−セラミック
ス複合材料を得る。該複合材料の接着強度をめたところ
５５０ Ｋｇ／ｃｍ２であった。
ットプレスにょｐ得られる積層体を４７％弗化水素を水
で２倍ｒ（希釈した弗化水素酸中に５時間浸ｌｅｔ し
た後、該積層体を９００’Ｃに加ｐｓシ、次いで該積層
体のセラミックスＡ）〜上に炭酸銀を散布し、５分間そ
の温腿下に放置し′Ｃおくことにょシ、銀−セラミック
ス複合材料を得る。該複合材料の接着強度をめたところ
５５０ Ｋｇ／ｃｍ２であった。
ホットプレスによシ得らｎる積層体を弗化水素酸中に浸
漬しない以外は上記と同様にして銀−セラミックス複合
材料を得る。該複合材料の接着強度をめたところ４１５
Ｌｇ／ａｍ２であった。
漬しない以外は上記と同様にして銀−セラミックス複合
材料を得る。該複合材料の接着強度をめたところ４１５
Ｌｇ／ａｍ２であった。
（以上）
４２１
Claims (1)
- ■ 弗化水素、王水、硝酸、燐酸、硫酸及びフルオロヌ
ρホン酸からなる群から選ばれた少くとも１柿の酸を用
いてセラミックスの表面を酸処理し、次いで該セラミッ
クスと金属又はセラミックスとを接着させることを特徴
とするセラミックスの接着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15228283A JPS6046976A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | セラミツクスの接着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15228283A JPS6046976A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | セラミツクスの接着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6046976A true JPS6046976A (ja) | 1985-03-14 |
Family
ID=15537105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15228283A Pending JPS6046976A (ja) | 1983-08-19 | 1983-08-19 | セラミツクスの接着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6046976A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61270888A (ja) * | 1985-05-25 | 1986-12-01 | 松下電工株式会社 | セラミツク配線基板の製法 |
| JPS61271894A (ja) * | 1985-05-27 | 1986-12-02 | 松下電工株式会社 | セラミツクプリント配線用基板の製法 |
| JPS62264572A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-17 | Hitachi Ltd | β−アルミナ系固体電解質管の製造方法 |
| US5503704A (en) * | 1993-01-06 | 1996-04-02 | The Regents Of The University Of California | Nitrogen based low temperature direct bonding |
| US7927975B2 (en) | 2009-02-04 | 2011-04-19 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor material manufacture |
| CN103387377A (zh) * | 2013-07-17 | 2013-11-13 | 彭红 | 一种基于超大型蜂窝陶瓷载体拼接用的拼接泥 |
| WO2014031516A1 (en) * | 2012-08-21 | 2014-02-27 | Uop Llc | Methane conversion apparatus and process using a supersonic flow reactor |
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